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如何从案例学习专利布局思路?

案例 专利 思路
知产百科    2021-04-12    459

  日亚化学从一个不足200人的小公司,成长为世界知名的LED领导企业,核心专利和技术是其参与全球市场竞争的有力武器,对日亚化学围绕中村修二作为发明人的蓝光LED的专利布局进行分析,可以看出日亚化学在知识产权方面的重视和布局特点。因此,本期我们来看看日亚化学专利布局的几个特点。同时,本期最后,我们学习如何从过期专利中获取有用的信息。

  蓝光LED的制备是业界公认的技术难题,被认为是20世纪不可能完成的任务,谁也无法预料蓝光LED在什么时候能够真正实现,中村修二凭借执着使得难关一个个被攻破,日亚化学虽有动摇,但从1989年中村修二的第一件专利开始,直至1993年实现蓝光LED的量产期间,中村修二的发明专利申请达到了92件。如果没有“兵马未动,粮草先行”的提前布局意识,直至蓝光LED可预见成功时才匆忙进行专利申请,就会丧失时机,日亚化学作为一个小公司,既不能凭借蓝光LED的大量核心、基础专利频频向业界巨头发起诉讼,由此获取高额的专利许可费用,也不能垄断蓝光芯片的市场。

  蓝光LED的实现是一个集衬底技术、晶体生长、MOCVD设备、器件结构、电极材料与结构、欧姆接触、封装、切割等多方面技术为一体的研究,如果仅有单个或少数专利往往不能对蓝光LED及其基于蓝光LED的白光LED销售市场产生有效保护,也就不能形成有效的技术壁垒,中村修二的研究涵盖了蓝光LED制备的每一个技术点,日亚化学也对蓝光LED进行了多角度、全方位的专利布局,从而形成了竞争对手难以逾越的技术鸿沟。其专利申请所涉及的技术主题如图1所示。

  日亚化学大部分专利申请仅在本土布局,其中中村修二作为发明人的专利申请的多边申请为5%,换言之本土申请量则为95%。但是具体到蓝光LED技术,日亚化学却准确地在涉及实现蓝光LED的关键技术进行了海外布局,从一开始的Two-Flow设备、实现GaN膜的制备技术、PN结蓝光LED、双异质结蓝光LED等都在主要竞争市场,如欧洲、美国、韩国、中国台湾进行了专利布局,这些专利是标志性的成果,成为了日亚化学重点布局的对象。

  此外,日亚化学充分利用了分案申请、巴黎公约合案申请等规则,例如:关于欧姆接触的CN1102507A,在中国经过八次分案申请,从各种不同的角度,把整个申请文件中可能的技术方案都加以保护起来。

  案例提示

  通过这个案例告诉我们,掌握了行业前沿技术的企业,一定要注意提前布局,抢占先机;并且需要结合技术本身的特点,进行多维度保护;最后,还要考虑企业的成本问题,突出重点保护的技术。

  专利分析中少有人会对过期专利(也即保护期限已过,一般发明专利保护期限20年,实用新型专利保护期限10年)进行分析学习,笔者以中亚化学在蓝光LED领域中过期专利为例,为我们提供了一种新的学习思路。

  1。先明确过期专利的技术地位

  中心修二提出的蓝光LED的技术路径是一条完整的、能够使LED商品化的解决方案,属于LED的上游核心技术,是目前我国LED上游制造企业难以逾越的技术鸿沟;是日亚化学频频发起专利侵权诉讼的有力武器之一。

  2。过期专利对技术发展的影响

  首先,随着蓝光LED基础专利的20年有效期满,日亚化学将失去部分优势,消弱其在蓝光LED领域的垄断地位,降低我国企业面临的风险。

  其次,尽管实现蓝光LED的技术路径不是唯一的,也有其它业界巨头另辟蹊径,提出了不同的解决方案,但是我国企业目前还不具备这样的实力。从我国产业布局情况来看,封装、应用等中下游领域占据了主要份额,而在LED衬底、外延与芯片等上游领域则处于劣势。因此,当中村修二这条技术路径完全释放出来之后,有利于我国企业积极利用这些公知技术,站在日亚化学的“肩膀”上,对蓝光LED技术进行二次开发,作出更高起点的发明创造,开发出更具有实用性和前瞻性的专利;弥补我国在LED上游领域核心技术、核心专利方面的缺失。

  再有,有利于我国企业积极拓展海外市场。反观日亚化学早期的专利布局特点,针对于中村修二相关的专利申请,其进行多边申请的比例仅占5%,95%的专利申请都仅仅布局日本本土,可能是当时日亚化学没有能充分认识到某些专利技术的重要性,对这个行业可能的发展预估不足,由于专利的地域性,日亚化学不能在没有布局的地区和国家获得保护,从而也不能针对竞争对手提起诉讼,从而使得很大程度上制约了日亚化学利用“专利武器”在海外阻击竞争对手。比如日亚化学和首尔半导体之间的专利诉讼,除了进入韩国的专利可以作为武器在韩国提起诉讼,其他则只能针对首尔半导体出口到日本的产品,选择相关专利提起诉讼,2007年5月,日亚化学认为首尔半导体的白光Z-Power LEDP9侵犯了其发明专利JP3511970,JP2778349,在日本的大阪对首尔半导体提起侵权诉讼。这两篇专利均是中村修二的发明,具体涉及外延-结构-欧姆接触层。

  一方面因为中村修二的早期基础专利,包括“Two-Flow”外延方法,缓冲层技术、PN结LED、双异质结LED,GaN膜、InGaN膜的外延技术专利并没有进入中国;另一方面中村修二的大部分专利又被仅布局在日本本土,所以中国企业在芯片和外延技术上面临日亚的威胁主要是海外。现在这样的威胁被消弱了,则有利于企业进行海外市场的拓展。

  最后,LED领域的核心专利面临失效是我国LED业界所期待的,但是也应该注意到日亚化学是一个注重技术研发和专利布局的LED领导企业,其善于运用专利战略,所具有的专利布局意识是我国企业所欠缺的,围绕这些核心专利的过期,日亚化学肯定有自己的“补救”措施,一方面进行技术更新,继续抢占先机,垄断市场;另一方面继续布局大量外围专利,形成新的技术壁垒。除了日亚化学之外,LED领域的其他企业,特别是五大巨头,他们也拥有诸多核心技术,进行了相当数量的专利布局,如果不能在技术上有所创新,形成具有一定数量的核心专利技术,我国LED企业将继续沿袭“缺乏核心技术、核心专利,受制与人”的不利境地。

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