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专利简介
本发明属于集成电路半导体制造技术领域,涉及一种电子束和多重图案光刻混合工艺中版图图案分解方法,该方法将最小化电子束使用面积和缝合点数目的版图图案分解问题表示成删点K划分问题。所述方法包括步骤:根据输入版图文件和冲突距离B,构建冲突图G;然后随机产生删点K划分初始解,应用已有的删点两划分算法对当前最优解重复迭代优化,直到当前最优解若干次未发生更新;最后从中挑选最优的删点K划分结果作为输出。本发明迭代应用已有的删点两划分算法,并采用随机多起始点策略试图寻找全局最优解,达到电子束和多重图案混合刻蚀工艺中版图图案分解的目的。
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温馨提示
此专利适用于积分落户、高企申报、中考加分、自主招生申报、获得大学学分。