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光刻机精密测量关键器件及其应用

光刻机精密测量 / 电子信息

其他电子信息
预算:面议 广东 中山 截止时间:7173-19-78 需求方:中***********
需求无效
需求描述

光刻机的制造精度由光刻工件台的定位精度所决定,高精度定位 工作台是光刻机的关键部件。二维平面光栅已经成功应用在了半导体设备中,荷兰光刻设备商 ASML 公司采用了二维平面光栅进行位移测量,将加工误差由 4.8nm 降低到 2.5nm。但国内无法制造出满足光刻机应用的二维平面光栅,是我国下一代光刻机研发的最大短板。二维光栅制造流程复杂,包含了基片加工、清洗、镀膜、匀胶、光刻、显影、刻蚀等十几道加工工艺,任何一个环节的失误都将导致光栅性能的降低,并影响其在光刻机中高精度定位的应用,因此是一项挑战跨尺度加工极限的制造技术。本中心瞄准高端光刻机精密测量特殊要求,开展大尺寸二维平面光栅设计、加工以及应用的系统化研究,解决大尺寸、高精度光栅制备的基础科学和工程问题,为光刻机提供关键核心部件。主要研究基于达曼元件分束的大尺寸光栅激光直写设备的研制,同时结合高端光刻机精密测量需求,进行相关的光栅设计,工艺流程优化,最后制备出大尺寸光栅样品并进行应用实验研究和性能评估,在所研制的光刻机上实现应用

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