找到33项技术成果数据。
找技术 >可聚合功能高分子材料–节能环保LED 光聚合油墨
成熟度:可规模生产
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
项目简介高分子材料经过多年的发展已经在各行各业得到显著的应用。在高分子材料领域中可聚合(包括热聚合、光聚合、氧化还原聚合、缩合等)材料在微纳米加工,刻蚀,油墨印刷,PCB电路板、液晶显示、OLED、3D打印等领域中的应用是高分子领域中的一大类重要应用范畴。然而在当前包括集成电路在内的高端制造行业发展中,关键材料和技术主要由国外企业掌控。且国内光刻胶受益于半导体产业转移及国内电子化学品的迅速发展,需求增速远高于全球,但产品种类还有限和质量还没有完全达到国际先进水平。这些材料的高消耗性,以及配方保密性,使得相关制造企业对这种耗材产生了严重的依赖,尤其是高质量高等级的进口光刻材料。这些耗材价格昂贵,且需要大量使用,这样使得国内相关制造行业的很多企业利润不断的被压缩,而国外提供此类耗材的公司则在中国攫取了巨额的利润,因此核心光刻材料及相关配方的国产化自主研制迫在眉睫。{{内容图1}}技术优势已成功研制出多种可光聚合的性能优异的材料,适合于应用到PCB电路板印刷中,尤其材料可以利用LED光源聚合。已经成功研制利用405纳米LED光源聚合的油墨。由于LED发热少,对于塑膜等耐热性差的承印材料的印刷以及印刷机的热影响小,只需对印刷精度稍作调整即可,纸张损耗随之减少。另外LED光源元件与紫外线灯(一般波长为365纳米)相比寿命约为其12倍,光源更换频度大幅降低,器材耗用随之减少。再者LED可做到瞬间开启或关闭,无需UV灯方式所必须的预热及降温时间,作业效率得到提高。因此LED光聚合油墨是节能环保型。而传统的利用紫外光源的(UV)聚合的油墨虽在广泛应用中,但由于UV油墨的光源普通采用高压汞灯,其最强的波长为365nm。多年的应用结果表明UV固化技术是一项高效、节能、经济、适用性广而且环境友好的技术。但也存在一些缺点:1、UV汞灯的使用寿命有限。2、UV汞灯的能耗较大,有效利用的能量不高,输入能量中只有大约20%的能量产生紫外线,而有20%是可见能源40%是热量,不适应于热敏材料。3、虽然UV汞灯性对于溶剂型油墨来说,没有VOC排放而具有环保环境友好的特点。但也存在一些隐性的污染。例如汞灯的高压、高温和强辐射,很容易使周围的氧气分子发生化学反应而产生臭氧。而臭氧不但对大气层有不利影响,而且对身体健康也具有较大的影响。因此开发可以LED光源聚合的材料(这里统称为LED油墨)具有重要意义,并已经在国际、国内油墨行业中得到广泛的重视。越来越多的油墨采用LED光聚合。市场现状尽管全球的印刷油墨销售量主要集中在发达国家印前工艺,但是发展中国家对拉动印刷油墨销售量的力度也不容忽视。在亚太地区,特别在中国和印度,是印刷油墨需求量上涨最快的国家,该地区复合年均增长率已经达5.5%。出版和商业印刷市场在亚洲地区增幅最快,表现最为突出的国家同样也是在中国及印度。据全球工业数据分析(GIA)研究机构最新发布的一项研究报告显示:受环保油墨备受市场青睐色序,UV、LED、喷墨墨水等新市场兴起等因素影响,预计到2017年全球印刷油墨市场值将达到182亿美元。
一种紫外线吸附材料(THBP)的制备
成熟度:通过中试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
项目简介: 2, 3, 4, 4'-四羟基二苯甲酮 ( 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenone,简称THBP)是一种常用的紫外线吸收剂,作为紫外线正型光刻胶的导入剂,在TFT-LCD液晶显示器产业链生产中,主要用于混配PAC感光剂生产高感光度高分辨率的高档光刻胶。由于TFT-LCD显示技术具有一系列突出的优点,其产品几乎涵盖整个信息应用领域,包括电视、台式计算机、笔记本电脑、手机、PDA、GPS、仪器仪表和公共显示等,具有巨大的市场潜力。 本项目以五倍子生物资源为原料,利用已有的焦性没食子酸生产工艺,采用多级净化工艺及去离子技术,开发一条年产TFT-LCD光刻胶用感光剂2,3,4,4-四羟基二苯甲酮200吨生产能力的工艺。该工艺的成功开发,既可以促进国内五倍子的精深加工研究开发,更重要的是可以打破发达国家对我国集成电路、平板显示产业上游原料感光材料的技术控制,并促进我国集成电路与液晶显示高档光刻胶的生产,减少光刻胶的依赖进口,提高产业链关键配套材料的国产化率,形成基于我国特色生物化工资源五倍子的感光材料产业分枝链,解决我国TFT-LCD产业扩张急需的关键材料PAC感光剂生产。 该项目目前优化了反应条件,已完成了实验室的小试工艺,正在进行逐级放大,有望一年以内进行产业化。
一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:信息传输、软件和信息技术服务业
技术简介
一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统,涉及光子晶体阵列结构。提供一种结构简单、可操作性强、可获得三维密排晶体阵列结构的制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统。从左至右依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;所述激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板设于同一光轴上,激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生4束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的中央出光口之后,4束光重叠干涉在光刻胶板上,在光刻胶板上对4束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经过显影的流程即可得到拥有三维密排晶格阵列结构的光子晶体。
一种仿壁虎脚微纳分级结构及其制造工艺
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
摘要:本发明公开了一种用于仿壁虎脚微纳分级结构的制造工艺,包括:S1、使用LPCVD设备在洁净的硅片上热生长一层SiO2薄膜;S2、在有SiO2层的硅片表面旋涂光刻胶并进行光刻,制备出圆孔阵列图形;S3、使用缓冲氢氟酸溶液对暴露出的SiO2进行刻蚀,将光刻胶上的图形转移到SiO2层;S4、在样品表面镀一层Cu膜;S5、在丙酮或乙醇中进行超声,通过溶脱剥离工艺去除表面的光刻胶及光刻胶表面的Cu;S6、利用CVD-VLS生长工艺,以上述工艺制备的Cu为催化剂,以SiCl4为硅源,以H2为载气,生长Si微米线阵列;S7、在硅线表面镀一层Cu膜;S8、利用CVD-VLS生长工艺,以S7制备的Cu膜为催化剂,以SiCl4为硅源,以H2为载气,在Si微米线表面生长Si纳米线。本发明提供的微纳分级结构中Si微米线的表面分布有Si纳米线,即一种仿壁虎脚微纳分级结构,为干性黏附材料的设计与制造提供了一种解决方案。
制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明提出了制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用。该制备高精度图案化的量子点发光层的方法包括:(1)在衬底的一侧涂布反转光刻胶,并对反转光刻胶进行光刻处理,以便形成纵截面为倒梯形的镂空图案;(2)对镂空图案处的衬底进行疏水处理,并沉积量子点薄膜;(3)对量子点薄膜进行交联处理;(4)剥离反转光刻胶。本发明所提出的制备方法,使用反转光刻胶后,可使得显影后光刻胶的纵截面为倒梯形结构,如此能使光刻胶更易被剥离,从而使量子点发光层图形的精度更高,进而使制备量子点发光层图形方法的良品率显著提高。
一种纳米压印光刻胶及其制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种纳米压印光刻胶及其制备方法;其中,纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分:有机小分子溶剂65~97%,树脂1~30%,氟化石墨及其衍生物0.01~5%,表面活性剂0.01~5%和添加剂0~1%。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物,因氟化石墨及其衍生物具有低表面能,从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷,模板损坏等问题。
鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶的应用
成熟度:-
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明公开了一种鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶的应用。 本发明以从自然界能够广泛获取的鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶,避免了传统光刻胶在人工合成时造成的环境污染,薄膜粗糙度低,厚度可控,易实现大面积制备,且其具有较好的紫外、电子束敏感度,可用紫外、电子束方式曝光,曝光之后仅需用水显影,对环境无污染,显影效果较好; 其同时还具有良好的抗刻蚀性能,在刻蚀后可选用胰蛋白酶溶液去胶。
一种在微电子或光电子芯片上的光刻胶沉积的方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
本发明涉及一种在微电子或光电子芯片上的光刻胶沉积的方法,这种方法包括以下步骤:首先选取与芯片(4)厚度一致的基片(1),在基片(1)上沉积硬掩膜层(2)和光刻胶(3),用芯片(4)作为掩膜,光刻出中央开口的图形;腐蚀形成第一通孔(6),深刻蚀得到第二通孔(7);接着将光刻胶(3)和硬掩膜层(2)去除,得到甩胶套(8);然后将芯片(4)放入甩胶套(8)的第二通孔(7),甩胶套(8)固定在支撑薄膜(9)上,支持薄膜(9)固定在甩胶机上;将光刻胶(10)滴在芯片(4)表面进行甩胶,得到芯片表面厚度均匀的光刻胶(11)。该技术能够有效减少光刻胶边的厚度,提高芯片面积的利用率,并增加后续工艺的完整性。
一种超疏水凹角T状微柱结构的制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
摘要:本发明公开了一种超疏水凹角T状微柱结构的制备方法,包括:(a)在基片的一个表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第一圆孔阵列;(b)在基片含光刻胶表面依次沉积粘附层和种子层;(c)在种子层表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第二圆孔阵列;(d)同时对第一圆孔阵列和第二圆孔阵列进行电镀填充,得到金属的T状微柱结构;(e)去除光刻胶及多余粘附层和种子层;(f)在T状微柱表面沉积一层保护层;(g)去除微柱T状结构的横状伸出部分并保留柱状结构和保护层,得到一种凹角T状微柱结构。按照本发明的制造方法,能非常可控地制备不同尺度的目标结构,工艺窗口宽,重复性好,化学稳定性高,同时拥有优异的超疏水性、自清洁能力。
超声雾化喷嘴及其喷涂装备
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
成果简介: 本技术主要用于光刻胶喷涂等高价值高分子材料薄膜生成工艺,旨在解决高分子材料薄膜均匀性问题。主要成果形式:1. 超声雾化喷嘴;2. 超声雾化喷涂设备。可根据不同生产现场需求,进行针对性设计和制作。技术优势: 喷胶喷嘴主要用于实现光刻胶喷涂的均匀性,其技术主要采用超声雾化喷嘴,该技术被美国 Seno-tek 等公司掌握。要突破此技术主要需攻克 3 方面的难点:1. 突破超声雾化喷嘴振动系统的设计方法和制造技术。2. 突破雾化光刻胶液滴在载气作用下的雾锥特性和光刻胶雾化液滴的输运流模型。3. 弄清光刻胶雾化雾锥特性、工艺参数等因素与膜厚均匀性的影响关系,指导光刻胶薄膜制备工艺。性能指标: 1. 喷嘴的谐振频率可达 120KHz。2. 光刻胶液滴长度平均粒径 18μm,膜厚均匀性±3%。市场分析: 喷嘴及其设备主要用于均匀性要求高的高分子薄膜工艺,如芯片的涂胶工艺、太阳能薄膜、MEMS 微结构等。成果亮点: 1. 具有自主知识产权。2. 成果来源:国家 02 专项、企业需求。3. 技术先进性:行业先进,本技术已应用于生产企业。
找到33项技术成果数据。
找技术 >可聚合功能高分子材料–节能环保LED 光聚合油墨
成熟度:可规模生产
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
项目简介高分子材料经过多年的发展已经在各行各业得到显著的应用。在高分子材料领域中可聚合(包括热聚合、光聚合、氧化还原聚合、缩合等)材料在微纳米加工,刻蚀,油墨印刷,PCB电路板、液晶显示、OLED、3D打印等领域中的应用是高分子领域中的一大类重要应用范畴。然而在当前包括集成电路在内的高端制造行业发展中,关键材料和技术主要由国外企业掌控。且国内光刻胶受益于半导体产业转移及国内电子化学品的迅速发展,需求增速远高于全球,但产品种类还有限和质量还没有完全达到国际先进水平。这些材料的高消耗性,以及配方保密性,使得相关制造企业对这种耗材产生了严重的依赖,尤其是高质量高等级的进口光刻材料。这些耗材价格昂贵,且需要大量使用,这样使得国内相关制造行业的很多企业利润不断的被压缩,而国外提供此类耗材的公司则在中国攫取了巨额的利润,因此核心光刻材料及相关配方的国产化自主研制迫在眉睫。{{内容图1}}技术优势已成功研制出多种可光聚合的性能优异的材料,适合于应用到PCB电路板印刷中,尤其材料可以利用LED光源聚合。已经成功研制利用405纳米LED光源聚合的油墨。由于LED发热少,对于塑膜等耐热性差的承印材料的印刷以及印刷机的热影响小,只需对印刷精度稍作调整即可,纸张损耗随之减少。另外LED光源元件与紫外线灯(一般波长为365纳米)相比寿命约为其12倍,光源更换频度大幅降低,器材耗用随之减少。再者LED可做到瞬间开启或关闭,无需UV灯方式所必须的预热及降温时间,作业效率得到提高。因此LED光聚合油墨是节能环保型。而传统的利用紫外光源的(UV)聚合的油墨虽在广泛应用中,但由于UV油墨的光源普通采用高压汞灯,其最强的波长为365nm。多年的应用结果表明UV固化技术是一项高效、节能、经济、适用性广而且环境友好的技术。但也存在一些缺点:1、UV汞灯的使用寿命有限。2、UV汞灯的能耗较大,有效利用的能量不高,输入能量中只有大约20%的能量产生紫外线,而有20%是可见能源40%是热量,不适应于热敏材料。3、虽然UV汞灯性对于溶剂型油墨来说,没有VOC排放而具有环保环境友好的特点。但也存在一些隐性的污染。例如汞灯的高压、高温和强辐射,很容易使周围的氧气分子发生化学反应而产生臭氧。而臭氧不但对大气层有不利影响,而且对身体健康也具有较大的影响。因此开发可以LED光源聚合的材料(这里统称为LED油墨)具有重要意义,并已经在国际、国内油墨行业中得到广泛的重视。越来越多的油墨采用LED光聚合。市场现状尽管全球的印刷油墨销售量主要集中在发达国家印前工艺,但是发展中国家对拉动印刷油墨销售量的力度也不容忽视。在亚太地区,特别在中国和印度,是印刷油墨需求量上涨最快的国家,该地区复合年均增长率已经达5.5%。出版和商业印刷市场在亚洲地区增幅最快,表现最为突出的国家同样也是在中国及印度。据全球工业数据分析(GIA)研究机构最新发布的一项研究报告显示:受环保油墨备受市场青睐色序,UV、LED、喷墨墨水等新市场兴起等因素影响,预计到2017年全球印刷油墨市场值将达到182亿美元。
一种紫外线吸附材料(THBP)的制备
成熟度:通过中试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
项目简介: 2, 3, 4, 4'-四羟基二苯甲酮 ( 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenone,简称THBP)是一种常用的紫外线吸收剂,作为紫外线正型光刻胶的导入剂,在TFT-LCD液晶显示器产业链生产中,主要用于混配PAC感光剂生产高感光度高分辨率的高档光刻胶。由于TFT-LCD显示技术具有一系列突出的优点,其产品几乎涵盖整个信息应用领域,包括电视、台式计算机、笔记本电脑、手机、PDA、GPS、仪器仪表和公共显示等,具有巨大的市场潜力。 本项目以五倍子生物资源为原料,利用已有的焦性没食子酸生产工艺,采用多级净化工艺及去离子技术,开发一条年产TFT-LCD光刻胶用感光剂2,3,4,4-四羟基二苯甲酮200吨生产能力的工艺。该工艺的成功开发,既可以促进国内五倍子的精深加工研究开发,更重要的是可以打破发达国家对我国集成电路、平板显示产业上游原料感光材料的技术控制,并促进我国集成电路与液晶显示高档光刻胶的生产,减少光刻胶的依赖进口,提高产业链关键配套材料的国产化率,形成基于我国特色生物化工资源五倍子的感光材料产业分枝链,解决我国TFT-LCD产业扩张急需的关键材料PAC感光剂生产。 该项目目前优化了反应条件,已完成了实验室的小试工艺,正在进行逐级放大,有望一年以内进行产业化。
一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:信息传输、软件和信息技术服务业
技术简介
一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统,涉及光子晶体阵列结构。提供一种结构简单、可操作性强、可获得三维密排晶体阵列结构的制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统。从左至右依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;所述激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板设于同一光轴上,激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生4束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的中央出光口之后,4束光重叠干涉在光刻胶板上,在光刻胶板上对4束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经过显影的流程即可得到拥有三维密排晶格阵列结构的光子晶体。
一种仿壁虎脚微纳分级结构及其制造工艺
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
摘要:本发明公开了一种用于仿壁虎脚微纳分级结构的制造工艺,包括:S1、使用LPCVD设备在洁净的硅片上热生长一层SiO2薄膜;S2、在有SiO2层的硅片表面旋涂光刻胶并进行光刻,制备出圆孔阵列图形;S3、使用缓冲氢氟酸溶液对暴露出的SiO2进行刻蚀,将光刻胶上的图形转移到SiO2层;S4、在样品表面镀一层Cu膜;S5、在丙酮或乙醇中进行超声,通过溶脱剥离工艺去除表面的光刻胶及光刻胶表面的Cu;S6、利用CVD-VLS生长工艺,以上述工艺制备的Cu为催化剂,以SiCl4为硅源,以H2为载气,生长Si微米线阵列;S7、在硅线表面镀一层Cu膜;S8、利用CVD-VLS生长工艺,以S7制备的Cu膜为催化剂,以SiCl4为硅源,以H2为载气,在Si微米线表面生长Si纳米线。本发明提供的微纳分级结构中Si微米线的表面分布有Si纳米线,即一种仿壁虎脚微纳分级结构,为干性黏附材料的设计与制造提供了一种解决方案。
制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明提出了制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用。该制备高精度图案化的量子点发光层的方法包括:(1)在衬底的一侧涂布反转光刻胶,并对反转光刻胶进行光刻处理,以便形成纵截面为倒梯形的镂空图案;(2)对镂空图案处的衬底进行疏水处理,并沉积量子点薄膜;(3)对量子点薄膜进行交联处理;(4)剥离反转光刻胶。本发明所提出的制备方法,使用反转光刻胶后,可使得显影后光刻胶的纵截面为倒梯形结构,如此能使光刻胶更易被剥离,从而使量子点发光层图形的精度更高,进而使制备量子点发光层图形方法的良品率显著提高。
一种纳米压印光刻胶及其制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种纳米压印光刻胶及其制备方法;其中,纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分:有机小分子溶剂65~97%,树脂1~30%,氟化石墨及其衍生物0.01~5%,表面活性剂0.01~5%和添加剂0~1%。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物,因氟化石墨及其衍生物具有低表面能,从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷,模板损坏等问题。
鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶的应用
成熟度:-
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明公开了一种鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶的应用。 本发明以从自然界能够广泛获取的鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶,避免了传统光刻胶在人工合成时造成的环境污染,薄膜粗糙度低,厚度可控,易实现大面积制备,且其具有较好的紫外、电子束敏感度,可用紫外、电子束方式曝光,曝光之后仅需用水显影,对环境无污染,显影效果较好; 其同时还具有良好的抗刻蚀性能,在刻蚀后可选用胰蛋白酶溶液去胶。
一种在微电子或光电子芯片上的光刻胶沉积的方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
本发明涉及一种在微电子或光电子芯片上的光刻胶沉积的方法,这种方法包括以下步骤:首先选取与芯片(4)厚度一致的基片(1),在基片(1)上沉积硬掩膜层(2)和光刻胶(3),用芯片(4)作为掩膜,光刻出中央开口的图形;腐蚀形成第一通孔(6),深刻蚀得到第二通孔(7);接着将光刻胶(3)和硬掩膜层(2)去除,得到甩胶套(8);然后将芯片(4)放入甩胶套(8)的第二通孔(7),甩胶套(8)固定在支撑薄膜(9)上,支持薄膜(9)固定在甩胶机上;将光刻胶(10)滴在芯片(4)表面进行甩胶,得到芯片表面厚度均匀的光刻胶(11)。该技术能够有效减少光刻胶边的厚度,提高芯片面积的利用率,并增加后续工艺的完整性。
一种超疏水凹角T状微柱结构的制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
摘要:本发明公开了一种超疏水凹角T状微柱结构的制备方法,包括:(a)在基片的一个表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第一圆孔阵列;(b)在基片含光刻胶表面依次沉积粘附层和种子层;(c)在种子层表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第二圆孔阵列;(d)同时对第一圆孔阵列和第二圆孔阵列进行电镀填充,得到金属的T状微柱结构;(e)去除光刻胶及多余粘附层和种子层;(f)在T状微柱表面沉积一层保护层;(g)去除微柱T状结构的横状伸出部分并保留柱状结构和保护层,得到一种凹角T状微柱结构。按照本发明的制造方法,能非常可控地制备不同尺度的目标结构,工艺窗口宽,重复性好,化学稳定性高,同时拥有优异的超疏水性、自清洁能力。
超声雾化喷嘴及其喷涂装备
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
成果简介: 本技术主要用于光刻胶喷涂等高价值高分子材料薄膜生成工艺,旨在解决高分子材料薄膜均匀性问题。主要成果形式:1. 超声雾化喷嘴;2. 超声雾化喷涂设备。可根据不同生产现场需求,进行针对性设计和制作。技术优势: 喷胶喷嘴主要用于实现光刻胶喷涂的均匀性,其技术主要采用超声雾化喷嘴,该技术被美国 Seno-tek 等公司掌握。要突破此技术主要需攻克 3 方面的难点:1. 突破超声雾化喷嘴振动系统的设计方法和制造技术。2. 突破雾化光刻胶液滴在载气作用下的雾锥特性和光刻胶雾化液滴的输运流模型。3. 弄清光刻胶雾化雾锥特性、工艺参数等因素与膜厚均匀性的影响关系,指导光刻胶薄膜制备工艺。性能指标: 1. 喷嘴的谐振频率可达 120KHz。2. 光刻胶液滴长度平均粒径 18μm,膜厚均匀性±3%。市场分析: 喷嘴及其设备主要用于均匀性要求高的高分子薄膜工艺,如芯片的涂胶工艺、太阳能薄膜、MEMS 微结构等。成果亮点: 1. 具有自主知识产权。2. 成果来源:国家 02 专项、企业需求。3. 技术先进性:行业先进,本技术已应用于生产企业。
找到33项技术成果数据。
找技术 >可聚合功能高分子材料–节能环保LED 光聚合油墨
成熟度:可规模生产
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
项目简介高分子材料经过多年的发展已经在各行各业得到显著的应用。在高分子材料领域中可聚合(包括热聚合、光聚合、氧化还原聚合、缩合等)材料在微纳米加工,刻蚀,油墨印刷,PCB电路板、液晶显示、OLED、3D打印等领域中的应用是高分子领域中的一大类重要应用范畴。然而在当前包括集成电路在内的高端制造行业发展中,关键材料和技术主要由国外企业掌控。且国内光刻胶受益于半导体产业转移及国内电子化学品的迅速发展,需求增速远高于全球,但产品种类还有限和质量还没有完全达到国际先进水平。这些材料的高消耗性,以及配方保密性,使得相关制造企业对这种耗材产生了严重的依赖,尤其是高质量高等级的进口光刻材料。这些耗材价格昂贵,且需要大量使用,这样使得国内相关制造行业的很多企业利润不断的被压缩,而国外提供此类耗材的公司则在中国攫取了巨额的利润,因此核心光刻材料及相关配方的国产化自主研制迫在眉睫。{{内容图1}}技术优势已成功研制出多种可光聚合的性能优异的材料,适合于应用到PCB电路板印刷中,尤其材料可以利用LED光源聚合。已经成功研制利用405纳米LED光源聚合的油墨。由于LED发热少,对于塑膜等耐热性差的承印材料的印刷以及印刷机的热影响小,只需对印刷精度稍作调整即可,纸张损耗随之减少。另外LED光源元件与紫外线灯(一般波长为365纳米)相比寿命约为其12倍,光源更换频度大幅降低,器材耗用随之减少。再者LED可做到瞬间开启或关闭,无需UV灯方式所必须的预热及降温时间,作业效率得到提高。因此LED光聚合油墨是节能环保型。而传统的利用紫外光源的(UV)聚合的油墨虽在广泛应用中,但由于UV油墨的光源普通采用高压汞灯,其最强的波长为365nm。多年的应用结果表明UV固化技术是一项高效、节能、经济、适用性广而且环境友好的技术。但也存在一些缺点:1、UV汞灯的使用寿命有限。2、UV汞灯的能耗较大,有效利用的能量不高,输入能量中只有大约20%的能量产生紫外线,而有20%是可见能源40%是热量,不适应于热敏材料。3、虽然UV汞灯性对于溶剂型油墨来说,没有VOC排放而具有环保环境友好的特点。但也存在一些隐性的污染。例如汞灯的高压、高温和强辐射,很容易使周围的氧气分子发生化学反应而产生臭氧。而臭氧不但对大气层有不利影响,而且对身体健康也具有较大的影响。因此开发可以LED光源聚合的材料(这里统称为LED油墨)具有重要意义,并已经在国际、国内油墨行业中得到广泛的重视。越来越多的油墨采用LED光聚合。市场现状尽管全球的印刷油墨销售量主要集中在发达国家印前工艺,但是发展中国家对拉动印刷油墨销售量的力度也不容忽视。在亚太地区,特别在中国和印度,是印刷油墨需求量上涨最快的国家,该地区复合年均增长率已经达5.5%。出版和商业印刷市场在亚洲地区增幅最快,表现最为突出的国家同样也是在中国及印度。据全球工业数据分析(GIA)研究机构最新发布的一项研究报告显示:受环保油墨备受市场青睐色序,UV、LED、喷墨墨水等新市场兴起等因素影响,预计到2017年全球印刷油墨市场值将达到182亿美元。
一种紫外线吸附材料(THBP)的制备
成熟度:通过中试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
项目简介: 2, 3, 4, 4'-四羟基二苯甲酮 ( 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenone,简称THBP)是一种常用的紫外线吸收剂,作为紫外线正型光刻胶的导入剂,在TFT-LCD液晶显示器产业链生产中,主要用于混配PAC感光剂生产高感光度高分辨率的高档光刻胶。由于TFT-LCD显示技术具有一系列突出的优点,其产品几乎涵盖整个信息应用领域,包括电视、台式计算机、笔记本电脑、手机、PDA、GPS、仪器仪表和公共显示等,具有巨大的市场潜力。 本项目以五倍子生物资源为原料,利用已有的焦性没食子酸生产工艺,采用多级净化工艺及去离子技术,开发一条年产TFT-LCD光刻胶用感光剂2,3,4,4-四羟基二苯甲酮200吨生产能力的工艺。该工艺的成功开发,既可以促进国内五倍子的精深加工研究开发,更重要的是可以打破发达国家对我国集成电路、平板显示产业上游原料感光材料的技术控制,并促进我国集成电路与液晶显示高档光刻胶的生产,减少光刻胶的依赖进口,提高产业链关键配套材料的国产化率,形成基于我国特色生物化工资源五倍子的感光材料产业分枝链,解决我国TFT-LCD产业扩张急需的关键材料PAC感光剂生产。 该项目目前优化了反应条件,已完成了实验室的小试工艺,正在进行逐级放大,有望一年以内进行产业化。
一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:信息传输、软件和信息技术服务业
技术简介
一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统,涉及光子晶体阵列结构。提供一种结构简单、可操作性强、可获得三维密排晶体阵列结构的制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统。从左至右依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;所述激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板设于同一光轴上,激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生4束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的中央出光口之后,4束光重叠干涉在光刻胶板上,在光刻胶板上对4束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经过显影的流程即可得到拥有三维密排晶格阵列结构的光子晶体。
一种仿壁虎脚微纳分级结构及其制造工艺
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
摘要:本发明公开了一种用于仿壁虎脚微纳分级结构的制造工艺,包括:S1、使用LPCVD设备在洁净的硅片上热生长一层SiO2薄膜;S2、在有SiO2层的硅片表面旋涂光刻胶并进行光刻,制备出圆孔阵列图形;S3、使用缓冲氢氟酸溶液对暴露出的SiO2进行刻蚀,将光刻胶上的图形转移到SiO2层;S4、在样品表面镀一层Cu膜;S5、在丙酮或乙醇中进行超声,通过溶脱剥离工艺去除表面的光刻胶及光刻胶表面的Cu;S6、利用CVD-VLS生长工艺,以上述工艺制备的Cu为催化剂,以SiCl4为硅源,以H2为载气,生长Si微米线阵列;S7、在硅线表面镀一层Cu膜;S8、利用CVD-VLS生长工艺,以S7制备的Cu膜为催化剂,以SiCl4为硅源,以H2为载气,在Si微米线表面生长Si纳米线。本发明提供的微纳分级结构中Si微米线的表面分布有Si纳米线,即一种仿壁虎脚微纳分级结构,为干性黏附材料的设计与制造提供了一种解决方案。
制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明提出了制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用。该制备高精度图案化的量子点发光层的方法包括:(1)在衬底的一侧涂布反转光刻胶,并对反转光刻胶进行光刻处理,以便形成纵截面为倒梯形的镂空图案;(2)对镂空图案处的衬底进行疏水处理,并沉积量子点薄膜;(3)对量子点薄膜进行交联处理;(4)剥离反转光刻胶。本发明所提出的制备方法,使用反转光刻胶后,可使得显影后光刻胶的纵截面为倒梯形结构,如此能使光刻胶更易被剥离,从而使量子点发光层图形的精度更高,进而使制备量子点发光层图形方法的良品率显著提高。
一种纳米压印光刻胶及其制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种纳米压印光刻胶及其制备方法;其中,纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分:有机小分子溶剂65~97%,树脂1~30%,氟化石墨及其衍生物0.01~5%,表面活性剂0.01~5%和添加剂0~1%。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物,因氟化石墨及其衍生物具有低表面能,从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷,模板损坏等问题。
鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶的应用
成熟度:-
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明公开了一种鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶的应用。 本发明以从自然界能够广泛获取的鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶,避免了传统光刻胶在人工合成时造成的环境污染,薄膜粗糙度低,厚度可控,易实现大面积制备,且其具有较好的紫外、电子束敏感度,可用紫外、电子束方式曝光,曝光之后仅需用水显影,对环境无污染,显影效果较好; 其同时还具有良好的抗刻蚀性能,在刻蚀后可选用胰蛋白酶溶液去胶。
一种在微电子或光电子芯片上的光刻胶沉积的方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
本发明涉及一种在微电子或光电子芯片上的光刻胶沉积的方法,这种方法包括以下步骤:首先选取与芯片(4)厚度一致的基片(1),在基片(1)上沉积硬掩膜层(2)和光刻胶(3),用芯片(4)作为掩膜,光刻出中央开口的图形;腐蚀形成第一通孔(6),深刻蚀得到第二通孔(7);接着将光刻胶(3)和硬掩膜层(2)去除,得到甩胶套(8);然后将芯片(4)放入甩胶套(8)的第二通孔(7),甩胶套(8)固定在支撑薄膜(9)上,支持薄膜(9)固定在甩胶机上;将光刻胶(10)滴在芯片(4)表面进行甩胶,得到芯片表面厚度均匀的光刻胶(11)。该技术能够有效减少光刻胶边的厚度,提高芯片面积的利用率,并增加后续工艺的完整性。
一种超疏水凹角T状微柱结构的制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
摘要:本发明公开了一种超疏水凹角T状微柱结构的制备方法,包括:(a)在基片的一个表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第一圆孔阵列;(b)在基片含光刻胶表面依次沉积粘附层和种子层;(c)在种子层表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第二圆孔阵列;(d)同时对第一圆孔阵列和第二圆孔阵列进行电镀填充,得到金属的T状微柱结构;(e)去除光刻胶及多余粘附层和种子层;(f)在T状微柱表面沉积一层保护层;(g)去除微柱T状结构的横状伸出部分并保留柱状结构和保护层,得到一种凹角T状微柱结构。按照本发明的制造方法,能非常可控地制备不同尺度的目标结构,工艺窗口宽,重复性好,化学稳定性高,同时拥有优异的超疏水性、自清洁能力。
超声雾化喷嘴及其喷涂装备
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
成果简介: 本技术主要用于光刻胶喷涂等高价值高分子材料薄膜生成工艺,旨在解决高分子材料薄膜均匀性问题。主要成果形式:1. 超声雾化喷嘴;2. 超声雾化喷涂设备。可根据不同生产现场需求,进行针对性设计和制作。技术优势: 喷胶喷嘴主要用于实现光刻胶喷涂的均匀性,其技术主要采用超声雾化喷嘴,该技术被美国 Seno-tek 等公司掌握。要突破此技术主要需攻克 3 方面的难点:1. 突破超声雾化喷嘴振动系统的设计方法和制造技术。2. 突破雾化光刻胶液滴在载气作用下的雾锥特性和光刻胶雾化液滴的输运流模型。3. 弄清光刻胶雾化雾锥特性、工艺参数等因素与膜厚均匀性的影响关系,指导光刻胶薄膜制备工艺。性能指标: 1. 喷嘴的谐振频率可达 120KHz。2. 光刻胶液滴长度平均粒径 18μm,膜厚均匀性±3%。市场分析: 喷嘴及其设备主要用于均匀性要求高的高分子薄膜工艺,如芯片的涂胶工艺、太阳能薄膜、MEMS 微结构等。成果亮点: 1. 具有自主知识产权。2. 成果来源:国家 02 专项、企业需求。3. 技术先进性:行业先进,本技术已应用于生产企业。
找到33项技术成果数据。
找技术 >可聚合功能高分子材料–节能环保LED 光聚合油墨
成熟度:可规模生产
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
项目简介高分子材料经过多年的发展已经在各行各业得到显著的应用。在高分子材料领域中可聚合(包括热聚合、光聚合、氧化还原聚合、缩合等)材料在微纳米加工,刻蚀,油墨印刷,PCB电路板、液晶显示、OLED、3D打印等领域中的应用是高分子领域中的一大类重要应用范畴。然而在当前包括集成电路在内的高端制造行业发展中,关键材料和技术主要由国外企业掌控。且国内光刻胶受益于半导体产业转移及国内电子化学品的迅速发展,需求增速远高于全球,但产品种类还有限和质量还没有完全达到国际先进水平。这些材料的高消耗性,以及配方保密性,使得相关制造企业对这种耗材产生了严重的依赖,尤其是高质量高等级的进口光刻材料。这些耗材价格昂贵,且需要大量使用,这样使得国内相关制造行业的很多企业利润不断的被压缩,而国外提供此类耗材的公司则在中国攫取了巨额的利润,因此核心光刻材料及相关配方的国产化自主研制迫在眉睫。{{内容图1}}技术优势已成功研制出多种可光聚合的性能优异的材料,适合于应用到PCB电路板印刷中,尤其材料可以利用LED光源聚合。已经成功研制利用405纳米LED光源聚合的油墨。由于LED发热少,对于塑膜等耐热性差的承印材料的印刷以及印刷机的热影响小,只需对印刷精度稍作调整即可,纸张损耗随之减少。另外LED光源元件与紫外线灯(一般波长为365纳米)相比寿命约为其12倍,光源更换频度大幅降低,器材耗用随之减少。再者LED可做到瞬间开启或关闭,无需UV灯方式所必须的预热及降温时间,作业效率得到提高。因此LED光聚合油墨是节能环保型。而传统的利用紫外光源的(UV)聚合的油墨虽在广泛应用中,但由于UV油墨的光源普通采用高压汞灯,其最强的波长为365nm。多年的应用结果表明UV固化技术是一项高效、节能、经济、适用性广而且环境友好的技术。但也存在一些缺点:1、UV汞灯的使用寿命有限。2、UV汞灯的能耗较大,有效利用的能量不高,输入能量中只有大约20%的能量产生紫外线,而有20%是可见能源40%是热量,不适应于热敏材料。3、虽然UV汞灯性对于溶剂型油墨来说,没有VOC排放而具有环保环境友好的特点。但也存在一些隐性的污染。例如汞灯的高压、高温和强辐射,很容易使周围的氧气分子发生化学反应而产生臭氧。而臭氧不但对大气层有不利影响,而且对身体健康也具有较大的影响。因此开发可以LED光源聚合的材料(这里统称为LED油墨)具有重要意义,并已经在国际、国内油墨行业中得到广泛的重视。越来越多的油墨采用LED光聚合。市场现状尽管全球的印刷油墨销售量主要集中在发达国家印前工艺,但是发展中国家对拉动印刷油墨销售量的力度也不容忽视。在亚太地区,特别在中国和印度,是印刷油墨需求量上涨最快的国家,该地区复合年均增长率已经达5.5%。出版和商业印刷市场在亚洲地区增幅最快,表现最为突出的国家同样也是在中国及印度。据全球工业数据分析(GIA)研究机构最新发布的一项研究报告显示:受环保油墨备受市场青睐色序,UV、LED、喷墨墨水等新市场兴起等因素影响,预计到2017年全球印刷油墨市场值将达到182亿美元。
一种紫外线吸附材料(THBP)的制备
成熟度:通过中试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
项目简介: 2, 3, 4, 4'-四羟基二苯甲酮 ( 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenone,简称THBP)是一种常用的紫外线吸收剂,作为紫外线正型光刻胶的导入剂,在TFT-LCD液晶显示器产业链生产中,主要用于混配PAC感光剂生产高感光度高分辨率的高档光刻胶。由于TFT-LCD显示技术具有一系列突出的优点,其产品几乎涵盖整个信息应用领域,包括电视、台式计算机、笔记本电脑、手机、PDA、GPS、仪器仪表和公共显示等,具有巨大的市场潜力。 本项目以五倍子生物资源为原料,利用已有的焦性没食子酸生产工艺,采用多级净化工艺及去离子技术,开发一条年产TFT-LCD光刻胶用感光剂2,3,4,4-四羟基二苯甲酮200吨生产能力的工艺。该工艺的成功开发,既可以促进国内五倍子的精深加工研究开发,更重要的是可以打破发达国家对我国集成电路、平板显示产业上游原料感光材料的技术控制,并促进我国集成电路与液晶显示高档光刻胶的生产,减少光刻胶的依赖进口,提高产业链关键配套材料的国产化率,形成基于我国特色生物化工资源五倍子的感光材料产业分枝链,解决我国TFT-LCD产业扩张急需的关键材料PAC感光剂生产。 该项目目前优化了反应条件,已完成了实验室的小试工艺,正在进行逐级放大,有望一年以内进行产业化。
一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:信息传输、软件和信息技术服务业
技术简介
一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统,涉及光子晶体阵列结构。提供一种结构简单、可操作性强、可获得三维密排晶体阵列结构的制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统。从左至右依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;所述激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板设于同一光轴上,激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生4束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的中央出光口之后,4束光重叠干涉在光刻胶板上,在光刻胶板上对4束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经过显影的流程即可得到拥有三维密排晶格阵列结构的光子晶体。
一种仿壁虎脚微纳分级结构及其制造工艺
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
摘要:本发明公开了一种用于仿壁虎脚微纳分级结构的制造工艺,包括:S1、使用LPCVD设备在洁净的硅片上热生长一层SiO2薄膜;S2、在有SiO2层的硅片表面旋涂光刻胶并进行光刻,制备出圆孔阵列图形;S3、使用缓冲氢氟酸溶液对暴露出的SiO2进行刻蚀,将光刻胶上的图形转移到SiO2层;S4、在样品表面镀一层Cu膜;S5、在丙酮或乙醇中进行超声,通过溶脱剥离工艺去除表面的光刻胶及光刻胶表面的Cu;S6、利用CVD-VLS生长工艺,以上述工艺制备的Cu为催化剂,以SiCl4为硅源,以H2为载气,生长Si微米线阵列;S7、在硅线表面镀一层Cu膜;S8、利用CVD-VLS生长工艺,以S7制备的Cu膜为催化剂,以SiCl4为硅源,以H2为载气,在Si微米线表面生长Si纳米线。本发明提供的微纳分级结构中Si微米线的表面分布有Si纳米线,即一种仿壁虎脚微纳分级结构,为干性黏附材料的设计与制造提供了一种解决方案。
制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明提出了制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用。该制备高精度图案化的量子点发光层的方法包括:(1)在衬底的一侧涂布反转光刻胶,并对反转光刻胶进行光刻处理,以便形成纵截面为倒梯形的镂空图案;(2)对镂空图案处的衬底进行疏水处理,并沉积量子点薄膜;(3)对量子点薄膜进行交联处理;(4)剥离反转光刻胶。本发明所提出的制备方法,使用反转光刻胶后,可使得显影后光刻胶的纵截面为倒梯形结构,如此能使光刻胶更易被剥离,从而使量子点发光层图形的精度更高,进而使制备量子点发光层图形方法的良品率显著提高。
一种纳米压印光刻胶及其制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种纳米压印光刻胶及其制备方法;其中,纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分:有机小分子溶剂65~97%,树脂1~30%,氟化石墨及其衍生物0.01~5%,表面活性剂0.01~5%和添加剂0~1%。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物,因氟化石墨及其衍生物具有低表面能,从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷,模板损坏等问题。
鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶的应用
成熟度:-
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明公开了一种鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶的应用。 本发明以从自然界能够广泛获取的鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶,避免了传统光刻胶在人工合成时造成的环境污染,薄膜粗糙度低,厚度可控,易实现大面积制备,且其具有较好的紫外、电子束敏感度,可用紫外、电子束方式曝光,曝光之后仅需用水显影,对环境无污染,显影效果较好; 其同时还具有良好的抗刻蚀性能,在刻蚀后可选用胰蛋白酶溶液去胶。
一种在微电子或光电子芯片上的光刻胶沉积的方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
本发明涉及一种在微电子或光电子芯片上的光刻胶沉积的方法,这种方法包括以下步骤:首先选取与芯片(4)厚度一致的基片(1),在基片(1)上沉积硬掩膜层(2)和光刻胶(3),用芯片(4)作为掩膜,光刻出中央开口的图形;腐蚀形成第一通孔(6),深刻蚀得到第二通孔(7);接着将光刻胶(3)和硬掩膜层(2)去除,得到甩胶套(8);然后将芯片(4)放入甩胶套(8)的第二通孔(7),甩胶套(8)固定在支撑薄膜(9)上,支持薄膜(9)固定在甩胶机上;将光刻胶(10)滴在芯片(4)表面进行甩胶,得到芯片表面厚度均匀的光刻胶(11)。该技术能够有效减少光刻胶边的厚度,提高芯片面积的利用率,并增加后续工艺的完整性。
一种超疏水凹角T状微柱结构的制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
摘要:本发明公开了一种超疏水凹角T状微柱结构的制备方法,包括:(a)在基片的一个表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第一圆孔阵列;(b)在基片含光刻胶表面依次沉积粘附层和种子层;(c)在种子层表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第二圆孔阵列;(d)同时对第一圆孔阵列和第二圆孔阵列进行电镀填充,得到金属的T状微柱结构;(e)去除光刻胶及多余粘附层和种子层;(f)在T状微柱表面沉积一层保护层;(g)去除微柱T状结构的横状伸出部分并保留柱状结构和保护层,得到一种凹角T状微柱结构。按照本发明的制造方法,能非常可控地制备不同尺度的目标结构,工艺窗口宽,重复性好,化学稳定性高,同时拥有优异的超疏水性、自清洁能力。
超声雾化喷嘴及其喷涂装备
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
成果简介: 本技术主要用于光刻胶喷涂等高价值高分子材料薄膜生成工艺,旨在解决高分子材料薄膜均匀性问题。主要成果形式:1. 超声雾化喷嘴;2. 超声雾化喷涂设备。可根据不同生产现场需求,进行针对性设计和制作。技术优势: 喷胶喷嘴主要用于实现光刻胶喷涂的均匀性,其技术主要采用超声雾化喷嘴,该技术被美国 Seno-tek 等公司掌握。要突破此技术主要需攻克 3 方面的难点:1. 突破超声雾化喷嘴振动系统的设计方法和制造技术。2. 突破雾化光刻胶液滴在载气作用下的雾锥特性和光刻胶雾化液滴的输运流模型。3. 弄清光刻胶雾化雾锥特性、工艺参数等因素与膜厚均匀性的影响关系,指导光刻胶薄膜制备工艺。性能指标: 1. 喷嘴的谐振频率可达 120KHz。2. 光刻胶液滴长度平均粒径 18μm,膜厚均匀性±3%。市场分析: 喷嘴及其设备主要用于均匀性要求高的高分子薄膜工艺,如芯片的涂胶工艺、太阳能薄膜、MEMS 微结构等。成果亮点: 1. 具有自主知识产权。2. 成果来源:国家 02 专项、企业需求。3. 技术先进性:行业先进,本技术已应用于生产企业。
找到33项技术成果数据。
找技术 >可聚合功能高分子材料–节能环保LED 光聚合油墨
成熟度:可规模生产
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
项目简介高分子材料经过多年的发展已经在各行各业得到显著的应用。在高分子材料领域中可聚合(包括热聚合、光聚合、氧化还原聚合、缩合等)材料在微纳米加工,刻蚀,油墨印刷,PCB电路板、液晶显示、OLED、3D打印等领域中的应用是高分子领域中的一大类重要应用范畴。然而在当前包括集成电路在内的高端制造行业发展中,关键材料和技术主要由国外企业掌控。且国内光刻胶受益于半导体产业转移及国内电子化学品的迅速发展,需求增速远高于全球,但产品种类还有限和质量还没有完全达到国际先进水平。这些材料的高消耗性,以及配方保密性,使得相关制造企业对这种耗材产生了严重的依赖,尤其是高质量高等级的进口光刻材料。这些耗材价格昂贵,且需要大量使用,这样使得国内相关制造行业的很多企业利润不断的被压缩,而国外提供此类耗材的公司则在中国攫取了巨额的利润,因此核心光刻材料及相关配方的国产化自主研制迫在眉睫。{{内容图1}}技术优势已成功研制出多种可光聚合的性能优异的材料,适合于应用到PCB电路板印刷中,尤其材料可以利用LED光源聚合。已经成功研制利用405纳米LED光源聚合的油墨。由于LED发热少,对于塑膜等耐热性差的承印材料的印刷以及印刷机的热影响小,只需对印刷精度稍作调整即可,纸张损耗随之减少。另外LED光源元件与紫外线灯(一般波长为365纳米)相比寿命约为其12倍,光源更换频度大幅降低,器材耗用随之减少。再者LED可做到瞬间开启或关闭,无需UV灯方式所必须的预热及降温时间,作业效率得到提高。因此LED光聚合油墨是节能环保型。而传统的利用紫外光源的(UV)聚合的油墨虽在广泛应用中,但由于UV油墨的光源普通采用高压汞灯,其最强的波长为365nm。多年的应用结果表明UV固化技术是一项高效、节能、经济、适用性广而且环境友好的技术。但也存在一些缺点:1、UV汞灯的使用寿命有限。2、UV汞灯的能耗较大,有效利用的能量不高,输入能量中只有大约20%的能量产生紫外线,而有20%是可见能源40%是热量,不适应于热敏材料。3、虽然UV汞灯性对于溶剂型油墨来说,没有VOC排放而具有环保环境友好的特点。但也存在一些隐性的污染。例如汞灯的高压、高温和强辐射,很容易使周围的氧气分子发生化学反应而产生臭氧。而臭氧不但对大气层有不利影响,而且对身体健康也具有较大的影响。因此开发可以LED光源聚合的材料(这里统称为LED油墨)具有重要意义,并已经在国际、国内油墨行业中得到广泛的重视。越来越多的油墨采用LED光聚合。市场现状尽管全球的印刷油墨销售量主要集中在发达国家印前工艺,但是发展中国家对拉动印刷油墨销售量的力度也不容忽视。在亚太地区,特别在中国和印度,是印刷油墨需求量上涨最快的国家,该地区复合年均增长率已经达5.5%。出版和商业印刷市场在亚洲地区增幅最快,表现最为突出的国家同样也是在中国及印度。据全球工业数据分析(GIA)研究机构最新发布的一项研究报告显示:受环保油墨备受市场青睐色序,UV、LED、喷墨墨水等新市场兴起等因素影响,预计到2017年全球印刷油墨市场值将达到182亿美元。
一种紫外线吸附材料(THBP)的制备
成熟度:通过中试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
项目简介: 2, 3, 4, 4'-四羟基二苯甲酮 ( 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenone,简称THBP)是一种常用的紫外线吸收剂,作为紫外线正型光刻胶的导入剂,在TFT-LCD液晶显示器产业链生产中,主要用于混配PAC感光剂生产高感光度高分辨率的高档光刻胶。由于TFT-LCD显示技术具有一系列突出的优点,其产品几乎涵盖整个信息应用领域,包括电视、台式计算机、笔记本电脑、手机、PDA、GPS、仪器仪表和公共显示等,具有巨大的市场潜力。 本项目以五倍子生物资源为原料,利用已有的焦性没食子酸生产工艺,采用多级净化工艺及去离子技术,开发一条年产TFT-LCD光刻胶用感光剂2,3,4,4-四羟基二苯甲酮200吨生产能力的工艺。该工艺的成功开发,既可以促进国内五倍子的精深加工研究开发,更重要的是可以打破发达国家对我国集成电路、平板显示产业上游原料感光材料的技术控制,并促进我国集成电路与液晶显示高档光刻胶的生产,减少光刻胶的依赖进口,提高产业链关键配套材料的国产化率,形成基于我国特色生物化工资源五倍子的感光材料产业分枝链,解决我国TFT-LCD产业扩张急需的关键材料PAC感光剂生产。 该项目目前优化了反应条件,已完成了实验室的小试工艺,正在进行逐级放大,有望一年以内进行产业化。
一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:信息传输、软件和信息技术服务业
技术简介
一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统,涉及光子晶体阵列结构。提供一种结构简单、可操作性强、可获得三维密排晶体阵列结构的制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统。从左至右依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;所述激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板设于同一光轴上,激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生4束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的中央出光口之后,4束光重叠干涉在光刻胶板上,在光刻胶板上对4束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经过显影的流程即可得到拥有三维密排晶格阵列结构的光子晶体。
一种仿壁虎脚微纳分级结构及其制造工艺
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
摘要:本发明公开了一种用于仿壁虎脚微纳分级结构的制造工艺,包括:S1、使用LPCVD设备在洁净的硅片上热生长一层SiO2薄膜;S2、在有SiO2层的硅片表面旋涂光刻胶并进行光刻,制备出圆孔阵列图形;S3、使用缓冲氢氟酸溶液对暴露出的SiO2进行刻蚀,将光刻胶上的图形转移到SiO2层;S4、在样品表面镀一层Cu膜;S5、在丙酮或乙醇中进行超声,通过溶脱剥离工艺去除表面的光刻胶及光刻胶表面的Cu;S6、利用CVD-VLS生长工艺,以上述工艺制备的Cu为催化剂,以SiCl4为硅源,以H2为载气,生长Si微米线阵列;S7、在硅线表面镀一层Cu膜;S8、利用CVD-VLS生长工艺,以S7制备的Cu膜为催化剂,以SiCl4为硅源,以H2为载气,在Si微米线表面生长Si纳米线。本发明提供的微纳分级结构中Si微米线的表面分布有Si纳米线,即一种仿壁虎脚微纳分级结构,为干性黏附材料的设计与制造提供了一种解决方案。
制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明提出了制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用。该制备高精度图案化的量子点发光层的方法包括:(1)在衬底的一侧涂布反转光刻胶,并对反转光刻胶进行光刻处理,以便形成纵截面为倒梯形的镂空图案;(2)对镂空图案处的衬底进行疏水处理,并沉积量子点薄膜;(3)对量子点薄膜进行交联处理;(4)剥离反转光刻胶。本发明所提出的制备方法,使用反转光刻胶后,可使得显影后光刻胶的纵截面为倒梯形结构,如此能使光刻胶更易被剥离,从而使量子点发光层图形的精度更高,进而使制备量子点发光层图形方法的良品率显著提高。
一种纳米压印光刻胶及其制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种纳米压印光刻胶及其制备方法;其中,纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分:有机小分子溶剂65~97%,树脂1~30%,氟化石墨及其衍生物0.01~5%,表面活性剂0.01~5%和添加剂0~1%。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物,因氟化石墨及其衍生物具有低表面能,从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷,模板损坏等问题。
鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶的应用
成熟度:-
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明公开了一种鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶的应用。 本发明以从自然界能够广泛获取的鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶,避免了传统光刻胶在人工合成时造成的环境污染,薄膜粗糙度低,厚度可控,易实现大面积制备,且其具有较好的紫外、电子束敏感度,可用紫外、电子束方式曝光,曝光之后仅需用水显影,对环境无污染,显影效果较好; 其同时还具有良好的抗刻蚀性能,在刻蚀后可选用胰蛋白酶溶液去胶。
一种在微电子或光电子芯片上的光刻胶沉积的方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
本发明涉及一种在微电子或光电子芯片上的光刻胶沉积的方法,这种方法包括以下步骤:首先选取与芯片(4)厚度一致的基片(1),在基片(1)上沉积硬掩膜层(2)和光刻胶(3),用芯片(4)作为掩膜,光刻出中央开口的图形;腐蚀形成第一通孔(6),深刻蚀得到第二通孔(7);接着将光刻胶(3)和硬掩膜层(2)去除,得到甩胶套(8);然后将芯片(4)放入甩胶套(8)的第二通孔(7),甩胶套(8)固定在支撑薄膜(9)上,支持薄膜(9)固定在甩胶机上;将光刻胶(10)滴在芯片(4)表面进行甩胶,得到芯片表面厚度均匀的光刻胶(11)。该技术能够有效减少光刻胶边的厚度,提高芯片面积的利用率,并增加后续工艺的完整性。
一种超疏水凹角T状微柱结构的制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
摘要:本发明公开了一种超疏水凹角T状微柱结构的制备方法,包括:(a)在基片的一个表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第一圆孔阵列;(b)在基片含光刻胶表面依次沉积粘附层和种子层;(c)在种子层表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第二圆孔阵列;(d)同时对第一圆孔阵列和第二圆孔阵列进行电镀填充,得到金属的T状微柱结构;(e)去除光刻胶及多余粘附层和种子层;(f)在T状微柱表面沉积一层保护层;(g)去除微柱T状结构的横状伸出部分并保留柱状结构和保护层,得到一种凹角T状微柱结构。按照本发明的制造方法,能非常可控地制备不同尺度的目标结构,工艺窗口宽,重复性好,化学稳定性高,同时拥有优异的超疏水性、自清洁能力。
超声雾化喷嘴及其喷涂装备
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
成果简介: 本技术主要用于光刻胶喷涂等高价值高分子材料薄膜生成工艺,旨在解决高分子材料薄膜均匀性问题。主要成果形式:1. 超声雾化喷嘴;2. 超声雾化喷涂设备。可根据不同生产现场需求,进行针对性设计和制作。技术优势: 喷胶喷嘴主要用于实现光刻胶喷涂的均匀性,其技术主要采用超声雾化喷嘴,该技术被美国 Seno-tek 等公司掌握。要突破此技术主要需攻克 3 方面的难点:1. 突破超声雾化喷嘴振动系统的设计方法和制造技术。2. 突破雾化光刻胶液滴在载气作用下的雾锥特性和光刻胶雾化液滴的输运流模型。3. 弄清光刻胶雾化雾锥特性、工艺参数等因素与膜厚均匀性的影响关系,指导光刻胶薄膜制备工艺。性能指标: 1. 喷嘴的谐振频率可达 120KHz。2. 光刻胶液滴长度平均粒径 18μm,膜厚均匀性±3%。市场分析: 喷嘴及其设备主要用于均匀性要求高的高分子薄膜工艺,如芯片的涂胶工艺、太阳能薄膜、MEMS 微结构等。成果亮点: 1. 具有自主知识产权。2. 成果来源:国家 02 专项、企业需求。3. 技术先进性:行业先进,本技术已应用于生产企业。
找到33项技术成果数据。
找技术 >可聚合功能高分子材料–节能环保LED 光聚合油墨
成熟度:可规模生产
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
项目简介高分子材料经过多年的发展已经在各行各业得到显著的应用。在高分子材料领域中可聚合(包括热聚合、光聚合、氧化还原聚合、缩合等)材料在微纳米加工,刻蚀,油墨印刷,PCB电路板、液晶显示、OLED、3D打印等领域中的应用是高分子领域中的一大类重要应用范畴。然而在当前包括集成电路在内的高端制造行业发展中,关键材料和技术主要由国外企业掌控。且国内光刻胶受益于半导体产业转移及国内电子化学品的迅速发展,需求增速远高于全球,但产品种类还有限和质量还没有完全达到国际先进水平。这些材料的高消耗性,以及配方保密性,使得相关制造企业对这种耗材产生了严重的依赖,尤其是高质量高等级的进口光刻材料。这些耗材价格昂贵,且需要大量使用,这样使得国内相关制造行业的很多企业利润不断的被压缩,而国外提供此类耗材的公司则在中国攫取了巨额的利润,因此核心光刻材料及相关配方的国产化自主研制迫在眉睫。{{内容图1}}技术优势已成功研制出多种可光聚合的性能优异的材料,适合于应用到PCB电路板印刷中,尤其材料可以利用LED光源聚合。已经成功研制利用405纳米LED光源聚合的油墨。由于LED发热少,对于塑膜等耐热性差的承印材料的印刷以及印刷机的热影响小,只需对印刷精度稍作调整即可,纸张损耗随之减少。另外LED光源元件与紫外线灯(一般波长为365纳米)相比寿命约为其12倍,光源更换频度大幅降低,器材耗用随之减少。再者LED可做到瞬间开启或关闭,无需UV灯方式所必须的预热及降温时间,作业效率得到提高。因此LED光聚合油墨是节能环保型。而传统的利用紫外光源的(UV)聚合的油墨虽在广泛应用中,但由于UV油墨的光源普通采用高压汞灯,其最强的波长为365nm。多年的应用结果表明UV固化技术是一项高效、节能、经济、适用性广而且环境友好的技术。但也存在一些缺点:1、UV汞灯的使用寿命有限。2、UV汞灯的能耗较大,有效利用的能量不高,输入能量中只有大约20%的能量产生紫外线,而有20%是可见能源40%是热量,不适应于热敏材料。3、虽然UV汞灯性对于溶剂型油墨来说,没有VOC排放而具有环保环境友好的特点。但也存在一些隐性的污染。例如汞灯的高压、高温和强辐射,很容易使周围的氧气分子发生化学反应而产生臭氧。而臭氧不但对大气层有不利影响,而且对身体健康也具有较大的影响。因此开发可以LED光源聚合的材料(这里统称为LED油墨)具有重要意义,并已经在国际、国内油墨行业中得到广泛的重视。越来越多的油墨采用LED光聚合。市场现状尽管全球的印刷油墨销售量主要集中在发达国家印前工艺,但是发展中国家对拉动印刷油墨销售量的力度也不容忽视。在亚太地区,特别在中国和印度,是印刷油墨需求量上涨最快的国家,该地区复合年均增长率已经达5.5%。出版和商业印刷市场在亚洲地区增幅最快,表现最为突出的国家同样也是在中国及印度。据全球工业数据分析(GIA)研究机构最新发布的一项研究报告显示:受环保油墨备受市场青睐色序,UV、LED、喷墨墨水等新市场兴起等因素影响,预计到2017年全球印刷油墨市场值将达到182亿美元。
一种紫外线吸附材料(THBP)的制备
成熟度:通过中试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
项目简介: 2, 3, 4, 4'-四羟基二苯甲酮 ( 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenone,简称THBP)是一种常用的紫外线吸收剂,作为紫外线正型光刻胶的导入剂,在TFT-LCD液晶显示器产业链生产中,主要用于混配PAC感光剂生产高感光度高分辨率的高档光刻胶。由于TFT-LCD显示技术具有一系列突出的优点,其产品几乎涵盖整个信息应用领域,包括电视、台式计算机、笔记本电脑、手机、PDA、GPS、仪器仪表和公共显示等,具有巨大的市场潜力。 本项目以五倍子生物资源为原料,利用已有的焦性没食子酸生产工艺,采用多级净化工艺及去离子技术,开发一条年产TFT-LCD光刻胶用感光剂2,3,4,4-四羟基二苯甲酮200吨生产能力的工艺。该工艺的成功开发,既可以促进国内五倍子的精深加工研究开发,更重要的是可以打破发达国家对我国集成电路、平板显示产业上游原料感光材料的技术控制,并促进我国集成电路与液晶显示高档光刻胶的生产,减少光刻胶的依赖进口,提高产业链关键配套材料的国产化率,形成基于我国特色生物化工资源五倍子的感光材料产业分枝链,解决我国TFT-LCD产业扩张急需的关键材料PAC感光剂生产。 该项目目前优化了反应条件,已完成了实验室的小试工艺,正在进行逐级放大,有望一年以内进行产业化。
一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:信息传输、软件和信息技术服务业
技术简介
一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统,涉及光子晶体阵列结构。提供一种结构简单、可操作性强、可获得三维密排晶体阵列结构的制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统。从左至右依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;所述激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板设于同一光轴上,激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生4束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的中央出光口之后,4束光重叠干涉在光刻胶板上,在光刻胶板上对4束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经过显影的流程即可得到拥有三维密排晶格阵列结构的光子晶体。
一种仿壁虎脚微纳分级结构及其制造工艺
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
摘要:本发明公开了一种用于仿壁虎脚微纳分级结构的制造工艺,包括:S1、使用LPCVD设备在洁净的硅片上热生长一层SiO2薄膜;S2、在有SiO2层的硅片表面旋涂光刻胶并进行光刻,制备出圆孔阵列图形;S3、使用缓冲氢氟酸溶液对暴露出的SiO2进行刻蚀,将光刻胶上的图形转移到SiO2层;S4、在样品表面镀一层Cu膜;S5、在丙酮或乙醇中进行超声,通过溶脱剥离工艺去除表面的光刻胶及光刻胶表面的Cu;S6、利用CVD-VLS生长工艺,以上述工艺制备的Cu为催化剂,以SiCl4为硅源,以H2为载气,生长Si微米线阵列;S7、在硅线表面镀一层Cu膜;S8、利用CVD-VLS生长工艺,以S7制备的Cu膜为催化剂,以SiCl4为硅源,以H2为载气,在Si微米线表面生长Si纳米线。本发明提供的微纳分级结构中Si微米线的表面分布有Si纳米线,即一种仿壁虎脚微纳分级结构,为干性黏附材料的设计与制造提供了一种解决方案。
制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明提出了制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用。该制备高精度图案化的量子点发光层的方法包括:(1)在衬底的一侧涂布反转光刻胶,并对反转光刻胶进行光刻处理,以便形成纵截面为倒梯形的镂空图案;(2)对镂空图案处的衬底进行疏水处理,并沉积量子点薄膜;(3)对量子点薄膜进行交联处理;(4)剥离反转光刻胶。本发明所提出的制备方法,使用反转光刻胶后,可使得显影后光刻胶的纵截面为倒梯形结构,如此能使光刻胶更易被剥离,从而使量子点发光层图形的精度更高,进而使制备量子点发光层图形方法的良品率显著提高。
一种纳米压印光刻胶及其制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种纳米压印光刻胶及其制备方法;其中,纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分:有机小分子溶剂65~97%,树脂1~30%,氟化石墨及其衍生物0.01~5%,表面活性剂0.01~5%和添加剂0~1%。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物,因氟化石墨及其衍生物具有低表面能,从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷,模板损坏等问题。
鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶的应用
成熟度:-
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明公开了一种鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶的应用。 本发明以从自然界能够广泛获取的鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶,避免了传统光刻胶在人工合成时造成的环境污染,薄膜粗糙度低,厚度可控,易实现大面积制备,且其具有较好的紫外、电子束敏感度,可用紫外、电子束方式曝光,曝光之后仅需用水显影,对环境无污染,显影效果较好; 其同时还具有良好的抗刻蚀性能,在刻蚀后可选用胰蛋白酶溶液去胶。
一种在微电子或光电子芯片上的光刻胶沉积的方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
本发明涉及一种在微电子或光电子芯片上的光刻胶沉积的方法,这种方法包括以下步骤:首先选取与芯片(4)厚度一致的基片(1),在基片(1)上沉积硬掩膜层(2)和光刻胶(3),用芯片(4)作为掩膜,光刻出中央开口的图形;腐蚀形成第一通孔(6),深刻蚀得到第二通孔(7);接着将光刻胶(3)和硬掩膜层(2)去除,得到甩胶套(8);然后将芯片(4)放入甩胶套(8)的第二通孔(7),甩胶套(8)固定在支撑薄膜(9)上,支持薄膜(9)固定在甩胶机上;将光刻胶(10)滴在芯片(4)表面进行甩胶,得到芯片表面厚度均匀的光刻胶(11)。该技术能够有效减少光刻胶边的厚度,提高芯片面积的利用率,并增加后续工艺的完整性。
一种超疏水凹角T状微柱结构的制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
摘要:本发明公开了一种超疏水凹角T状微柱结构的制备方法,包括:(a)在基片的一个表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第一圆孔阵列;(b)在基片含光刻胶表面依次沉积粘附层和种子层;(c)在种子层表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第二圆孔阵列;(d)同时对第一圆孔阵列和第二圆孔阵列进行电镀填充,得到金属的T状微柱结构;(e)去除光刻胶及多余粘附层和种子层;(f)在T状微柱表面沉积一层保护层;(g)去除微柱T状结构的横状伸出部分并保留柱状结构和保护层,得到一种凹角T状微柱结构。按照本发明的制造方法,能非常可控地制备不同尺度的目标结构,工艺窗口宽,重复性好,化学稳定性高,同时拥有优异的超疏水性、自清洁能力。
超声雾化喷嘴及其喷涂装备
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
成果简介: 本技术主要用于光刻胶喷涂等高价值高分子材料薄膜生成工艺,旨在解决高分子材料薄膜均匀性问题。主要成果形式:1. 超声雾化喷嘴;2. 超声雾化喷涂设备。可根据不同生产现场需求,进行针对性设计和制作。技术优势: 喷胶喷嘴主要用于实现光刻胶喷涂的均匀性,其技术主要采用超声雾化喷嘴,该技术被美国 Seno-tek 等公司掌握。要突破此技术主要需攻克 3 方面的难点:1. 突破超声雾化喷嘴振动系统的设计方法和制造技术。2. 突破雾化光刻胶液滴在载气作用下的雾锥特性和光刻胶雾化液滴的输运流模型。3. 弄清光刻胶雾化雾锥特性、工艺参数等因素与膜厚均匀性的影响关系,指导光刻胶薄膜制备工艺。性能指标: 1. 喷嘴的谐振频率可达 120KHz。2. 光刻胶液滴长度平均粒径 18μm,膜厚均匀性±3%。市场分析: 喷嘴及其设备主要用于均匀性要求高的高分子薄膜工艺,如芯片的涂胶工艺、太阳能薄膜、MEMS 微结构等。成果亮点: 1. 具有自主知识产权。2. 成果来源:国家 02 专项、企业需求。3. 技术先进性:行业先进,本技术已应用于生产企业。
找到33项技术成果数据。
找技术 >可聚合功能高分子材料–节能环保LED 光聚合油墨
成熟度:可规模生产
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
项目简介高分子材料经过多年的发展已经在各行各业得到显著的应用。在高分子材料领域中可聚合(包括热聚合、光聚合、氧化还原聚合、缩合等)材料在微纳米加工,刻蚀,油墨印刷,PCB电路板、液晶显示、OLED、3D打印等领域中的应用是高分子领域中的一大类重要应用范畴。然而在当前包括集成电路在内的高端制造行业发展中,关键材料和技术主要由国外企业掌控。且国内光刻胶受益于半导体产业转移及国内电子化学品的迅速发展,需求增速远高于全球,但产品种类还有限和质量还没有完全达到国际先进水平。这些材料的高消耗性,以及配方保密性,使得相关制造企业对这种耗材产生了严重的依赖,尤其是高质量高等级的进口光刻材料。这些耗材价格昂贵,且需要大量使用,这样使得国内相关制造行业的很多企业利润不断的被压缩,而国外提供此类耗材的公司则在中国攫取了巨额的利润,因此核心光刻材料及相关配方的国产化自主研制迫在眉睫。{{内容图1}}技术优势已成功研制出多种可光聚合的性能优异的材料,适合于应用到PCB电路板印刷中,尤其材料可以利用LED光源聚合。已经成功研制利用405纳米LED光源聚合的油墨。由于LED发热少,对于塑膜等耐热性差的承印材料的印刷以及印刷机的热影响小,只需对印刷精度稍作调整即可,纸张损耗随之减少。另外LED光源元件与紫外线灯(一般波长为365纳米)相比寿命约为其12倍,光源更换频度大幅降低,器材耗用随之减少。再者LED可做到瞬间开启或关闭,无需UV灯方式所必须的预热及降温时间,作业效率得到提高。因此LED光聚合油墨是节能环保型。而传统的利用紫外光源的(UV)聚合的油墨虽在广泛应用中,但由于UV油墨的光源普通采用高压汞灯,其最强的波长为365nm。多年的应用结果表明UV固化技术是一项高效、节能、经济、适用性广而且环境友好的技术。但也存在一些缺点:1、UV汞灯的使用寿命有限。2、UV汞灯的能耗较大,有效利用的能量不高,输入能量中只有大约20%的能量产生紫外线,而有20%是可见能源40%是热量,不适应于热敏材料。3、虽然UV汞灯性对于溶剂型油墨来说,没有VOC排放而具有环保环境友好的特点。但也存在一些隐性的污染。例如汞灯的高压、高温和强辐射,很容易使周围的氧气分子发生化学反应而产生臭氧。而臭氧不但对大气层有不利影响,而且对身体健康也具有较大的影响。因此开发可以LED光源聚合的材料(这里统称为LED油墨)具有重要意义,并已经在国际、国内油墨行业中得到广泛的重视。越来越多的油墨采用LED光聚合。市场现状尽管全球的印刷油墨销售量主要集中在发达国家印前工艺,但是发展中国家对拉动印刷油墨销售量的力度也不容忽视。在亚太地区,特别在中国和印度,是印刷油墨需求量上涨最快的国家,该地区复合年均增长率已经达5.5%。出版和商业印刷市场在亚洲地区增幅最快,表现最为突出的国家同样也是在中国及印度。据全球工业数据分析(GIA)研究机构最新发布的一项研究报告显示:受环保油墨备受市场青睐色序,UV、LED、喷墨墨水等新市场兴起等因素影响,预计到2017年全球印刷油墨市场值将达到182亿美元。
一种紫外线吸附材料(THBP)的制备
成熟度:通过中试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
项目简介: 2, 3, 4, 4'-四羟基二苯甲酮 ( 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenone,简称THBP)是一种常用的紫外线吸收剂,作为紫外线正型光刻胶的导入剂,在TFT-LCD液晶显示器产业链生产中,主要用于混配PAC感光剂生产高感光度高分辨率的高档光刻胶。由于TFT-LCD显示技术具有一系列突出的优点,其产品几乎涵盖整个信息应用领域,包括电视、台式计算机、笔记本电脑、手机、PDA、GPS、仪器仪表和公共显示等,具有巨大的市场潜力。 本项目以五倍子生物资源为原料,利用已有的焦性没食子酸生产工艺,采用多级净化工艺及去离子技术,开发一条年产TFT-LCD光刻胶用感光剂2,3,4,4-四羟基二苯甲酮200吨生产能力的工艺。该工艺的成功开发,既可以促进国内五倍子的精深加工研究开发,更重要的是可以打破发达国家对我国集成电路、平板显示产业上游原料感光材料的技术控制,并促进我国集成电路与液晶显示高档光刻胶的生产,减少光刻胶的依赖进口,提高产业链关键配套材料的国产化率,形成基于我国特色生物化工资源五倍子的感光材料产业分枝链,解决我国TFT-LCD产业扩张急需的关键材料PAC感光剂生产。 该项目目前优化了反应条件,已完成了实验室的小试工艺,正在进行逐级放大,有望一年以内进行产业化。
一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:信息传输、软件和信息技术服务业
技术简介
一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统,涉及光子晶体阵列结构。提供一种结构简单、可操作性强、可获得三维密排晶体阵列结构的制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统。从左至右依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;所述激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板设于同一光轴上,激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生4束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的中央出光口之后,4束光重叠干涉在光刻胶板上,在光刻胶板上对4束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经过显影的流程即可得到拥有三维密排晶格阵列结构的光子晶体。
一种仿壁虎脚微纳分级结构及其制造工艺
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
摘要:本发明公开了一种用于仿壁虎脚微纳分级结构的制造工艺,包括:S1、使用LPCVD设备在洁净的硅片上热生长一层SiO2薄膜;S2、在有SiO2层的硅片表面旋涂光刻胶并进行光刻,制备出圆孔阵列图形;S3、使用缓冲氢氟酸溶液对暴露出的SiO2进行刻蚀,将光刻胶上的图形转移到SiO2层;S4、在样品表面镀一层Cu膜;S5、在丙酮或乙醇中进行超声,通过溶脱剥离工艺去除表面的光刻胶及光刻胶表面的Cu;S6、利用CVD-VLS生长工艺,以上述工艺制备的Cu为催化剂,以SiCl4为硅源,以H2为载气,生长Si微米线阵列;S7、在硅线表面镀一层Cu膜;S8、利用CVD-VLS生长工艺,以S7制备的Cu膜为催化剂,以SiCl4为硅源,以H2为载气,在Si微米线表面生长Si纳米线。本发明提供的微纳分级结构中Si微米线的表面分布有Si纳米线,即一种仿壁虎脚微纳分级结构,为干性黏附材料的设计与制造提供了一种解决方案。
制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明提出了制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用。该制备高精度图案化的量子点发光层的方法包括:(1)在衬底的一侧涂布反转光刻胶,并对反转光刻胶进行光刻处理,以便形成纵截面为倒梯形的镂空图案;(2)对镂空图案处的衬底进行疏水处理,并沉积量子点薄膜;(3)对量子点薄膜进行交联处理;(4)剥离反转光刻胶。本发明所提出的制备方法,使用反转光刻胶后,可使得显影后光刻胶的纵截面为倒梯形结构,如此能使光刻胶更易被剥离,从而使量子点发光层图形的精度更高,进而使制备量子点发光层图形方法的良品率显著提高。
一种纳米压印光刻胶及其制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种纳米压印光刻胶及其制备方法;其中,纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分:有机小分子溶剂65~97%,树脂1~30%,氟化石墨及其衍生物0.01~5%,表面活性剂0.01~5%和添加剂0~1%。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物,因氟化石墨及其衍生物具有低表面能,从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷,模板损坏等问题。
鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶的应用
成熟度:-
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明公开了一种鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶的应用。 本发明以从自然界能够广泛获取的鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶,避免了传统光刻胶在人工合成时造成的环境污染,薄膜粗糙度低,厚度可控,易实现大面积制备,且其具有较好的紫外、电子束敏感度,可用紫外、电子束方式曝光,曝光之后仅需用水显影,对环境无污染,显影效果较好; 其同时还具有良好的抗刻蚀性能,在刻蚀后可选用胰蛋白酶溶液去胶。
一种在微电子或光电子芯片上的光刻胶沉积的方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
本发明涉及一种在微电子或光电子芯片上的光刻胶沉积的方法,这种方法包括以下步骤:首先选取与芯片(4)厚度一致的基片(1),在基片(1)上沉积硬掩膜层(2)和光刻胶(3),用芯片(4)作为掩膜,光刻出中央开口的图形;腐蚀形成第一通孔(6),深刻蚀得到第二通孔(7);接着将光刻胶(3)和硬掩膜层(2)去除,得到甩胶套(8);然后将芯片(4)放入甩胶套(8)的第二通孔(7),甩胶套(8)固定在支撑薄膜(9)上,支持薄膜(9)固定在甩胶机上;将光刻胶(10)滴在芯片(4)表面进行甩胶,得到芯片表面厚度均匀的光刻胶(11)。该技术能够有效减少光刻胶边的厚度,提高芯片面积的利用率,并增加后续工艺的完整性。
一种超疏水凹角T状微柱结构的制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
摘要:本发明公开了一种超疏水凹角T状微柱结构的制备方法,包括:(a)在基片的一个表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第一圆孔阵列;(b)在基片含光刻胶表面依次沉积粘附层和种子层;(c)在种子层表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第二圆孔阵列;(d)同时对第一圆孔阵列和第二圆孔阵列进行电镀填充,得到金属的T状微柱结构;(e)去除光刻胶及多余粘附层和种子层;(f)在T状微柱表面沉积一层保护层;(g)去除微柱T状结构的横状伸出部分并保留柱状结构和保护层,得到一种凹角T状微柱结构。按照本发明的制造方法,能非常可控地制备不同尺度的目标结构,工艺窗口宽,重复性好,化学稳定性高,同时拥有优异的超疏水性、自清洁能力。
超声雾化喷嘴及其喷涂装备
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
成果简介: 本技术主要用于光刻胶喷涂等高价值高分子材料薄膜生成工艺,旨在解决高分子材料薄膜均匀性问题。主要成果形式:1. 超声雾化喷嘴;2. 超声雾化喷涂设备。可根据不同生产现场需求,进行针对性设计和制作。技术优势: 喷胶喷嘴主要用于实现光刻胶喷涂的均匀性,其技术主要采用超声雾化喷嘴,该技术被美国 Seno-tek 等公司掌握。要突破此技术主要需攻克 3 方面的难点:1. 突破超声雾化喷嘴振动系统的设计方法和制造技术。2. 突破雾化光刻胶液滴在载气作用下的雾锥特性和光刻胶雾化液滴的输运流模型。3. 弄清光刻胶雾化雾锥特性、工艺参数等因素与膜厚均匀性的影响关系,指导光刻胶薄膜制备工艺。性能指标: 1. 喷嘴的谐振频率可达 120KHz。2. 光刻胶液滴长度平均粒径 18μm,膜厚均匀性±3%。市场分析: 喷嘴及其设备主要用于均匀性要求高的高分子薄膜工艺,如芯片的涂胶工艺、太阳能薄膜、MEMS 微结构等。成果亮点: 1. 具有自主知识产权。2. 成果来源:国家 02 专项、企业需求。3. 技术先进性:行业先进,本技术已应用于生产企业。
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找技术 >可聚合功能高分子材料–节能环保LED 光聚合油墨
成熟度:可规模生产
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
项目简介高分子材料经过多年的发展已经在各行各业得到显著的应用。在高分子材料领域中可聚合(包括热聚合、光聚合、氧化还原聚合、缩合等)材料在微纳米加工,刻蚀,油墨印刷,PCB电路板、液晶显示、OLED、3D打印等领域中的应用是高分子领域中的一大类重要应用范畴。然而在当前包括集成电路在内的高端制造行业发展中,关键材料和技术主要由国外企业掌控。且国内光刻胶受益于半导体产业转移及国内电子化学品的迅速发展,需求增速远高于全球,但产品种类还有限和质量还没有完全达到国际先进水平。这些材料的高消耗性,以及配方保密性,使得相关制造企业对这种耗材产生了严重的依赖,尤其是高质量高等级的进口光刻材料。这些耗材价格昂贵,且需要大量使用,这样使得国内相关制造行业的很多企业利润不断的被压缩,而国外提供此类耗材的公司则在中国攫取了巨额的利润,因此核心光刻材料及相关配方的国产化自主研制迫在眉睫。{{内容图1}}技术优势已成功研制出多种可光聚合的性能优异的材料,适合于应用到PCB电路板印刷中,尤其材料可以利用LED光源聚合。已经成功研制利用405纳米LED光源聚合的油墨。由于LED发热少,对于塑膜等耐热性差的承印材料的印刷以及印刷机的热影响小,只需对印刷精度稍作调整即可,纸张损耗随之减少。另外LED光源元件与紫外线灯(一般波长为365纳米)相比寿命约为其12倍,光源更换频度大幅降低,器材耗用随之减少。再者LED可做到瞬间开启或关闭,无需UV灯方式所必须的预热及降温时间,作业效率得到提高。因此LED光聚合油墨是节能环保型。而传统的利用紫外光源的(UV)聚合的油墨虽在广泛应用中,但由于UV油墨的光源普通采用高压汞灯,其最强的波长为365nm。多年的应用结果表明UV固化技术是一项高效、节能、经济、适用性广而且环境友好的技术。但也存在一些缺点:1、UV汞灯的使用寿命有限。2、UV汞灯的能耗较大,有效利用的能量不高,输入能量中只有大约20%的能量产生紫外线,而有20%是可见能源40%是热量,不适应于热敏材料。3、虽然UV汞灯性对于溶剂型油墨来说,没有VOC排放而具有环保环境友好的特点。但也存在一些隐性的污染。例如汞灯的高压、高温和强辐射,很容易使周围的氧气分子发生化学反应而产生臭氧。而臭氧不但对大气层有不利影响,而且对身体健康也具有较大的影响。因此开发可以LED光源聚合的材料(这里统称为LED油墨)具有重要意义,并已经在国际、国内油墨行业中得到广泛的重视。越来越多的油墨采用LED光聚合。市场现状尽管全球的印刷油墨销售量主要集中在发达国家印前工艺,但是发展中国家对拉动印刷油墨销售量的力度也不容忽视。在亚太地区,特别在中国和印度,是印刷油墨需求量上涨最快的国家,该地区复合年均增长率已经达5.5%。出版和商业印刷市场在亚洲地区增幅最快,表现最为突出的国家同样也是在中国及印度。据全球工业数据分析(GIA)研究机构最新发布的一项研究报告显示:受环保油墨备受市场青睐色序,UV、LED、喷墨墨水等新市场兴起等因素影响,预计到2017年全球印刷油墨市场值将达到182亿美元。
一种紫外线吸附材料(THBP)的制备
成熟度:通过中试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
项目简介: 2, 3, 4, 4'-四羟基二苯甲酮 ( 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenone,简称THBP)是一种常用的紫外线吸收剂,作为紫外线正型光刻胶的导入剂,在TFT-LCD液晶显示器产业链生产中,主要用于混配PAC感光剂生产高感光度高分辨率的高档光刻胶。由于TFT-LCD显示技术具有一系列突出的优点,其产品几乎涵盖整个信息应用领域,包括电视、台式计算机、笔记本电脑、手机、PDA、GPS、仪器仪表和公共显示等,具有巨大的市场潜力。 本项目以五倍子生物资源为原料,利用已有的焦性没食子酸生产工艺,采用多级净化工艺及去离子技术,开发一条年产TFT-LCD光刻胶用感光剂2,3,4,4-四羟基二苯甲酮200吨生产能力的工艺。该工艺的成功开发,既可以促进国内五倍子的精深加工研究开发,更重要的是可以打破发达国家对我国集成电路、平板显示产业上游原料感光材料的技术控制,并促进我国集成电路与液晶显示高档光刻胶的生产,减少光刻胶的依赖进口,提高产业链关键配套材料的国产化率,形成基于我国特色生物化工资源五倍子的感光材料产业分枝链,解决我国TFT-LCD产业扩张急需的关键材料PAC感光剂生产。 该项目目前优化了反应条件,已完成了实验室的小试工艺,正在进行逐级放大,有望一年以内进行产业化。
一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:信息传输、软件和信息技术服务业
技术简介
一种制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统,涉及光子晶体阵列结构。提供一种结构简单、可操作性强、可获得三维密排晶体阵列结构的制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统。从左至右依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;所述激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板设于同一光轴上,激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生4束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的中央出光口之后,4束光重叠干涉在光刻胶板上,在光刻胶板上对4束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经过显影的流程即可得到拥有三维密排晶格阵列结构的光子晶体。
一种仿壁虎脚微纳分级结构及其制造工艺
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
摘要:本发明公开了一种用于仿壁虎脚微纳分级结构的制造工艺,包括:S1、使用LPCVD设备在洁净的硅片上热生长一层SiO2薄膜;S2、在有SiO2层的硅片表面旋涂光刻胶并进行光刻,制备出圆孔阵列图形;S3、使用缓冲氢氟酸溶液对暴露出的SiO2进行刻蚀,将光刻胶上的图形转移到SiO2层;S4、在样品表面镀一层Cu膜;S5、在丙酮或乙醇中进行超声,通过溶脱剥离工艺去除表面的光刻胶及光刻胶表面的Cu;S6、利用CVD-VLS生长工艺,以上述工艺制备的Cu为催化剂,以SiCl4为硅源,以H2为载气,生长Si微米线阵列;S7、在硅线表面镀一层Cu膜;S8、利用CVD-VLS生长工艺,以S7制备的Cu膜为催化剂,以SiCl4为硅源,以H2为载气,在Si微米线表面生长Si纳米线。本发明提供的微纳分级结构中Si微米线的表面分布有Si纳米线,即一种仿壁虎脚微纳分级结构,为干性黏附材料的设计与制造提供了一种解决方案。
制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明提出了制备高精度图案化的量子点发光层的方法及其应用。该制备高精度图案化的量子点发光层的方法包括:(1)在衬底的一侧涂布反转光刻胶,并对反转光刻胶进行光刻处理,以便形成纵截面为倒梯形的镂空图案;(2)对镂空图案处的衬底进行疏水处理,并沉积量子点薄膜;(3)对量子点薄膜进行交联处理;(4)剥离反转光刻胶。本发明所提出的制备方法,使用反转光刻胶后,可使得显影后光刻胶的纵截面为倒梯形结构,如此能使光刻胶更易被剥离,从而使量子点发光层图形的精度更高,进而使制备量子点发光层图形方法的良品率显著提高。
一种纳米压印光刻胶及其制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种纳米压印光刻胶及其制备方法;其中,纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分:有机小分子溶剂65~97%,树脂1~30%,氟化石墨及其衍生物0.01~5%,表面活性剂0.01~5%和添加剂0~1%。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物,因氟化石墨及其衍生物具有低表面能,从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷,模板损坏等问题。
鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶的应用
成熟度:-
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明公开了一种鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶的应用。 本发明以从自然界能够广泛获取的鸡蛋清稀薄蛋白作为光刻胶,避免了传统光刻胶在人工合成时造成的环境污染,薄膜粗糙度低,厚度可控,易实现大面积制备,且其具有较好的紫外、电子束敏感度,可用紫外、电子束方式曝光,曝光之后仅需用水显影,对环境无污染,显影效果较好; 其同时还具有良好的抗刻蚀性能,在刻蚀后可选用胰蛋白酶溶液去胶。
一种在微电子或光电子芯片上的光刻胶沉积的方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
本发明涉及一种在微电子或光电子芯片上的光刻胶沉积的方法,这种方法包括以下步骤:首先选取与芯片(4)厚度一致的基片(1),在基片(1)上沉积硬掩膜层(2)和光刻胶(3),用芯片(4)作为掩膜,光刻出中央开口的图形;腐蚀形成第一通孔(6),深刻蚀得到第二通孔(7);接着将光刻胶(3)和硬掩膜层(2)去除,得到甩胶套(8);然后将芯片(4)放入甩胶套(8)的第二通孔(7),甩胶套(8)固定在支撑薄膜(9)上,支持薄膜(9)固定在甩胶机上;将光刻胶(10)滴在芯片(4)表面进行甩胶,得到芯片表面厚度均匀的光刻胶(11)。该技术能够有效减少光刻胶边的厚度,提高芯片面积的利用率,并增加后续工艺的完整性。
一种超疏水凹角T状微柱结构的制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
摘要:本发明公开了一种超疏水凹角T状微柱结构的制备方法,包括:(a)在基片的一个表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第一圆孔阵列;(b)在基片含光刻胶表面依次沉积粘附层和种子层;(c)在种子层表面旋凃光刻胶,并执行显影操作得到第二圆孔阵列;(d)同时对第一圆孔阵列和第二圆孔阵列进行电镀填充,得到金属的T状微柱结构;(e)去除光刻胶及多余粘附层和种子层;(f)在T状微柱表面沉积一层保护层;(g)去除微柱T状结构的横状伸出部分并保留柱状结构和保护层,得到一种凹角T状微柱结构。按照本发明的制造方法,能非常可控地制备不同尺度的目标结构,工艺窗口宽,重复性好,化学稳定性高,同时拥有优异的超疏水性、自清洁能力。
超声雾化喷嘴及其喷涂装备
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
成果简介: 本技术主要用于光刻胶喷涂等高价值高分子材料薄膜生成工艺,旨在解决高分子材料薄膜均匀性问题。主要成果形式:1. 超声雾化喷嘴;2. 超声雾化喷涂设备。可根据不同生产现场需求,进行针对性设计和制作。技术优势: 喷胶喷嘴主要用于实现光刻胶喷涂的均匀性,其技术主要采用超声雾化喷嘴,该技术被美国 Seno-tek 等公司掌握。要突破此技术主要需攻克 3 方面的难点:1. 突破超声雾化喷嘴振动系统的设计方法和制造技术。2. 突破雾化光刻胶液滴在载气作用下的雾锥特性和光刻胶雾化液滴的输运流模型。3. 弄清光刻胶雾化雾锥特性、工艺参数等因素与膜厚均匀性的影响关系,指导光刻胶薄膜制备工艺。性能指标: 1. 喷嘴的谐振频率可达 120KHz。2. 光刻胶液滴长度平均粒径 18μm,膜厚均匀性±3%。市场分析: 喷嘴及其设备主要用于均匀性要求高的高分子薄膜工艺,如芯片的涂胶工艺、太阳能薄膜、MEMS 微结构等。成果亮点: 1. 具有自主知识产权。2. 成果来源:国家 02 专项、企业需求。3. 技术先进性:行业先进,本技术已应用于生产企业。