找到24项技术成果数据。
找技术 >高端纳米压印制备图形化蓝宝石衬底的研发
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
p 原理及技术特点 高亮度、高效率蓝光LED是LED照明光源未来的市场趋势。基于图形化蓝宝石衬底生长氮化镓外延技术是制备高效率蓝光LED的必由之路。目前蓝宝石衬底已全部由平片向图形化衬底(PSS)转变。市场上PSS技术是基于微米级别的表面结构,实现20-30%的出光效率提升。为更进一步提升出光效率,纳米级别的表面结构是下一代PSS技术的发展方向。基于200-300纳米的表面微纳结构(光子晶体)可实现70%的出光效率,提高器件亮度80%-120%,产业化LED光效达到2001m/W。同时,衬底上外延生长可缓解应力85%,大幅度减少缺陷,改善droop效应,衰减减缓约30%。图一:图形化蓝宝石衬底在蓝光LED器件中的应用尽管纳米PSS技术优势明显,但其技术门槛较高,主要体现在两个方面(1)光子晶体的设计较为复杂,特别是高出光效率的光子晶体结构设计需要用到近场光学模拟(2)亚微米的加工制造无法使用传统的黄光工艺,加工技术难度大,成本高。项目组成员过去十多年一直从事大面积表面微纳结构的加工研究,具备从设备开发、胶体材料制备、工艺优化的完整经验。采用卷对卷加工方式,可实现每小时图形化720片4时吋蓝宝石衬底。通过使用中间层软模板,大大减少图形化缺陷的产生。同时,项目组成员研究纳米光学结构有多年历史,熟悉光子晶体的工作原理和设计方法,能设计高效的基于光子晶体的纳米结构,实现高性能的蓝光LED器件。应用市场用于蓝色LED芯片生产,LED照明产业的最上游技术之一,主要客户为国内外氮化稼外延片生产厂家,市场规模在10亿美元以上。img title="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片88.png" alt="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片88.png" src="https://ue-upload.1633.com/2020/0427/1553097089818.png"/ /ppimg title="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片89.png" alt="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片89.png" src="https://ue-upload.1633.com/2020/0427/1553191149218.png"//p
纳米压印模板、系统及压印方法
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
提供了一种纳米压印模板、系统和压印方法。 纳米压印模板(10)包括 : 对紫外光透明的第一基板(100); 形成在第一基板(100)的第一表面上的压印图案结构(105); 在第一基板(100)的与第一表面相对的第二表面上形成的加热元件(110),其中加热元件(110)对紫外光是透明的; 以及第一电极对(115),形成在第二表面上,用于向加热元件(110)提供由外部电源施加的电流,以使加热部分(110)发热。 本发明将紫外光固化纳米压印技术与热塑性纳米压印技术无缝集成,具有设备体积小、成本低、工艺简单等优点。 当使用模板和系统进行热塑性纳米压印时,可以复制大面积的微纳米图案。 另外,利用模板和系统进行紫外光固化纳米压印时,达到了提高工艺通量和减少图案复制缺陷的目的。
大面积亚波长光学纳米结构的低成本快速微缩调整制备
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本项目的目标是以纳米压印光刻为基础,结合多种微纳加工工艺,提出一种新的工艺方法,达到避免使用直写工艺,针对性的解决对大面积光学纳米结构进行微缩调整时的成本难题,可对大面积亚波长光学纳米结构(例如AR增强现实衍射光栅)进行快速、低成本微缩调整和复形制备的目的。 本项目初期拟首先利用FDTD和RCWA方法对亚波长光学结构的方向特性和能量效率进行初步模拟仿真。同时,在初期搭建在大气环境下可大面积压印的紫外光软模纳米压印系统,并开发复合材料多层软模板,利用软模材料自身的重力,采取由中心点到边缘方案,实现大面积全尺寸无气泡的压印。项目中后期将基于以上的工艺开发,重点测试所设计的创新方法,对光学亚波长纳米结构(例如一维和二维衍射光栅)进行尺寸可调性研究, 并最终对已实现的参数进行优化和适配,将该尺寸微缩可调的工艺方法扩展至完整晶圆级大面积。 本项目的科技转化创新点在于,在不引入额外的复杂直写工艺的情况下,对已有的大面积纳米图形进行微调缩小和快速、低成本制备。可针对性的解决学术科研中的现实问题, 即在对大面积纳米结构做调整而引入直写工艺时所造成的巨大成本负担,从而将科研中的技术能力充分转化为工业产品。 首先将软模板固定于一机械圆环,待压印的基底固定于可抽气底座,二者以中心点对 准。利用自重,软模板的中心下垂,且整片软模板成弧形(a);基底底座以高速率上升, 基底的中心将首先与下垂的软模板中心接触(b);基底底座换以低速率上升,软模板与 基底的接触由中心点逐步向周边扩散(c);基底底座持续低速率上升,直至软模板与基 底实现完全接触,即完成压印过程(d);紫外光曝光;f)基底底座下降,完成软模板与 基底分离(e)。该压印方式,系统处于大气环境下,无需真空系统,可使用大尺寸的多 层复合软模板作为工作模板,支持大尺寸的基底(晶圆),实现全尺寸压印。压印以及基 底与软模板分离的过程可实现全自动化,从而获得最大程度的稳定性。 该项目拟引入中间模板的概念和步骤。该中间模板通过利用原母模板进行纳米压印可 简单快速实现。通过含有倾斜角度结构的中间模板进行分步压印,可将结构尺寸进行缩小 微调至目标模板的刻蚀掩模中,从而最终通过刻蚀实现结构的转移。 以分支1路为例,通过电子束光刻制备点阵结构的母模板,并沉积以FDTS单分子自 主装抗粘层(A);以母模板制备双层复合软模板(B);利用该软模板进行纳米压印(C); 通过优化低温刻蚀工艺制备锥形结构,作为中间模板(D);以锥形中间模板制备软模板 (E);利用锥形软模板进行纳米压印,将结构转移至光刻胶中(F);利用光刻胶的倾斜 角度,通过给予不同时间的刻蚀,可在刻蚀掩模中获得不同的结构尺寸(G-1/G-2/G-3); 最终利用该已调缩小尺寸的刻蚀掩模,最终通过可是获得目标微纳光学结构 (H-1/H-2/H-3),其尺寸获得了精确缩小调节 其他分支也可以同理进行实现。步骤三维结构俯视图剖面图步骤三维结构俯视图剖面图AG-10 •■ ■B□H-1i^^nnCo**G-20 0O 0DoH-2E■G-3♦BF■H-3♦i^^nn
纳米压印设备及工艺
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本项目“微纳米压印设备及其后续产品的研发及产业化”目标产品由两部分组成,一是应用于科研领域的各种微纳米压印设备、耗材及其相关技术服务,客户为国内外相关院校及科研机构;二是应用于民用及工业生产领域的纳米压印技术及产品,如:显示器减反增透膜,太阳能光伏板减反增透层加工,LED核心发光器件的生产及增加亮度的应用中,客户为显示产品生产厂商,太阳能光伏板生产商,LED发光器件生产制造商,新型光电子器件制造商,光学设备生产商。初步估计可应用本技术的产品及技术年市场规模为200亿至300亿人民币。 目前在中国纳米技术相关科研领域市场销售的纳米压印设备主要由国外公司垄断,其价格昂贵,技术支持缓慢等缺点严重限制了中国纳米压印技术的进展。本项目所研制制作的纳米压印设备,能够打破国外公司在此领域的垄断,在同样的设备性能的前提下,价格仅为国外公司产品的一半。由此将大力推动纳米压印技术在中国各研发领域的进展,推动国内在相关纳米技术领域拥有更多的自主知识产权。本项目所研发制作紫外压印及热压印一体压印设备的创新点有:采用双腔体气动压力原理,精密控制温度及压力,内部集成LED紫外光源系统,可实现热压印与紫外线压印的快速转换;能够实现对6英寸模板的一次全面积均匀压印;一个压印周期不超过5分钟;可实现对高硬度材料的压印,最高压印力度可达2.6kg/cm2;设备操作简单,易于维护; 与国外同类产品相比,价格低廉,具有极高的性价比。 能够快速、廉价、大面积、高质量进行纳米压印工艺的纳米压印设备及应用此设备进行压印产品的生产将对相关领域产品产生变革性影响。本项目所研发的应用于大规模压印产品生产的滚轮式紫外线软压印技术的关键创新点有:滚动连续压印,幅宽50至300mm,最小结构可至20nm,压印速度为30至300mm每分钟。应用本项目研发制造的压印设备进行操作,能制作出高质量、有实际应用的压印产品并能够代替现有的生产工艺且实现产业化。此工艺在太阳能光伏板减反增透层的制作中的推广,将代替已有的具有高污染的酸洗的工艺过程,在实现提高光伏板光电转换效率的同时能够减少环境污染,从而从根本上降低生产成本。此工艺在LED核心发光器件增透增亮工艺中的应用,能够起到提高LED器件亮度及质量,延长使用寿命的作用。本项目技术的推广产生数百亿元的产业效益。
一种纳米压印复合模板的制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
本发明属于纳米压印技术领域,具体公开了一种纳米压印复合模板的制备方法。首先使用拉伸设备将聚二甲基硅氧烷薄片拉伸;其次在单晶硅片上旋涂紫外光固化胶,将拉伸的聚二甲基硅氧烷薄片覆盖甩过胶的硅片表面并充分吸收紫外光固化胶;利用紫外光固化胶的固化在聚二甲基硅氧烷表面形成一层硬质层,收缩拉伸的聚二甲基硅氧烷来形成图案;最后利用反应粒子束刻蚀,在复合图案上形成键合,并表面防粘处理,得到一种制备价格低廉、微纳尺寸可调的用于纳米压印的复合模板。
纳米压印模板抗粘材料
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
技术投资分析:在纳米压印技术中,不论是热压印工艺还是紫外压印工艺,为了改善模板与压印胶间的作用力,均需要使用抗粘材料对模板进行表面处理。本项目主要设计合出纳米压印模板抗粘材料,并对其自组装行为和应用性能进行研究。技术的应用领域前景分析:在纳米科技中展现纳米尺度效应的关键是实现纳米尺度的结构与器件,而在目前具有纳米加工能力的各种技术中,纳米压印技术因低成本、高产量和高分辨率等特点成为其中一项最有应用前景的技术。效益分析:本技术市场应用范围广,成本低,效益十分可观。厂房条件建议:无备注:无
微纳米压印光刻工艺及装备
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:信息传输、软件和信息技术服务业
技术简介
项目介绍:微纳米结构成形是光电子制造中的核心工艺之一。压印光刻克服了传统光学光刻中光学衍射效应的限制,是一种经济、高效、高分辨的结构成形方法。正在探索的压印工艺方法包括:UV-NIL、模板电诱导自组装纳米成形、电润湿驱动纳米压印等。 正在探讨压印光刻的应用领域包括:集成电路(IC)、微机电系统(MEMS)、生物微流控、光波导、光或磁存储、有机光电子、平板显示等器件的制造。
一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明公开了一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法,所述方法中,采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板。本发明提供的基于纳米压印制备光学超构表面的方法,能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法,大幅度降低成本,并且缩短生产时间。本发明提供的方法在生产成本和生产时间上显著提高,实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本,大规模制作,具有良好的产业化前景。
一种制备光学超构表面的方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种制备光学超构表面的方法,基于纳米压印进行,采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板(3,10,11),能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法,大幅度降低成本,并且缩短生产时间,实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本、大规模制作,具有良好的产业化前景。
一种纳米压印光刻胶及其制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种纳米压印光刻胶及其制备方法;其中,纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分:有机小分子溶剂65~97%,树脂1~30%,氟化石墨及其衍生物0.01~5%,表面活性剂0.01~5%和添加剂0~1%。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物,因氟化石墨及其衍生物具有低表面能,从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷,模板损坏等问题。
找到24项技术成果数据。
找技术 >高端纳米压印制备图形化蓝宝石衬底的研发
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
p 原理及技术特点 高亮度、高效率蓝光LED是LED照明光源未来的市场趋势。基于图形化蓝宝石衬底生长氮化镓外延技术是制备高效率蓝光LED的必由之路。目前蓝宝石衬底已全部由平片向图形化衬底(PSS)转变。市场上PSS技术是基于微米级别的表面结构,实现20-30%的出光效率提升。为更进一步提升出光效率,纳米级别的表面结构是下一代PSS技术的发展方向。基于200-300纳米的表面微纳结构(光子晶体)可实现70%的出光效率,提高器件亮度80%-120%,产业化LED光效达到2001m/W。同时,衬底上外延生长可缓解应力85%,大幅度减少缺陷,改善droop效应,衰减减缓约30%。图一:图形化蓝宝石衬底在蓝光LED器件中的应用尽管纳米PSS技术优势明显,但其技术门槛较高,主要体现在两个方面(1)光子晶体的设计较为复杂,特别是高出光效率的光子晶体结构设计需要用到近场光学模拟(2)亚微米的加工制造无法使用传统的黄光工艺,加工技术难度大,成本高。项目组成员过去十多年一直从事大面积表面微纳结构的加工研究,具备从设备开发、胶体材料制备、工艺优化的完整经验。采用卷对卷加工方式,可实现每小时图形化720片4时吋蓝宝石衬底。通过使用中间层软模板,大大减少图形化缺陷的产生。同时,项目组成员研究纳米光学结构有多年历史,熟悉光子晶体的工作原理和设计方法,能设计高效的基于光子晶体的纳米结构,实现高性能的蓝光LED器件。应用市场用于蓝色LED芯片生产,LED照明产业的最上游技术之一,主要客户为国内外氮化稼外延片生产厂家,市场规模在10亿美元以上。img title="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片88.png" alt="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片88.png" src="https://ue-upload.1633.com/2020/0427/1553097089818.png"/ /ppimg title="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片89.png" alt="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片89.png" src="https://ue-upload.1633.com/2020/0427/1553191149218.png"//p
纳米压印模板、系统及压印方法
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
提供了一种纳米压印模板、系统和压印方法。 纳米压印模板(10)包括 : 对紫外光透明的第一基板(100); 形成在第一基板(100)的第一表面上的压印图案结构(105); 在第一基板(100)的与第一表面相对的第二表面上形成的加热元件(110),其中加热元件(110)对紫外光是透明的; 以及第一电极对(115),形成在第二表面上,用于向加热元件(110)提供由外部电源施加的电流,以使加热部分(110)发热。 本发明将紫外光固化纳米压印技术与热塑性纳米压印技术无缝集成,具有设备体积小、成本低、工艺简单等优点。 当使用模板和系统进行热塑性纳米压印时,可以复制大面积的微纳米图案。 另外,利用模板和系统进行紫外光固化纳米压印时,达到了提高工艺通量和减少图案复制缺陷的目的。
大面积亚波长光学纳米结构的低成本快速微缩调整制备
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本项目的目标是以纳米压印光刻为基础,结合多种微纳加工工艺,提出一种新的工艺方法,达到避免使用直写工艺,针对性的解决对大面积光学纳米结构进行微缩调整时的成本难题,可对大面积亚波长光学纳米结构(例如AR增强现实衍射光栅)进行快速、低成本微缩调整和复形制备的目的。 本项目初期拟首先利用FDTD和RCWA方法对亚波长光学结构的方向特性和能量效率进行初步模拟仿真。同时,在初期搭建在大气环境下可大面积压印的紫外光软模纳米压印系统,并开发复合材料多层软模板,利用软模材料自身的重力,采取由中心点到边缘方案,实现大面积全尺寸无气泡的压印。项目中后期将基于以上的工艺开发,重点测试所设计的创新方法,对光学亚波长纳米结构(例如一维和二维衍射光栅)进行尺寸可调性研究, 并最终对已实现的参数进行优化和适配,将该尺寸微缩可调的工艺方法扩展至完整晶圆级大面积。 本项目的科技转化创新点在于,在不引入额外的复杂直写工艺的情况下,对已有的大面积纳米图形进行微调缩小和快速、低成本制备。可针对性的解决学术科研中的现实问题, 即在对大面积纳米结构做调整而引入直写工艺时所造成的巨大成本负担,从而将科研中的技术能力充分转化为工业产品。 首先将软模板固定于一机械圆环,待压印的基底固定于可抽气底座,二者以中心点对 准。利用自重,软模板的中心下垂,且整片软模板成弧形(a);基底底座以高速率上升, 基底的中心将首先与下垂的软模板中心接触(b);基底底座换以低速率上升,软模板与 基底的接触由中心点逐步向周边扩散(c);基底底座持续低速率上升,直至软模板与基 底实现完全接触,即完成压印过程(d);紫外光曝光;f)基底底座下降,完成软模板与 基底分离(e)。该压印方式,系统处于大气环境下,无需真空系统,可使用大尺寸的多 层复合软模板作为工作模板,支持大尺寸的基底(晶圆),实现全尺寸压印。压印以及基 底与软模板分离的过程可实现全自动化,从而获得最大程度的稳定性。 该项目拟引入中间模板的概念和步骤。该中间模板通过利用原母模板进行纳米压印可 简单快速实现。通过含有倾斜角度结构的中间模板进行分步压印,可将结构尺寸进行缩小 微调至目标模板的刻蚀掩模中,从而最终通过刻蚀实现结构的转移。 以分支1路为例,通过电子束光刻制备点阵结构的母模板,并沉积以FDTS单分子自 主装抗粘层(A);以母模板制备双层复合软模板(B);利用该软模板进行纳米压印(C); 通过优化低温刻蚀工艺制备锥形结构,作为中间模板(D);以锥形中间模板制备软模板 (E);利用锥形软模板进行纳米压印,将结构转移至光刻胶中(F);利用光刻胶的倾斜 角度,通过给予不同时间的刻蚀,可在刻蚀掩模中获得不同的结构尺寸(G-1/G-2/G-3); 最终利用该已调缩小尺寸的刻蚀掩模,最终通过可是获得目标微纳光学结构 (H-1/H-2/H-3),其尺寸获得了精确缩小调节 其他分支也可以同理进行实现。步骤三维结构俯视图剖面图步骤三维结构俯视图剖面图AG-10 •■ ■B□H-1i^^nnCo**G-20 0O 0DoH-2E■G-3♦BF■H-3♦i^^nn
纳米压印设备及工艺
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本项目“微纳米压印设备及其后续产品的研发及产业化”目标产品由两部分组成,一是应用于科研领域的各种微纳米压印设备、耗材及其相关技术服务,客户为国内外相关院校及科研机构;二是应用于民用及工业生产领域的纳米压印技术及产品,如:显示器减反增透膜,太阳能光伏板减反增透层加工,LED核心发光器件的生产及增加亮度的应用中,客户为显示产品生产厂商,太阳能光伏板生产商,LED发光器件生产制造商,新型光电子器件制造商,光学设备生产商。初步估计可应用本技术的产品及技术年市场规模为200亿至300亿人民币。 目前在中国纳米技术相关科研领域市场销售的纳米压印设备主要由国外公司垄断,其价格昂贵,技术支持缓慢等缺点严重限制了中国纳米压印技术的进展。本项目所研制制作的纳米压印设备,能够打破国外公司在此领域的垄断,在同样的设备性能的前提下,价格仅为国外公司产品的一半。由此将大力推动纳米压印技术在中国各研发领域的进展,推动国内在相关纳米技术领域拥有更多的自主知识产权。本项目所研发制作紫外压印及热压印一体压印设备的创新点有:采用双腔体气动压力原理,精密控制温度及压力,内部集成LED紫外光源系统,可实现热压印与紫外线压印的快速转换;能够实现对6英寸模板的一次全面积均匀压印;一个压印周期不超过5分钟;可实现对高硬度材料的压印,最高压印力度可达2.6kg/cm2;设备操作简单,易于维护; 与国外同类产品相比,价格低廉,具有极高的性价比。 能够快速、廉价、大面积、高质量进行纳米压印工艺的纳米压印设备及应用此设备进行压印产品的生产将对相关领域产品产生变革性影响。本项目所研发的应用于大规模压印产品生产的滚轮式紫外线软压印技术的关键创新点有:滚动连续压印,幅宽50至300mm,最小结构可至20nm,压印速度为30至300mm每分钟。应用本项目研发制造的压印设备进行操作,能制作出高质量、有实际应用的压印产品并能够代替现有的生产工艺且实现产业化。此工艺在太阳能光伏板减反增透层的制作中的推广,将代替已有的具有高污染的酸洗的工艺过程,在实现提高光伏板光电转换效率的同时能够减少环境污染,从而从根本上降低生产成本。此工艺在LED核心发光器件增透增亮工艺中的应用,能够起到提高LED器件亮度及质量,延长使用寿命的作用。本项目技术的推广产生数百亿元的产业效益。
一种纳米压印复合模板的制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
本发明属于纳米压印技术领域,具体公开了一种纳米压印复合模板的制备方法。首先使用拉伸设备将聚二甲基硅氧烷薄片拉伸;其次在单晶硅片上旋涂紫外光固化胶,将拉伸的聚二甲基硅氧烷薄片覆盖甩过胶的硅片表面并充分吸收紫外光固化胶;利用紫外光固化胶的固化在聚二甲基硅氧烷表面形成一层硬质层,收缩拉伸的聚二甲基硅氧烷来形成图案;最后利用反应粒子束刻蚀,在复合图案上形成键合,并表面防粘处理,得到一种制备价格低廉、微纳尺寸可调的用于纳米压印的复合模板。
纳米压印模板抗粘材料
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
技术投资分析:在纳米压印技术中,不论是热压印工艺还是紫外压印工艺,为了改善模板与压印胶间的作用力,均需要使用抗粘材料对模板进行表面处理。本项目主要设计合出纳米压印模板抗粘材料,并对其自组装行为和应用性能进行研究。技术的应用领域前景分析:在纳米科技中展现纳米尺度效应的关键是实现纳米尺度的结构与器件,而在目前具有纳米加工能力的各种技术中,纳米压印技术因低成本、高产量和高分辨率等特点成为其中一项最有应用前景的技术。效益分析:本技术市场应用范围广,成本低,效益十分可观。厂房条件建议:无备注:无
微纳米压印光刻工艺及装备
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:信息传输、软件和信息技术服务业
技术简介
项目介绍:微纳米结构成形是光电子制造中的核心工艺之一。压印光刻克服了传统光学光刻中光学衍射效应的限制,是一种经济、高效、高分辨的结构成形方法。正在探索的压印工艺方法包括:UV-NIL、模板电诱导自组装纳米成形、电润湿驱动纳米压印等。 正在探讨压印光刻的应用领域包括:集成电路(IC)、微机电系统(MEMS)、生物微流控、光波导、光或磁存储、有机光电子、平板显示等器件的制造。
一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明公开了一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法,所述方法中,采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板。本发明提供的基于纳米压印制备光学超构表面的方法,能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法,大幅度降低成本,并且缩短生产时间。本发明提供的方法在生产成本和生产时间上显著提高,实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本,大规模制作,具有良好的产业化前景。
一种制备光学超构表面的方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种制备光学超构表面的方法,基于纳米压印进行,采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板(3,10,11),能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法,大幅度降低成本,并且缩短生产时间,实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本、大规模制作,具有良好的产业化前景。
一种纳米压印光刻胶及其制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种纳米压印光刻胶及其制备方法;其中,纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分:有机小分子溶剂65~97%,树脂1~30%,氟化石墨及其衍生物0.01~5%,表面活性剂0.01~5%和添加剂0~1%。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物,因氟化石墨及其衍生物具有低表面能,从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷,模板损坏等问题。
找到24项技术成果数据。
找技术 >高端纳米压印制备图形化蓝宝石衬底的研发
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
p 原理及技术特点 高亮度、高效率蓝光LED是LED照明光源未来的市场趋势。基于图形化蓝宝石衬底生长氮化镓外延技术是制备高效率蓝光LED的必由之路。目前蓝宝石衬底已全部由平片向图形化衬底(PSS)转变。市场上PSS技术是基于微米级别的表面结构,实现20-30%的出光效率提升。为更进一步提升出光效率,纳米级别的表面结构是下一代PSS技术的发展方向。基于200-300纳米的表面微纳结构(光子晶体)可实现70%的出光效率,提高器件亮度80%-120%,产业化LED光效达到2001m/W。同时,衬底上外延生长可缓解应力85%,大幅度减少缺陷,改善droop效应,衰减减缓约30%。图一:图形化蓝宝石衬底在蓝光LED器件中的应用尽管纳米PSS技术优势明显,但其技术门槛较高,主要体现在两个方面(1)光子晶体的设计较为复杂,特别是高出光效率的光子晶体结构设计需要用到近场光学模拟(2)亚微米的加工制造无法使用传统的黄光工艺,加工技术难度大,成本高。项目组成员过去十多年一直从事大面积表面微纳结构的加工研究,具备从设备开发、胶体材料制备、工艺优化的完整经验。采用卷对卷加工方式,可实现每小时图形化720片4时吋蓝宝石衬底。通过使用中间层软模板,大大减少图形化缺陷的产生。同时,项目组成员研究纳米光学结构有多年历史,熟悉光子晶体的工作原理和设计方法,能设计高效的基于光子晶体的纳米结构,实现高性能的蓝光LED器件。应用市场用于蓝色LED芯片生产,LED照明产业的最上游技术之一,主要客户为国内外氮化稼外延片生产厂家,市场规模在10亿美元以上。img title="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片88.png" alt="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片88.png" src="https://ue-upload.1633.com/2020/0427/1553097089818.png"/ /ppimg title="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片89.png" alt="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片89.png" src="https://ue-upload.1633.com/2020/0427/1553191149218.png"//p
纳米压印模板、系统及压印方法
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
提供了一种纳米压印模板、系统和压印方法。 纳米压印模板(10)包括 : 对紫外光透明的第一基板(100); 形成在第一基板(100)的第一表面上的压印图案结构(105); 在第一基板(100)的与第一表面相对的第二表面上形成的加热元件(110),其中加热元件(110)对紫外光是透明的; 以及第一电极对(115),形成在第二表面上,用于向加热元件(110)提供由外部电源施加的电流,以使加热部分(110)发热。 本发明将紫外光固化纳米压印技术与热塑性纳米压印技术无缝集成,具有设备体积小、成本低、工艺简单等优点。 当使用模板和系统进行热塑性纳米压印时,可以复制大面积的微纳米图案。 另外,利用模板和系统进行紫外光固化纳米压印时,达到了提高工艺通量和减少图案复制缺陷的目的。
大面积亚波长光学纳米结构的低成本快速微缩调整制备
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本项目的目标是以纳米压印光刻为基础,结合多种微纳加工工艺,提出一种新的工艺方法,达到避免使用直写工艺,针对性的解决对大面积光学纳米结构进行微缩调整时的成本难题,可对大面积亚波长光学纳米结构(例如AR增强现实衍射光栅)进行快速、低成本微缩调整和复形制备的目的。 本项目初期拟首先利用FDTD和RCWA方法对亚波长光学结构的方向特性和能量效率进行初步模拟仿真。同时,在初期搭建在大气环境下可大面积压印的紫外光软模纳米压印系统,并开发复合材料多层软模板,利用软模材料自身的重力,采取由中心点到边缘方案,实现大面积全尺寸无气泡的压印。项目中后期将基于以上的工艺开发,重点测试所设计的创新方法,对光学亚波长纳米结构(例如一维和二维衍射光栅)进行尺寸可调性研究, 并最终对已实现的参数进行优化和适配,将该尺寸微缩可调的工艺方法扩展至完整晶圆级大面积。 本项目的科技转化创新点在于,在不引入额外的复杂直写工艺的情况下,对已有的大面积纳米图形进行微调缩小和快速、低成本制备。可针对性的解决学术科研中的现实问题, 即在对大面积纳米结构做调整而引入直写工艺时所造成的巨大成本负担,从而将科研中的技术能力充分转化为工业产品。 首先将软模板固定于一机械圆环,待压印的基底固定于可抽气底座,二者以中心点对 准。利用自重,软模板的中心下垂,且整片软模板成弧形(a);基底底座以高速率上升, 基底的中心将首先与下垂的软模板中心接触(b);基底底座换以低速率上升,软模板与 基底的接触由中心点逐步向周边扩散(c);基底底座持续低速率上升,直至软模板与基 底实现完全接触,即完成压印过程(d);紫外光曝光;f)基底底座下降,完成软模板与 基底分离(e)。该压印方式,系统处于大气环境下,无需真空系统,可使用大尺寸的多 层复合软模板作为工作模板,支持大尺寸的基底(晶圆),实现全尺寸压印。压印以及基 底与软模板分离的过程可实现全自动化,从而获得最大程度的稳定性。 该项目拟引入中间模板的概念和步骤。该中间模板通过利用原母模板进行纳米压印可 简单快速实现。通过含有倾斜角度结构的中间模板进行分步压印,可将结构尺寸进行缩小 微调至目标模板的刻蚀掩模中,从而最终通过刻蚀实现结构的转移。 以分支1路为例,通过电子束光刻制备点阵结构的母模板,并沉积以FDTS单分子自 主装抗粘层(A);以母模板制备双层复合软模板(B);利用该软模板进行纳米压印(C); 通过优化低温刻蚀工艺制备锥形结构,作为中间模板(D);以锥形中间模板制备软模板 (E);利用锥形软模板进行纳米压印,将结构转移至光刻胶中(F);利用光刻胶的倾斜 角度,通过给予不同时间的刻蚀,可在刻蚀掩模中获得不同的结构尺寸(G-1/G-2/G-3); 最终利用该已调缩小尺寸的刻蚀掩模,最终通过可是获得目标微纳光学结构 (H-1/H-2/H-3),其尺寸获得了精确缩小调节 其他分支也可以同理进行实现。步骤三维结构俯视图剖面图步骤三维结构俯视图剖面图AG-10 •■ ■B□H-1i^^nnCo**G-20 0O 0DoH-2E■G-3♦BF■H-3♦i^^nn
纳米压印设备及工艺
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本项目“微纳米压印设备及其后续产品的研发及产业化”目标产品由两部分组成,一是应用于科研领域的各种微纳米压印设备、耗材及其相关技术服务,客户为国内外相关院校及科研机构;二是应用于民用及工业生产领域的纳米压印技术及产品,如:显示器减反增透膜,太阳能光伏板减反增透层加工,LED核心发光器件的生产及增加亮度的应用中,客户为显示产品生产厂商,太阳能光伏板生产商,LED发光器件生产制造商,新型光电子器件制造商,光学设备生产商。初步估计可应用本技术的产品及技术年市场规模为200亿至300亿人民币。 目前在中国纳米技术相关科研领域市场销售的纳米压印设备主要由国外公司垄断,其价格昂贵,技术支持缓慢等缺点严重限制了中国纳米压印技术的进展。本项目所研制制作的纳米压印设备,能够打破国外公司在此领域的垄断,在同样的设备性能的前提下,价格仅为国外公司产品的一半。由此将大力推动纳米压印技术在中国各研发领域的进展,推动国内在相关纳米技术领域拥有更多的自主知识产权。本项目所研发制作紫外压印及热压印一体压印设备的创新点有:采用双腔体气动压力原理,精密控制温度及压力,内部集成LED紫外光源系统,可实现热压印与紫外线压印的快速转换;能够实现对6英寸模板的一次全面积均匀压印;一个压印周期不超过5分钟;可实现对高硬度材料的压印,最高压印力度可达2.6kg/cm2;设备操作简单,易于维护; 与国外同类产品相比,价格低廉,具有极高的性价比。 能够快速、廉价、大面积、高质量进行纳米压印工艺的纳米压印设备及应用此设备进行压印产品的生产将对相关领域产品产生变革性影响。本项目所研发的应用于大规模压印产品生产的滚轮式紫外线软压印技术的关键创新点有:滚动连续压印,幅宽50至300mm,最小结构可至20nm,压印速度为30至300mm每分钟。应用本项目研发制造的压印设备进行操作,能制作出高质量、有实际应用的压印产品并能够代替现有的生产工艺且实现产业化。此工艺在太阳能光伏板减反增透层的制作中的推广,将代替已有的具有高污染的酸洗的工艺过程,在实现提高光伏板光电转换效率的同时能够减少环境污染,从而从根本上降低生产成本。此工艺在LED核心发光器件增透增亮工艺中的应用,能够起到提高LED器件亮度及质量,延长使用寿命的作用。本项目技术的推广产生数百亿元的产业效益。
一种纳米压印复合模板的制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
本发明属于纳米压印技术领域,具体公开了一种纳米压印复合模板的制备方法。首先使用拉伸设备将聚二甲基硅氧烷薄片拉伸;其次在单晶硅片上旋涂紫外光固化胶,将拉伸的聚二甲基硅氧烷薄片覆盖甩过胶的硅片表面并充分吸收紫外光固化胶;利用紫外光固化胶的固化在聚二甲基硅氧烷表面形成一层硬质层,收缩拉伸的聚二甲基硅氧烷来形成图案;最后利用反应粒子束刻蚀,在复合图案上形成键合,并表面防粘处理,得到一种制备价格低廉、微纳尺寸可调的用于纳米压印的复合模板。
纳米压印模板抗粘材料
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
技术投资分析:在纳米压印技术中,不论是热压印工艺还是紫外压印工艺,为了改善模板与压印胶间的作用力,均需要使用抗粘材料对模板进行表面处理。本项目主要设计合出纳米压印模板抗粘材料,并对其自组装行为和应用性能进行研究。技术的应用领域前景分析:在纳米科技中展现纳米尺度效应的关键是实现纳米尺度的结构与器件,而在目前具有纳米加工能力的各种技术中,纳米压印技术因低成本、高产量和高分辨率等特点成为其中一项最有应用前景的技术。效益分析:本技术市场应用范围广,成本低,效益十分可观。厂房条件建议:无备注:无
微纳米压印光刻工艺及装备
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:信息传输、软件和信息技术服务业
技术简介
项目介绍:微纳米结构成形是光电子制造中的核心工艺之一。压印光刻克服了传统光学光刻中光学衍射效应的限制,是一种经济、高效、高分辨的结构成形方法。正在探索的压印工艺方法包括:UV-NIL、模板电诱导自组装纳米成形、电润湿驱动纳米压印等。 正在探讨压印光刻的应用领域包括:集成电路(IC)、微机电系统(MEMS)、生物微流控、光波导、光或磁存储、有机光电子、平板显示等器件的制造。
一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明公开了一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法,所述方法中,采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板。本发明提供的基于纳米压印制备光学超构表面的方法,能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法,大幅度降低成本,并且缩短生产时间。本发明提供的方法在生产成本和生产时间上显著提高,实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本,大规模制作,具有良好的产业化前景。
一种制备光学超构表面的方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种制备光学超构表面的方法,基于纳米压印进行,采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板(3,10,11),能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法,大幅度降低成本,并且缩短生产时间,实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本、大规模制作,具有良好的产业化前景。
一种纳米压印光刻胶及其制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种纳米压印光刻胶及其制备方法;其中,纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分:有机小分子溶剂65~97%,树脂1~30%,氟化石墨及其衍生物0.01~5%,表面活性剂0.01~5%和添加剂0~1%。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物,因氟化石墨及其衍生物具有低表面能,从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷,模板损坏等问题。
找到24项技术成果数据。
找技术 >高端纳米压印制备图形化蓝宝石衬底的研发
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
p 原理及技术特点 高亮度、高效率蓝光LED是LED照明光源未来的市场趋势。基于图形化蓝宝石衬底生长氮化镓外延技术是制备高效率蓝光LED的必由之路。目前蓝宝石衬底已全部由平片向图形化衬底(PSS)转变。市场上PSS技术是基于微米级别的表面结构,实现20-30%的出光效率提升。为更进一步提升出光效率,纳米级别的表面结构是下一代PSS技术的发展方向。基于200-300纳米的表面微纳结构(光子晶体)可实现70%的出光效率,提高器件亮度80%-120%,产业化LED光效达到2001m/W。同时,衬底上外延生长可缓解应力85%,大幅度减少缺陷,改善droop效应,衰减减缓约30%。图一:图形化蓝宝石衬底在蓝光LED器件中的应用尽管纳米PSS技术优势明显,但其技术门槛较高,主要体现在两个方面(1)光子晶体的设计较为复杂,特别是高出光效率的光子晶体结构设计需要用到近场光学模拟(2)亚微米的加工制造无法使用传统的黄光工艺,加工技术难度大,成本高。项目组成员过去十多年一直从事大面积表面微纳结构的加工研究,具备从设备开发、胶体材料制备、工艺优化的完整经验。采用卷对卷加工方式,可实现每小时图形化720片4时吋蓝宝石衬底。通过使用中间层软模板,大大减少图形化缺陷的产生。同时,项目组成员研究纳米光学结构有多年历史,熟悉光子晶体的工作原理和设计方法,能设计高效的基于光子晶体的纳米结构,实现高性能的蓝光LED器件。应用市场用于蓝色LED芯片生产,LED照明产业的最上游技术之一,主要客户为国内外氮化稼外延片生产厂家,市场规模在10亿美元以上。img title="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片88.png" alt="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片88.png" src="https://ue-upload.1633.com/2020/0427/1553097089818.png"/ /ppimg title="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片89.png" alt="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片89.png" src="https://ue-upload.1633.com/2020/0427/1553191149218.png"//p
纳米压印模板、系统及压印方法
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
提供了一种纳米压印模板、系统和压印方法。 纳米压印模板(10)包括 : 对紫外光透明的第一基板(100); 形成在第一基板(100)的第一表面上的压印图案结构(105); 在第一基板(100)的与第一表面相对的第二表面上形成的加热元件(110),其中加热元件(110)对紫外光是透明的; 以及第一电极对(115),形成在第二表面上,用于向加热元件(110)提供由外部电源施加的电流,以使加热部分(110)发热。 本发明将紫外光固化纳米压印技术与热塑性纳米压印技术无缝集成,具有设备体积小、成本低、工艺简单等优点。 当使用模板和系统进行热塑性纳米压印时,可以复制大面积的微纳米图案。 另外,利用模板和系统进行紫外光固化纳米压印时,达到了提高工艺通量和减少图案复制缺陷的目的。
大面积亚波长光学纳米结构的低成本快速微缩调整制备
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本项目的目标是以纳米压印光刻为基础,结合多种微纳加工工艺,提出一种新的工艺方法,达到避免使用直写工艺,针对性的解决对大面积光学纳米结构进行微缩调整时的成本难题,可对大面积亚波长光学纳米结构(例如AR增强现实衍射光栅)进行快速、低成本微缩调整和复形制备的目的。 本项目初期拟首先利用FDTD和RCWA方法对亚波长光学结构的方向特性和能量效率进行初步模拟仿真。同时,在初期搭建在大气环境下可大面积压印的紫外光软模纳米压印系统,并开发复合材料多层软模板,利用软模材料自身的重力,采取由中心点到边缘方案,实现大面积全尺寸无气泡的压印。项目中后期将基于以上的工艺开发,重点测试所设计的创新方法,对光学亚波长纳米结构(例如一维和二维衍射光栅)进行尺寸可调性研究, 并最终对已实现的参数进行优化和适配,将该尺寸微缩可调的工艺方法扩展至完整晶圆级大面积。 本项目的科技转化创新点在于,在不引入额外的复杂直写工艺的情况下,对已有的大面积纳米图形进行微调缩小和快速、低成本制备。可针对性的解决学术科研中的现实问题, 即在对大面积纳米结构做调整而引入直写工艺时所造成的巨大成本负担,从而将科研中的技术能力充分转化为工业产品。 首先将软模板固定于一机械圆环,待压印的基底固定于可抽气底座,二者以中心点对 准。利用自重,软模板的中心下垂,且整片软模板成弧形(a);基底底座以高速率上升, 基底的中心将首先与下垂的软模板中心接触(b);基底底座换以低速率上升,软模板与 基底的接触由中心点逐步向周边扩散(c);基底底座持续低速率上升,直至软模板与基 底实现完全接触,即完成压印过程(d);紫外光曝光;f)基底底座下降,完成软模板与 基底分离(e)。该压印方式,系统处于大气环境下,无需真空系统,可使用大尺寸的多 层复合软模板作为工作模板,支持大尺寸的基底(晶圆),实现全尺寸压印。压印以及基 底与软模板分离的过程可实现全自动化,从而获得最大程度的稳定性。 该项目拟引入中间模板的概念和步骤。该中间模板通过利用原母模板进行纳米压印可 简单快速实现。通过含有倾斜角度结构的中间模板进行分步压印,可将结构尺寸进行缩小 微调至目标模板的刻蚀掩模中,从而最终通过刻蚀实现结构的转移。 以分支1路为例,通过电子束光刻制备点阵结构的母模板,并沉积以FDTS单分子自 主装抗粘层(A);以母模板制备双层复合软模板(B);利用该软模板进行纳米压印(C); 通过优化低温刻蚀工艺制备锥形结构,作为中间模板(D);以锥形中间模板制备软模板 (E);利用锥形软模板进行纳米压印,将结构转移至光刻胶中(F);利用光刻胶的倾斜 角度,通过给予不同时间的刻蚀,可在刻蚀掩模中获得不同的结构尺寸(G-1/G-2/G-3); 最终利用该已调缩小尺寸的刻蚀掩模,最终通过可是获得目标微纳光学结构 (H-1/H-2/H-3),其尺寸获得了精确缩小调节 其他分支也可以同理进行实现。步骤三维结构俯视图剖面图步骤三维结构俯视图剖面图AG-10 •■ ■B□H-1i^^nnCo**G-20 0O 0DoH-2E■G-3♦BF■H-3♦i^^nn
纳米压印设备及工艺
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本项目“微纳米压印设备及其后续产品的研发及产业化”目标产品由两部分组成,一是应用于科研领域的各种微纳米压印设备、耗材及其相关技术服务,客户为国内外相关院校及科研机构;二是应用于民用及工业生产领域的纳米压印技术及产品,如:显示器减反增透膜,太阳能光伏板减反增透层加工,LED核心发光器件的生产及增加亮度的应用中,客户为显示产品生产厂商,太阳能光伏板生产商,LED发光器件生产制造商,新型光电子器件制造商,光学设备生产商。初步估计可应用本技术的产品及技术年市场规模为200亿至300亿人民币。 目前在中国纳米技术相关科研领域市场销售的纳米压印设备主要由国外公司垄断,其价格昂贵,技术支持缓慢等缺点严重限制了中国纳米压印技术的进展。本项目所研制制作的纳米压印设备,能够打破国外公司在此领域的垄断,在同样的设备性能的前提下,价格仅为国外公司产品的一半。由此将大力推动纳米压印技术在中国各研发领域的进展,推动国内在相关纳米技术领域拥有更多的自主知识产权。本项目所研发制作紫外压印及热压印一体压印设备的创新点有:采用双腔体气动压力原理,精密控制温度及压力,内部集成LED紫外光源系统,可实现热压印与紫外线压印的快速转换;能够实现对6英寸模板的一次全面积均匀压印;一个压印周期不超过5分钟;可实现对高硬度材料的压印,最高压印力度可达2.6kg/cm2;设备操作简单,易于维护; 与国外同类产品相比,价格低廉,具有极高的性价比。 能够快速、廉价、大面积、高质量进行纳米压印工艺的纳米压印设备及应用此设备进行压印产品的生产将对相关领域产品产生变革性影响。本项目所研发的应用于大规模压印产品生产的滚轮式紫外线软压印技术的关键创新点有:滚动连续压印,幅宽50至300mm,最小结构可至20nm,压印速度为30至300mm每分钟。应用本项目研发制造的压印设备进行操作,能制作出高质量、有实际应用的压印产品并能够代替现有的生产工艺且实现产业化。此工艺在太阳能光伏板减反增透层的制作中的推广,将代替已有的具有高污染的酸洗的工艺过程,在实现提高光伏板光电转换效率的同时能够减少环境污染,从而从根本上降低生产成本。此工艺在LED核心发光器件增透增亮工艺中的应用,能够起到提高LED器件亮度及质量,延长使用寿命的作用。本项目技术的推广产生数百亿元的产业效益。
一种纳米压印复合模板的制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
本发明属于纳米压印技术领域,具体公开了一种纳米压印复合模板的制备方法。首先使用拉伸设备将聚二甲基硅氧烷薄片拉伸;其次在单晶硅片上旋涂紫外光固化胶,将拉伸的聚二甲基硅氧烷薄片覆盖甩过胶的硅片表面并充分吸收紫外光固化胶;利用紫外光固化胶的固化在聚二甲基硅氧烷表面形成一层硬质层,收缩拉伸的聚二甲基硅氧烷来形成图案;最后利用反应粒子束刻蚀,在复合图案上形成键合,并表面防粘处理,得到一种制备价格低廉、微纳尺寸可调的用于纳米压印的复合模板。
纳米压印模板抗粘材料
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
技术投资分析:在纳米压印技术中,不论是热压印工艺还是紫外压印工艺,为了改善模板与压印胶间的作用力,均需要使用抗粘材料对模板进行表面处理。本项目主要设计合出纳米压印模板抗粘材料,并对其自组装行为和应用性能进行研究。技术的应用领域前景分析:在纳米科技中展现纳米尺度效应的关键是实现纳米尺度的结构与器件,而在目前具有纳米加工能力的各种技术中,纳米压印技术因低成本、高产量和高分辨率等特点成为其中一项最有应用前景的技术。效益分析:本技术市场应用范围广,成本低,效益十分可观。厂房条件建议:无备注:无
微纳米压印光刻工艺及装备
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:信息传输、软件和信息技术服务业
技术简介
项目介绍:微纳米结构成形是光电子制造中的核心工艺之一。压印光刻克服了传统光学光刻中光学衍射效应的限制,是一种经济、高效、高分辨的结构成形方法。正在探索的压印工艺方法包括:UV-NIL、模板电诱导自组装纳米成形、电润湿驱动纳米压印等。 正在探讨压印光刻的应用领域包括:集成电路(IC)、微机电系统(MEMS)、生物微流控、光波导、光或磁存储、有机光电子、平板显示等器件的制造。
一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明公开了一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法,所述方法中,采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板。本发明提供的基于纳米压印制备光学超构表面的方法,能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法,大幅度降低成本,并且缩短生产时间。本发明提供的方法在生产成本和生产时间上显著提高,实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本,大规模制作,具有良好的产业化前景。
一种制备光学超构表面的方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种制备光学超构表面的方法,基于纳米压印进行,采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板(3,10,11),能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法,大幅度降低成本,并且缩短生产时间,实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本、大规模制作,具有良好的产业化前景。
一种纳米压印光刻胶及其制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种纳米压印光刻胶及其制备方法;其中,纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分:有机小分子溶剂65~97%,树脂1~30%,氟化石墨及其衍生物0.01~5%,表面活性剂0.01~5%和添加剂0~1%。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物,因氟化石墨及其衍生物具有低表面能,从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷,模板损坏等问题。
找到24项技术成果数据。
找技术 >高端纳米压印制备图形化蓝宝石衬底的研发
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
p 原理及技术特点 高亮度、高效率蓝光LED是LED照明光源未来的市场趋势。基于图形化蓝宝石衬底生长氮化镓外延技术是制备高效率蓝光LED的必由之路。目前蓝宝石衬底已全部由平片向图形化衬底(PSS)转变。市场上PSS技术是基于微米级别的表面结构,实现20-30%的出光效率提升。为更进一步提升出光效率,纳米级别的表面结构是下一代PSS技术的发展方向。基于200-300纳米的表面微纳结构(光子晶体)可实现70%的出光效率,提高器件亮度80%-120%,产业化LED光效达到2001m/W。同时,衬底上外延生长可缓解应力85%,大幅度减少缺陷,改善droop效应,衰减减缓约30%。图一:图形化蓝宝石衬底在蓝光LED器件中的应用尽管纳米PSS技术优势明显,但其技术门槛较高,主要体现在两个方面(1)光子晶体的设计较为复杂,特别是高出光效率的光子晶体结构设计需要用到近场光学模拟(2)亚微米的加工制造无法使用传统的黄光工艺,加工技术难度大,成本高。项目组成员过去十多年一直从事大面积表面微纳结构的加工研究,具备从设备开发、胶体材料制备、工艺优化的完整经验。采用卷对卷加工方式,可实现每小时图形化720片4时吋蓝宝石衬底。通过使用中间层软模板,大大减少图形化缺陷的产生。同时,项目组成员研究纳米光学结构有多年历史,熟悉光子晶体的工作原理和设计方法,能设计高效的基于光子晶体的纳米结构,实现高性能的蓝光LED器件。应用市场用于蓝色LED芯片生产,LED照明产业的最上游技术之一,主要客户为国内外氮化稼外延片生产厂家,市场规模在10亿美元以上。img title="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片88.png" alt="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片88.png" src="https://ue-upload.1633.com/2020/0427/1553097089818.png"/ /ppimg title="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片89.png" alt="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片89.png" src="https://ue-upload.1633.com/2020/0427/1553191149218.png"//p
纳米压印模板、系统及压印方法
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
提供了一种纳米压印模板、系统和压印方法。 纳米压印模板(10)包括 : 对紫外光透明的第一基板(100); 形成在第一基板(100)的第一表面上的压印图案结构(105); 在第一基板(100)的与第一表面相对的第二表面上形成的加热元件(110),其中加热元件(110)对紫外光是透明的; 以及第一电极对(115),形成在第二表面上,用于向加热元件(110)提供由外部电源施加的电流,以使加热部分(110)发热。 本发明将紫外光固化纳米压印技术与热塑性纳米压印技术无缝集成,具有设备体积小、成本低、工艺简单等优点。 当使用模板和系统进行热塑性纳米压印时,可以复制大面积的微纳米图案。 另外,利用模板和系统进行紫外光固化纳米压印时,达到了提高工艺通量和减少图案复制缺陷的目的。
大面积亚波长光学纳米结构的低成本快速微缩调整制备
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本项目的目标是以纳米压印光刻为基础,结合多种微纳加工工艺,提出一种新的工艺方法,达到避免使用直写工艺,针对性的解决对大面积光学纳米结构进行微缩调整时的成本难题,可对大面积亚波长光学纳米结构(例如AR增强现实衍射光栅)进行快速、低成本微缩调整和复形制备的目的。 本项目初期拟首先利用FDTD和RCWA方法对亚波长光学结构的方向特性和能量效率进行初步模拟仿真。同时,在初期搭建在大气环境下可大面积压印的紫外光软模纳米压印系统,并开发复合材料多层软模板,利用软模材料自身的重力,采取由中心点到边缘方案,实现大面积全尺寸无气泡的压印。项目中后期将基于以上的工艺开发,重点测试所设计的创新方法,对光学亚波长纳米结构(例如一维和二维衍射光栅)进行尺寸可调性研究, 并最终对已实现的参数进行优化和适配,将该尺寸微缩可调的工艺方法扩展至完整晶圆级大面积。 本项目的科技转化创新点在于,在不引入额外的复杂直写工艺的情况下,对已有的大面积纳米图形进行微调缩小和快速、低成本制备。可针对性的解决学术科研中的现实问题, 即在对大面积纳米结构做调整而引入直写工艺时所造成的巨大成本负担,从而将科研中的技术能力充分转化为工业产品。 首先将软模板固定于一机械圆环,待压印的基底固定于可抽气底座,二者以中心点对 准。利用自重,软模板的中心下垂,且整片软模板成弧形(a);基底底座以高速率上升, 基底的中心将首先与下垂的软模板中心接触(b);基底底座换以低速率上升,软模板与 基底的接触由中心点逐步向周边扩散(c);基底底座持续低速率上升,直至软模板与基 底实现完全接触,即完成压印过程(d);紫外光曝光;f)基底底座下降,完成软模板与 基底分离(e)。该压印方式,系统处于大气环境下,无需真空系统,可使用大尺寸的多 层复合软模板作为工作模板,支持大尺寸的基底(晶圆),实现全尺寸压印。压印以及基 底与软模板分离的过程可实现全自动化,从而获得最大程度的稳定性。 该项目拟引入中间模板的概念和步骤。该中间模板通过利用原母模板进行纳米压印可 简单快速实现。通过含有倾斜角度结构的中间模板进行分步压印,可将结构尺寸进行缩小 微调至目标模板的刻蚀掩模中,从而最终通过刻蚀实现结构的转移。 以分支1路为例,通过电子束光刻制备点阵结构的母模板,并沉积以FDTS单分子自 主装抗粘层(A);以母模板制备双层复合软模板(B);利用该软模板进行纳米压印(C); 通过优化低温刻蚀工艺制备锥形结构,作为中间模板(D);以锥形中间模板制备软模板 (E);利用锥形软模板进行纳米压印,将结构转移至光刻胶中(F);利用光刻胶的倾斜 角度,通过给予不同时间的刻蚀,可在刻蚀掩模中获得不同的结构尺寸(G-1/G-2/G-3); 最终利用该已调缩小尺寸的刻蚀掩模,最终通过可是获得目标微纳光学结构 (H-1/H-2/H-3),其尺寸获得了精确缩小调节 其他分支也可以同理进行实现。步骤三维结构俯视图剖面图步骤三维结构俯视图剖面图AG-10 •■ ■B□H-1i^^nnCo**G-20 0O 0DoH-2E■G-3♦BF■H-3♦i^^nn
纳米压印设备及工艺
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本项目“微纳米压印设备及其后续产品的研发及产业化”目标产品由两部分组成,一是应用于科研领域的各种微纳米压印设备、耗材及其相关技术服务,客户为国内外相关院校及科研机构;二是应用于民用及工业生产领域的纳米压印技术及产品,如:显示器减反增透膜,太阳能光伏板减反增透层加工,LED核心发光器件的生产及增加亮度的应用中,客户为显示产品生产厂商,太阳能光伏板生产商,LED发光器件生产制造商,新型光电子器件制造商,光学设备生产商。初步估计可应用本技术的产品及技术年市场规模为200亿至300亿人民币。 目前在中国纳米技术相关科研领域市场销售的纳米压印设备主要由国外公司垄断,其价格昂贵,技术支持缓慢等缺点严重限制了中国纳米压印技术的进展。本项目所研制制作的纳米压印设备,能够打破国外公司在此领域的垄断,在同样的设备性能的前提下,价格仅为国外公司产品的一半。由此将大力推动纳米压印技术在中国各研发领域的进展,推动国内在相关纳米技术领域拥有更多的自主知识产权。本项目所研发制作紫外压印及热压印一体压印设备的创新点有:采用双腔体气动压力原理,精密控制温度及压力,内部集成LED紫外光源系统,可实现热压印与紫外线压印的快速转换;能够实现对6英寸模板的一次全面积均匀压印;一个压印周期不超过5分钟;可实现对高硬度材料的压印,最高压印力度可达2.6kg/cm2;设备操作简单,易于维护; 与国外同类产品相比,价格低廉,具有极高的性价比。 能够快速、廉价、大面积、高质量进行纳米压印工艺的纳米压印设备及应用此设备进行压印产品的生产将对相关领域产品产生变革性影响。本项目所研发的应用于大规模压印产品生产的滚轮式紫外线软压印技术的关键创新点有:滚动连续压印,幅宽50至300mm,最小结构可至20nm,压印速度为30至300mm每分钟。应用本项目研发制造的压印设备进行操作,能制作出高质量、有实际应用的压印产品并能够代替现有的生产工艺且实现产业化。此工艺在太阳能光伏板减反增透层的制作中的推广,将代替已有的具有高污染的酸洗的工艺过程,在实现提高光伏板光电转换效率的同时能够减少环境污染,从而从根本上降低生产成本。此工艺在LED核心发光器件增透增亮工艺中的应用,能够起到提高LED器件亮度及质量,延长使用寿命的作用。本项目技术的推广产生数百亿元的产业效益。
一种纳米压印复合模板的制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
本发明属于纳米压印技术领域,具体公开了一种纳米压印复合模板的制备方法。首先使用拉伸设备将聚二甲基硅氧烷薄片拉伸;其次在单晶硅片上旋涂紫外光固化胶,将拉伸的聚二甲基硅氧烷薄片覆盖甩过胶的硅片表面并充分吸收紫外光固化胶;利用紫外光固化胶的固化在聚二甲基硅氧烷表面形成一层硬质层,收缩拉伸的聚二甲基硅氧烷来形成图案;最后利用反应粒子束刻蚀,在复合图案上形成键合,并表面防粘处理,得到一种制备价格低廉、微纳尺寸可调的用于纳米压印的复合模板。
纳米压印模板抗粘材料
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
技术投资分析:在纳米压印技术中,不论是热压印工艺还是紫外压印工艺,为了改善模板与压印胶间的作用力,均需要使用抗粘材料对模板进行表面处理。本项目主要设计合出纳米压印模板抗粘材料,并对其自组装行为和应用性能进行研究。技术的应用领域前景分析:在纳米科技中展现纳米尺度效应的关键是实现纳米尺度的结构与器件,而在目前具有纳米加工能力的各种技术中,纳米压印技术因低成本、高产量和高分辨率等特点成为其中一项最有应用前景的技术。效益分析:本技术市场应用范围广,成本低,效益十分可观。厂房条件建议:无备注:无
微纳米压印光刻工艺及装备
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:信息传输、软件和信息技术服务业
技术简介
项目介绍:微纳米结构成形是光电子制造中的核心工艺之一。压印光刻克服了传统光学光刻中光学衍射效应的限制,是一种经济、高效、高分辨的结构成形方法。正在探索的压印工艺方法包括:UV-NIL、模板电诱导自组装纳米成形、电润湿驱动纳米压印等。 正在探讨压印光刻的应用领域包括:集成电路(IC)、微机电系统(MEMS)、生物微流控、光波导、光或磁存储、有机光电子、平板显示等器件的制造。
一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明公开了一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法,所述方法中,采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板。本发明提供的基于纳米压印制备光学超构表面的方法,能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法,大幅度降低成本,并且缩短生产时间。本发明提供的方法在生产成本和生产时间上显著提高,实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本,大规模制作,具有良好的产业化前景。
一种制备光学超构表面的方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种制备光学超构表面的方法,基于纳米压印进行,采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板(3,10,11),能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法,大幅度降低成本,并且缩短生产时间,实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本、大规模制作,具有良好的产业化前景。
一种纳米压印光刻胶及其制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种纳米压印光刻胶及其制备方法;其中,纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分:有机小分子溶剂65~97%,树脂1~30%,氟化石墨及其衍生物0.01~5%,表面活性剂0.01~5%和添加剂0~1%。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物,因氟化石墨及其衍生物具有低表面能,从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷,模板损坏等问题。
找到24项技术成果数据。
找技术 >高端纳米压印制备图形化蓝宝石衬底的研发
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
p 原理及技术特点 高亮度、高效率蓝光LED是LED照明光源未来的市场趋势。基于图形化蓝宝石衬底生长氮化镓外延技术是制备高效率蓝光LED的必由之路。目前蓝宝石衬底已全部由平片向图形化衬底(PSS)转变。市场上PSS技术是基于微米级别的表面结构,实现20-30%的出光效率提升。为更进一步提升出光效率,纳米级别的表面结构是下一代PSS技术的发展方向。基于200-300纳米的表面微纳结构(光子晶体)可实现70%的出光效率,提高器件亮度80%-120%,产业化LED光效达到2001m/W。同时,衬底上外延生长可缓解应力85%,大幅度减少缺陷,改善droop效应,衰减减缓约30%。图一:图形化蓝宝石衬底在蓝光LED器件中的应用尽管纳米PSS技术优势明显,但其技术门槛较高,主要体现在两个方面(1)光子晶体的设计较为复杂,特别是高出光效率的光子晶体结构设计需要用到近场光学模拟(2)亚微米的加工制造无法使用传统的黄光工艺,加工技术难度大,成本高。项目组成员过去十多年一直从事大面积表面微纳结构的加工研究,具备从设备开发、胶体材料制备、工艺优化的完整经验。采用卷对卷加工方式,可实现每小时图形化720片4时吋蓝宝石衬底。通过使用中间层软模板,大大减少图形化缺陷的产生。同时,项目组成员研究纳米光学结构有多年历史,熟悉光子晶体的工作原理和设计方法,能设计高效的基于光子晶体的纳米结构,实现高性能的蓝光LED器件。应用市场用于蓝色LED芯片生产,LED照明产业的最上游技术之一,主要客户为国内外氮化稼外延片生产厂家,市场规模在10亿美元以上。img title="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片88.png" alt="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片88.png" src="https://ue-upload.1633.com/2020/0427/1553097089818.png"/ /ppimg title="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片89.png" alt="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片89.png" src="https://ue-upload.1633.com/2020/0427/1553191149218.png"//p
纳米压印模板、系统及压印方法
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
提供了一种纳米压印模板、系统和压印方法。 纳米压印模板(10)包括 : 对紫外光透明的第一基板(100); 形成在第一基板(100)的第一表面上的压印图案结构(105); 在第一基板(100)的与第一表面相对的第二表面上形成的加热元件(110),其中加热元件(110)对紫外光是透明的; 以及第一电极对(115),形成在第二表面上,用于向加热元件(110)提供由外部电源施加的电流,以使加热部分(110)发热。 本发明将紫外光固化纳米压印技术与热塑性纳米压印技术无缝集成,具有设备体积小、成本低、工艺简单等优点。 当使用模板和系统进行热塑性纳米压印时,可以复制大面积的微纳米图案。 另外,利用模板和系统进行紫外光固化纳米压印时,达到了提高工艺通量和减少图案复制缺陷的目的。
大面积亚波长光学纳米结构的低成本快速微缩调整制备
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本项目的目标是以纳米压印光刻为基础,结合多种微纳加工工艺,提出一种新的工艺方法,达到避免使用直写工艺,针对性的解决对大面积光学纳米结构进行微缩调整时的成本难题,可对大面积亚波长光学纳米结构(例如AR增强现实衍射光栅)进行快速、低成本微缩调整和复形制备的目的。 本项目初期拟首先利用FDTD和RCWA方法对亚波长光学结构的方向特性和能量效率进行初步模拟仿真。同时,在初期搭建在大气环境下可大面积压印的紫外光软模纳米压印系统,并开发复合材料多层软模板,利用软模材料自身的重力,采取由中心点到边缘方案,实现大面积全尺寸无气泡的压印。项目中后期将基于以上的工艺开发,重点测试所设计的创新方法,对光学亚波长纳米结构(例如一维和二维衍射光栅)进行尺寸可调性研究, 并最终对已实现的参数进行优化和适配,将该尺寸微缩可调的工艺方法扩展至完整晶圆级大面积。 本项目的科技转化创新点在于,在不引入额外的复杂直写工艺的情况下,对已有的大面积纳米图形进行微调缩小和快速、低成本制备。可针对性的解决学术科研中的现实问题, 即在对大面积纳米结构做调整而引入直写工艺时所造成的巨大成本负担,从而将科研中的技术能力充分转化为工业产品。 首先将软模板固定于一机械圆环,待压印的基底固定于可抽气底座,二者以中心点对 准。利用自重,软模板的中心下垂,且整片软模板成弧形(a);基底底座以高速率上升, 基底的中心将首先与下垂的软模板中心接触(b);基底底座换以低速率上升,软模板与 基底的接触由中心点逐步向周边扩散(c);基底底座持续低速率上升,直至软模板与基 底实现完全接触,即完成压印过程(d);紫外光曝光;f)基底底座下降,完成软模板与 基底分离(e)。该压印方式,系统处于大气环境下,无需真空系统,可使用大尺寸的多 层复合软模板作为工作模板,支持大尺寸的基底(晶圆),实现全尺寸压印。压印以及基 底与软模板分离的过程可实现全自动化,从而获得最大程度的稳定性。 该项目拟引入中间模板的概念和步骤。该中间模板通过利用原母模板进行纳米压印可 简单快速实现。通过含有倾斜角度结构的中间模板进行分步压印,可将结构尺寸进行缩小 微调至目标模板的刻蚀掩模中,从而最终通过刻蚀实现结构的转移。 以分支1路为例,通过电子束光刻制备点阵结构的母模板,并沉积以FDTS单分子自 主装抗粘层(A);以母模板制备双层复合软模板(B);利用该软模板进行纳米压印(C); 通过优化低温刻蚀工艺制备锥形结构,作为中间模板(D);以锥形中间模板制备软模板 (E);利用锥形软模板进行纳米压印,将结构转移至光刻胶中(F);利用光刻胶的倾斜 角度,通过给予不同时间的刻蚀,可在刻蚀掩模中获得不同的结构尺寸(G-1/G-2/G-3); 最终利用该已调缩小尺寸的刻蚀掩模,最终通过可是获得目标微纳光学结构 (H-1/H-2/H-3),其尺寸获得了精确缩小调节 其他分支也可以同理进行实现。步骤三维结构俯视图剖面图步骤三维结构俯视图剖面图AG-10 •■ ■B□H-1i^^nnCo**G-20 0O 0DoH-2E■G-3♦BF■H-3♦i^^nn
纳米压印设备及工艺
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本项目“微纳米压印设备及其后续产品的研发及产业化”目标产品由两部分组成,一是应用于科研领域的各种微纳米压印设备、耗材及其相关技术服务,客户为国内外相关院校及科研机构;二是应用于民用及工业生产领域的纳米压印技术及产品,如:显示器减反增透膜,太阳能光伏板减反增透层加工,LED核心发光器件的生产及增加亮度的应用中,客户为显示产品生产厂商,太阳能光伏板生产商,LED发光器件生产制造商,新型光电子器件制造商,光学设备生产商。初步估计可应用本技术的产品及技术年市场规模为200亿至300亿人民币。 目前在中国纳米技术相关科研领域市场销售的纳米压印设备主要由国外公司垄断,其价格昂贵,技术支持缓慢等缺点严重限制了中国纳米压印技术的进展。本项目所研制制作的纳米压印设备,能够打破国外公司在此领域的垄断,在同样的设备性能的前提下,价格仅为国外公司产品的一半。由此将大力推动纳米压印技术在中国各研发领域的进展,推动国内在相关纳米技术领域拥有更多的自主知识产权。本项目所研发制作紫外压印及热压印一体压印设备的创新点有:采用双腔体气动压力原理,精密控制温度及压力,内部集成LED紫外光源系统,可实现热压印与紫外线压印的快速转换;能够实现对6英寸模板的一次全面积均匀压印;一个压印周期不超过5分钟;可实现对高硬度材料的压印,最高压印力度可达2.6kg/cm2;设备操作简单,易于维护; 与国外同类产品相比,价格低廉,具有极高的性价比。 能够快速、廉价、大面积、高质量进行纳米压印工艺的纳米压印设备及应用此设备进行压印产品的生产将对相关领域产品产生变革性影响。本项目所研发的应用于大规模压印产品生产的滚轮式紫外线软压印技术的关键创新点有:滚动连续压印,幅宽50至300mm,最小结构可至20nm,压印速度为30至300mm每分钟。应用本项目研发制造的压印设备进行操作,能制作出高质量、有实际应用的压印产品并能够代替现有的生产工艺且实现产业化。此工艺在太阳能光伏板减反增透层的制作中的推广,将代替已有的具有高污染的酸洗的工艺过程,在实现提高光伏板光电转换效率的同时能够减少环境污染,从而从根本上降低生产成本。此工艺在LED核心发光器件增透增亮工艺中的应用,能够起到提高LED器件亮度及质量,延长使用寿命的作用。本项目技术的推广产生数百亿元的产业效益。
一种纳米压印复合模板的制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
本发明属于纳米压印技术领域,具体公开了一种纳米压印复合模板的制备方法。首先使用拉伸设备将聚二甲基硅氧烷薄片拉伸;其次在单晶硅片上旋涂紫外光固化胶,将拉伸的聚二甲基硅氧烷薄片覆盖甩过胶的硅片表面并充分吸收紫外光固化胶;利用紫外光固化胶的固化在聚二甲基硅氧烷表面形成一层硬质层,收缩拉伸的聚二甲基硅氧烷来形成图案;最后利用反应粒子束刻蚀,在复合图案上形成键合,并表面防粘处理,得到一种制备价格低廉、微纳尺寸可调的用于纳米压印的复合模板。
纳米压印模板抗粘材料
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
技术投资分析:在纳米压印技术中,不论是热压印工艺还是紫外压印工艺,为了改善模板与压印胶间的作用力,均需要使用抗粘材料对模板进行表面处理。本项目主要设计合出纳米压印模板抗粘材料,并对其自组装行为和应用性能进行研究。技术的应用领域前景分析:在纳米科技中展现纳米尺度效应的关键是实现纳米尺度的结构与器件,而在目前具有纳米加工能力的各种技术中,纳米压印技术因低成本、高产量和高分辨率等特点成为其中一项最有应用前景的技术。效益分析:本技术市场应用范围广,成本低,效益十分可观。厂房条件建议:无备注:无
微纳米压印光刻工艺及装备
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:信息传输、软件和信息技术服务业
技术简介
项目介绍:微纳米结构成形是光电子制造中的核心工艺之一。压印光刻克服了传统光学光刻中光学衍射效应的限制,是一种经济、高效、高分辨的结构成形方法。正在探索的压印工艺方法包括:UV-NIL、模板电诱导自组装纳米成形、电润湿驱动纳米压印等。 正在探讨压印光刻的应用领域包括:集成电路(IC)、微机电系统(MEMS)、生物微流控、光波导、光或磁存储、有机光电子、平板显示等器件的制造。
一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明公开了一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法,所述方法中,采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板。本发明提供的基于纳米压印制备光学超构表面的方法,能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法,大幅度降低成本,并且缩短生产时间。本发明提供的方法在生产成本和生产时间上显著提高,实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本,大规模制作,具有良好的产业化前景。
一种制备光学超构表面的方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种制备光学超构表面的方法,基于纳米压印进行,采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板(3,10,11),能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法,大幅度降低成本,并且缩短生产时间,实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本、大规模制作,具有良好的产业化前景。
一种纳米压印光刻胶及其制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种纳米压印光刻胶及其制备方法;其中,纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分:有机小分子溶剂65~97%,树脂1~30%,氟化石墨及其衍生物0.01~5%,表面活性剂0.01~5%和添加剂0~1%。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物,因氟化石墨及其衍生物具有低表面能,从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷,模板损坏等问题。
找到24项技术成果数据。
找技术 >高端纳米压印制备图形化蓝宝石衬底的研发
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
p 原理及技术特点 高亮度、高效率蓝光LED是LED照明光源未来的市场趋势。基于图形化蓝宝石衬底生长氮化镓外延技术是制备高效率蓝光LED的必由之路。目前蓝宝石衬底已全部由平片向图形化衬底(PSS)转变。市场上PSS技术是基于微米级别的表面结构,实现20-30%的出光效率提升。为更进一步提升出光效率,纳米级别的表面结构是下一代PSS技术的发展方向。基于200-300纳米的表面微纳结构(光子晶体)可实现70%的出光效率,提高器件亮度80%-120%,产业化LED光效达到2001m/W。同时,衬底上外延生长可缓解应力85%,大幅度减少缺陷,改善droop效应,衰减减缓约30%。图一:图形化蓝宝石衬底在蓝光LED器件中的应用尽管纳米PSS技术优势明显,但其技术门槛较高,主要体现在两个方面(1)光子晶体的设计较为复杂,特别是高出光效率的光子晶体结构设计需要用到近场光学模拟(2)亚微米的加工制造无法使用传统的黄光工艺,加工技术难度大,成本高。项目组成员过去十多年一直从事大面积表面微纳结构的加工研究,具备从设备开发、胶体材料制备、工艺优化的完整经验。采用卷对卷加工方式,可实现每小时图形化720片4时吋蓝宝石衬底。通过使用中间层软模板,大大减少图形化缺陷的产生。同时,项目组成员研究纳米光学结构有多年历史,熟悉光子晶体的工作原理和设计方法,能设计高效的基于光子晶体的纳米结构,实现高性能的蓝光LED器件。应用市场用于蓝色LED芯片生产,LED照明产业的最上游技术之一,主要客户为国内外氮化稼外延片生产厂家,市场规模在10亿美元以上。img title="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片88.png" alt="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片88.png" src="https://ue-upload.1633.com/2020/0427/1553097089818.png"/ /ppimg title="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片89.png" alt="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片89.png" src="https://ue-upload.1633.com/2020/0427/1553191149218.png"//p
纳米压印模板、系统及压印方法
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
提供了一种纳米压印模板、系统和压印方法。 纳米压印模板(10)包括 : 对紫外光透明的第一基板(100); 形成在第一基板(100)的第一表面上的压印图案结构(105); 在第一基板(100)的与第一表面相对的第二表面上形成的加热元件(110),其中加热元件(110)对紫外光是透明的; 以及第一电极对(115),形成在第二表面上,用于向加热元件(110)提供由外部电源施加的电流,以使加热部分(110)发热。 本发明将紫外光固化纳米压印技术与热塑性纳米压印技术无缝集成,具有设备体积小、成本低、工艺简单等优点。 当使用模板和系统进行热塑性纳米压印时,可以复制大面积的微纳米图案。 另外,利用模板和系统进行紫外光固化纳米压印时,达到了提高工艺通量和减少图案复制缺陷的目的。
大面积亚波长光学纳米结构的低成本快速微缩调整制备
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本项目的目标是以纳米压印光刻为基础,结合多种微纳加工工艺,提出一种新的工艺方法,达到避免使用直写工艺,针对性的解决对大面积光学纳米结构进行微缩调整时的成本难题,可对大面积亚波长光学纳米结构(例如AR增强现实衍射光栅)进行快速、低成本微缩调整和复形制备的目的。 本项目初期拟首先利用FDTD和RCWA方法对亚波长光学结构的方向特性和能量效率进行初步模拟仿真。同时,在初期搭建在大气环境下可大面积压印的紫外光软模纳米压印系统,并开发复合材料多层软模板,利用软模材料自身的重力,采取由中心点到边缘方案,实现大面积全尺寸无气泡的压印。项目中后期将基于以上的工艺开发,重点测试所设计的创新方法,对光学亚波长纳米结构(例如一维和二维衍射光栅)进行尺寸可调性研究, 并最终对已实现的参数进行优化和适配,将该尺寸微缩可调的工艺方法扩展至完整晶圆级大面积。 本项目的科技转化创新点在于,在不引入额外的复杂直写工艺的情况下,对已有的大面积纳米图形进行微调缩小和快速、低成本制备。可针对性的解决学术科研中的现实问题, 即在对大面积纳米结构做调整而引入直写工艺时所造成的巨大成本负担,从而将科研中的技术能力充分转化为工业产品。 首先将软模板固定于一机械圆环,待压印的基底固定于可抽气底座,二者以中心点对 准。利用自重,软模板的中心下垂,且整片软模板成弧形(a);基底底座以高速率上升, 基底的中心将首先与下垂的软模板中心接触(b);基底底座换以低速率上升,软模板与 基底的接触由中心点逐步向周边扩散(c);基底底座持续低速率上升,直至软模板与基 底实现完全接触,即完成压印过程(d);紫外光曝光;f)基底底座下降,完成软模板与 基底分离(e)。该压印方式,系统处于大气环境下,无需真空系统,可使用大尺寸的多 层复合软模板作为工作模板,支持大尺寸的基底(晶圆),实现全尺寸压印。压印以及基 底与软模板分离的过程可实现全自动化,从而获得最大程度的稳定性。 该项目拟引入中间模板的概念和步骤。该中间模板通过利用原母模板进行纳米压印可 简单快速实现。通过含有倾斜角度结构的中间模板进行分步压印,可将结构尺寸进行缩小 微调至目标模板的刻蚀掩模中,从而最终通过刻蚀实现结构的转移。 以分支1路为例,通过电子束光刻制备点阵结构的母模板,并沉积以FDTS单分子自 主装抗粘层(A);以母模板制备双层复合软模板(B);利用该软模板进行纳米压印(C); 通过优化低温刻蚀工艺制备锥形结构,作为中间模板(D);以锥形中间模板制备软模板 (E);利用锥形软模板进行纳米压印,将结构转移至光刻胶中(F);利用光刻胶的倾斜 角度,通过给予不同时间的刻蚀,可在刻蚀掩模中获得不同的结构尺寸(G-1/G-2/G-3); 最终利用该已调缩小尺寸的刻蚀掩模,最终通过可是获得目标微纳光学结构 (H-1/H-2/H-3),其尺寸获得了精确缩小调节 其他分支也可以同理进行实现。步骤三维结构俯视图剖面图步骤三维结构俯视图剖面图AG-10 •■ ■B□H-1i^^nnCo**G-20 0O 0DoH-2E■G-3♦BF■H-3♦i^^nn
纳米压印设备及工艺
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本项目“微纳米压印设备及其后续产品的研发及产业化”目标产品由两部分组成,一是应用于科研领域的各种微纳米压印设备、耗材及其相关技术服务,客户为国内外相关院校及科研机构;二是应用于民用及工业生产领域的纳米压印技术及产品,如:显示器减反增透膜,太阳能光伏板减反增透层加工,LED核心发光器件的生产及增加亮度的应用中,客户为显示产品生产厂商,太阳能光伏板生产商,LED发光器件生产制造商,新型光电子器件制造商,光学设备生产商。初步估计可应用本技术的产品及技术年市场规模为200亿至300亿人民币。 目前在中国纳米技术相关科研领域市场销售的纳米压印设备主要由国外公司垄断,其价格昂贵,技术支持缓慢等缺点严重限制了中国纳米压印技术的进展。本项目所研制制作的纳米压印设备,能够打破国外公司在此领域的垄断,在同样的设备性能的前提下,价格仅为国外公司产品的一半。由此将大力推动纳米压印技术在中国各研发领域的进展,推动国内在相关纳米技术领域拥有更多的自主知识产权。本项目所研发制作紫外压印及热压印一体压印设备的创新点有:采用双腔体气动压力原理,精密控制温度及压力,内部集成LED紫外光源系统,可实现热压印与紫外线压印的快速转换;能够实现对6英寸模板的一次全面积均匀压印;一个压印周期不超过5分钟;可实现对高硬度材料的压印,最高压印力度可达2.6kg/cm2;设备操作简单,易于维护; 与国外同类产品相比,价格低廉,具有极高的性价比。 能够快速、廉价、大面积、高质量进行纳米压印工艺的纳米压印设备及应用此设备进行压印产品的生产将对相关领域产品产生变革性影响。本项目所研发的应用于大规模压印产品生产的滚轮式紫外线软压印技术的关键创新点有:滚动连续压印,幅宽50至300mm,最小结构可至20nm,压印速度为30至300mm每分钟。应用本项目研发制造的压印设备进行操作,能制作出高质量、有实际应用的压印产品并能够代替现有的生产工艺且实现产业化。此工艺在太阳能光伏板减反增透层的制作中的推广,将代替已有的具有高污染的酸洗的工艺过程,在实现提高光伏板光电转换效率的同时能够减少环境污染,从而从根本上降低生产成本。此工艺在LED核心发光器件增透增亮工艺中的应用,能够起到提高LED器件亮度及质量,延长使用寿命的作用。本项目技术的推广产生数百亿元的产业效益。
一种纳米压印复合模板的制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
本发明属于纳米压印技术领域,具体公开了一种纳米压印复合模板的制备方法。首先使用拉伸设备将聚二甲基硅氧烷薄片拉伸;其次在单晶硅片上旋涂紫外光固化胶,将拉伸的聚二甲基硅氧烷薄片覆盖甩过胶的硅片表面并充分吸收紫外光固化胶;利用紫外光固化胶的固化在聚二甲基硅氧烷表面形成一层硬质层,收缩拉伸的聚二甲基硅氧烷来形成图案;最后利用反应粒子束刻蚀,在复合图案上形成键合,并表面防粘处理,得到一种制备价格低廉、微纳尺寸可调的用于纳米压印的复合模板。
纳米压印模板抗粘材料
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
技术投资分析:在纳米压印技术中,不论是热压印工艺还是紫外压印工艺,为了改善模板与压印胶间的作用力,均需要使用抗粘材料对模板进行表面处理。本项目主要设计合出纳米压印模板抗粘材料,并对其自组装行为和应用性能进行研究。技术的应用领域前景分析:在纳米科技中展现纳米尺度效应的关键是实现纳米尺度的结构与器件,而在目前具有纳米加工能力的各种技术中,纳米压印技术因低成本、高产量和高分辨率等特点成为其中一项最有应用前景的技术。效益分析:本技术市场应用范围广,成本低,效益十分可观。厂房条件建议:无备注:无
微纳米压印光刻工艺及装备
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:信息传输、软件和信息技术服务业
技术简介
项目介绍:微纳米结构成形是光电子制造中的核心工艺之一。压印光刻克服了传统光学光刻中光学衍射效应的限制,是一种经济、高效、高分辨的结构成形方法。正在探索的压印工艺方法包括:UV-NIL、模板电诱导自组装纳米成形、电润湿驱动纳米压印等。 正在探讨压印光刻的应用领域包括:集成电路(IC)、微机电系统(MEMS)、生物微流控、光波导、光或磁存储、有机光电子、平板显示等器件的制造。
一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明公开了一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法,所述方法中,采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板。本发明提供的基于纳米压印制备光学超构表面的方法,能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法,大幅度降低成本,并且缩短生产时间。本发明提供的方法在生产成本和生产时间上显著提高,实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本,大规模制作,具有良好的产业化前景。
一种制备光学超构表面的方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种制备光学超构表面的方法,基于纳米压印进行,采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板(3,10,11),能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法,大幅度降低成本,并且缩短生产时间,实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本、大规模制作,具有良好的产业化前景。
一种纳米压印光刻胶及其制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种纳米压印光刻胶及其制备方法;其中,纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分:有机小分子溶剂65~97%,树脂1~30%,氟化石墨及其衍生物0.01~5%,表面活性剂0.01~5%和添加剂0~1%。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物,因氟化石墨及其衍生物具有低表面能,从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷,模板损坏等问题。
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找技术 >高端纳米压印制备图形化蓝宝石衬底的研发
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
p 原理及技术特点 高亮度、高效率蓝光LED是LED照明光源未来的市场趋势。基于图形化蓝宝石衬底生长氮化镓外延技术是制备高效率蓝光LED的必由之路。目前蓝宝石衬底已全部由平片向图形化衬底(PSS)转变。市场上PSS技术是基于微米级别的表面结构,实现20-30%的出光效率提升。为更进一步提升出光效率,纳米级别的表面结构是下一代PSS技术的发展方向。基于200-300纳米的表面微纳结构(光子晶体)可实现70%的出光效率,提高器件亮度80%-120%,产业化LED光效达到2001m/W。同时,衬底上外延生长可缓解应力85%,大幅度减少缺陷,改善droop效应,衰减减缓约30%。图一:图形化蓝宝石衬底在蓝光LED器件中的应用尽管纳米PSS技术优势明显,但其技术门槛较高,主要体现在两个方面(1)光子晶体的设计较为复杂,特别是高出光效率的光子晶体结构设计需要用到近场光学模拟(2)亚微米的加工制造无法使用传统的黄光工艺,加工技术难度大,成本高。项目组成员过去十多年一直从事大面积表面微纳结构的加工研究,具备从设备开发、胶体材料制备、工艺优化的完整经验。采用卷对卷加工方式,可实现每小时图形化720片4时吋蓝宝石衬底。通过使用中间层软模板,大大减少图形化缺陷的产生。同时,项目组成员研究纳米光学结构有多年历史,熟悉光子晶体的工作原理和设计方法,能设计高效的基于光子晶体的纳米结构,实现高性能的蓝光LED器件。应用市场用于蓝色LED芯片生产,LED照明产业的最上游技术之一,主要客户为国内外氮化稼外延片生产厂家,市场规模在10亿美元以上。img title="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片88.png" alt="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片88.png" src="https://ue-upload.1633.com/2020/0427/1553097089818.png"/ /ppimg title="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片89.png" alt="e:\k8008\qiuchengcai\桌面\成果图片\南科大成果图片\纳米\图片89.png" src="https://ue-upload.1633.com/2020/0427/1553191149218.png"//p
纳米压印模板、系统及压印方法
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
提供了一种纳米压印模板、系统和压印方法。 纳米压印模板(10)包括 : 对紫外光透明的第一基板(100); 形成在第一基板(100)的第一表面上的压印图案结构(105); 在第一基板(100)的与第一表面相对的第二表面上形成的加热元件(110),其中加热元件(110)对紫外光是透明的; 以及第一电极对(115),形成在第二表面上,用于向加热元件(110)提供由外部电源施加的电流,以使加热部分(110)发热。 本发明将紫外光固化纳米压印技术与热塑性纳米压印技术无缝集成,具有设备体积小、成本低、工艺简单等优点。 当使用模板和系统进行热塑性纳米压印时,可以复制大面积的微纳米图案。 另外,利用模板和系统进行紫外光固化纳米压印时,达到了提高工艺通量和减少图案复制缺陷的目的。
大面积亚波长光学纳米结构的低成本快速微缩调整制备
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本项目的目标是以纳米压印光刻为基础,结合多种微纳加工工艺,提出一种新的工艺方法,达到避免使用直写工艺,针对性的解决对大面积光学纳米结构进行微缩调整时的成本难题,可对大面积亚波长光学纳米结构(例如AR增强现实衍射光栅)进行快速、低成本微缩调整和复形制备的目的。 本项目初期拟首先利用FDTD和RCWA方法对亚波长光学结构的方向特性和能量效率进行初步模拟仿真。同时,在初期搭建在大气环境下可大面积压印的紫外光软模纳米压印系统,并开发复合材料多层软模板,利用软模材料自身的重力,采取由中心点到边缘方案,实现大面积全尺寸无气泡的压印。项目中后期将基于以上的工艺开发,重点测试所设计的创新方法,对光学亚波长纳米结构(例如一维和二维衍射光栅)进行尺寸可调性研究, 并最终对已实现的参数进行优化和适配,将该尺寸微缩可调的工艺方法扩展至完整晶圆级大面积。 本项目的科技转化创新点在于,在不引入额外的复杂直写工艺的情况下,对已有的大面积纳米图形进行微调缩小和快速、低成本制备。可针对性的解决学术科研中的现实问题, 即在对大面积纳米结构做调整而引入直写工艺时所造成的巨大成本负担,从而将科研中的技术能力充分转化为工业产品。 首先将软模板固定于一机械圆环,待压印的基底固定于可抽气底座,二者以中心点对 准。利用自重,软模板的中心下垂,且整片软模板成弧形(a);基底底座以高速率上升, 基底的中心将首先与下垂的软模板中心接触(b);基底底座换以低速率上升,软模板与 基底的接触由中心点逐步向周边扩散(c);基底底座持续低速率上升,直至软模板与基 底实现完全接触,即完成压印过程(d);紫外光曝光;f)基底底座下降,完成软模板与 基底分离(e)。该压印方式,系统处于大气环境下,无需真空系统,可使用大尺寸的多 层复合软模板作为工作模板,支持大尺寸的基底(晶圆),实现全尺寸压印。压印以及基 底与软模板分离的过程可实现全自动化,从而获得最大程度的稳定性。 该项目拟引入中间模板的概念和步骤。该中间模板通过利用原母模板进行纳米压印可 简单快速实现。通过含有倾斜角度结构的中间模板进行分步压印,可将结构尺寸进行缩小 微调至目标模板的刻蚀掩模中,从而最终通过刻蚀实现结构的转移。 以分支1路为例,通过电子束光刻制备点阵结构的母模板,并沉积以FDTS单分子自 主装抗粘层(A);以母模板制备双层复合软模板(B);利用该软模板进行纳米压印(C); 通过优化低温刻蚀工艺制备锥形结构,作为中间模板(D);以锥形中间模板制备软模板 (E);利用锥形软模板进行纳米压印,将结构转移至光刻胶中(F);利用光刻胶的倾斜 角度,通过给予不同时间的刻蚀,可在刻蚀掩模中获得不同的结构尺寸(G-1/G-2/G-3); 最终利用该已调缩小尺寸的刻蚀掩模,最终通过可是获得目标微纳光学结构 (H-1/H-2/H-3),其尺寸获得了精确缩小调节 其他分支也可以同理进行实现。步骤三维结构俯视图剖面图步骤三维结构俯视图剖面图AG-10 •■ ■B□H-1i^^nnCo**G-20 0O 0DoH-2E■G-3♦BF■H-3♦i^^nn
纳米压印设备及工艺
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本项目“微纳米压印设备及其后续产品的研发及产业化”目标产品由两部分组成,一是应用于科研领域的各种微纳米压印设备、耗材及其相关技术服务,客户为国内外相关院校及科研机构;二是应用于民用及工业生产领域的纳米压印技术及产品,如:显示器减反增透膜,太阳能光伏板减反增透层加工,LED核心发光器件的生产及增加亮度的应用中,客户为显示产品生产厂商,太阳能光伏板生产商,LED发光器件生产制造商,新型光电子器件制造商,光学设备生产商。初步估计可应用本技术的产品及技术年市场规模为200亿至300亿人民币。 目前在中国纳米技术相关科研领域市场销售的纳米压印设备主要由国外公司垄断,其价格昂贵,技术支持缓慢等缺点严重限制了中国纳米压印技术的进展。本项目所研制制作的纳米压印设备,能够打破国外公司在此领域的垄断,在同样的设备性能的前提下,价格仅为国外公司产品的一半。由此将大力推动纳米压印技术在中国各研发领域的进展,推动国内在相关纳米技术领域拥有更多的自主知识产权。本项目所研发制作紫外压印及热压印一体压印设备的创新点有:采用双腔体气动压力原理,精密控制温度及压力,内部集成LED紫外光源系统,可实现热压印与紫外线压印的快速转换;能够实现对6英寸模板的一次全面积均匀压印;一个压印周期不超过5分钟;可实现对高硬度材料的压印,最高压印力度可达2.6kg/cm2;设备操作简单,易于维护; 与国外同类产品相比,价格低廉,具有极高的性价比。 能够快速、廉价、大面积、高质量进行纳米压印工艺的纳米压印设备及应用此设备进行压印产品的生产将对相关领域产品产生变革性影响。本项目所研发的应用于大规模压印产品生产的滚轮式紫外线软压印技术的关键创新点有:滚动连续压印,幅宽50至300mm,最小结构可至20nm,压印速度为30至300mm每分钟。应用本项目研发制造的压印设备进行操作,能制作出高质量、有实际应用的压印产品并能够代替现有的生产工艺且实现产业化。此工艺在太阳能光伏板减反增透层的制作中的推广,将代替已有的具有高污染的酸洗的工艺过程,在实现提高光伏板光电转换效率的同时能够减少环境污染,从而从根本上降低生产成本。此工艺在LED核心发光器件增透增亮工艺中的应用,能够起到提高LED器件亮度及质量,延长使用寿命的作用。本项目技术的推广产生数百亿元的产业效益。
一种纳米压印复合模板的制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:发明
应用行业:制造业
技术简介
本发明属于纳米压印技术领域,具体公开了一种纳米压印复合模板的制备方法。首先使用拉伸设备将聚二甲基硅氧烷薄片拉伸;其次在单晶硅片上旋涂紫外光固化胶,将拉伸的聚二甲基硅氧烷薄片覆盖甩过胶的硅片表面并充分吸收紫外光固化胶;利用紫外光固化胶的固化在聚二甲基硅氧烷表面形成一层硬质层,收缩拉伸的聚二甲基硅氧烷来形成图案;最后利用反应粒子束刻蚀,在复合图案上形成键合,并表面防粘处理,得到一种制备价格低廉、微纳尺寸可调的用于纳米压印的复合模板。
纳米压印模板抗粘材料
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
技术投资分析:在纳米压印技术中,不论是热压印工艺还是紫外压印工艺,为了改善模板与压印胶间的作用力,均需要使用抗粘材料对模板进行表面处理。本项目主要设计合出纳米压印模板抗粘材料,并对其自组装行为和应用性能进行研究。技术的应用领域前景分析:在纳米科技中展现纳米尺度效应的关键是实现纳米尺度的结构与器件,而在目前具有纳米加工能力的各种技术中,纳米压印技术因低成本、高产量和高分辨率等特点成为其中一项最有应用前景的技术。效益分析:本技术市场应用范围广,成本低,效益十分可观。厂房条件建议:无备注:无
微纳米压印光刻工艺及装备
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:信息传输、软件和信息技术服务业
技术简介
项目介绍:微纳米结构成形是光电子制造中的核心工艺之一。压印光刻克服了传统光学光刻中光学衍射效应的限制,是一种经济、高效、高分辨的结构成形方法。正在探索的压印工艺方法包括:UV-NIL、模板电诱导自组装纳米成形、电润湿驱动纳米压印等。 正在探讨压印光刻的应用领域包括:集成电路(IC)、微机电系统(MEMS)、生物微流控、光波导、光或磁存储、有机光电子、平板显示等器件的制造。
一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法
成熟度:通过小试
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
本发明公开了一种基于纳米压印制备光学超构表面的方法,所述方法中,采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板。本发明提供的基于纳米压印制备光学超构表面的方法,能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法,大幅度降低成本,并且缩短生产时间。本发明提供的方法在生产成本和生产时间上显著提高,实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本,大规模制作,具有良好的产业化前景。
一种制备光学超构表面的方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种制备光学超构表面的方法,基于纳米压印进行,采用的模板为具有超构功能基元图案的压印模板(3,10,11),能够替代制作超构功能基元时用到的电子束光刻方法,大幅度降低成本,并且缩短生产时间,实现了超构表面光学器件在短时间内的低成本、大规模制作,具有良好的产业化前景。
一种纳米压印光刻胶及其制备方法
成熟度:正在研发
技术类型:-
应用行业:制造业
技术简介
一种纳米压印光刻胶及其制备方法;其中,纳米压印光刻胶含有如下重量百分比的组分:有机小分子溶剂65~97%,树脂1~30%,氟化石墨及其衍生物0.01~5%,表面活性剂0.01~5%和添加剂0~1%。所述的纳米压印光刻胶中添加了氟化石墨及其衍生物,因氟化石墨及其衍生物具有低表面能,从而解决了传统高表面能光刻胶与模板之间粘结力过大而导致的脱模中发生的图形缺陷,模板损坏等问题。