本实用新型涉及机械加工技术领域，提供了一种单晶碳化硅材料的加工设备，包括磨削装置和射流装置，射流装置用于对单晶碳化硅工件喷射电解液，磨削装置用于对喷射电解液后的单晶碳化硅材料进行磨削加工，使在工件表面...

本项目采用化学机械超精密抛光方法，通过磨料微粒与工件加工面接触部分的化学反应以及抛光液的腐蚀作用在加工表面形成化学反应薄层，利用微粒的机械摩擦作用去除反应层，高效率获得钽酸锂单晶片超光滑抛光表面。本项...

技术投资分析：成果简介本项目采用化学机械超精密抛光方法，通过磨料微粒与工件加工面接触部分的化学反应以及抛光液的腐蚀作用在加工表面形成化学反应薄层，利用微粒的机械摩擦作用去除反应层，高效率获得钽酸锂单晶...

本发明涉及一种单晶材料，所述单晶材料为铜掺杂硫化钽单晶，所述单晶材料为2H相。本发明单晶材料的制备方法，包括如下步骤：（1）将TaS2多晶、Cu粉和卤盐混合，得到前驱体；（2）将所述前驱体放入单晶炉中...

本项目共包括10项授权专利，其中高品质微波单晶薄膜的制备工艺获得3项专利技术，同时将这种单晶薄膜应用在微波器件/结构、太赫兹结构/器件和自旋逻辑器件中等，共获得7项专利技术。本项目突破了我国在3英寸石...

本项目共包括8项授权专利，另有20余项专利正处于公开阶段。项目主要创新点为：（1）提出了一种Bi+Lu共掺杂新配方，实现了在传统GGG衬底上外延出具有大法拉第效应的BiLuIG石榴石单晶薄膜材料。（2...

本实用新型涉及单晶材料抛光技术领域，公开了一种基于电感耦合等离子体的单晶材料抛光装置。本实用新型的基于电感耦合等离子体的单晶材料抛光装置包括矩管，矩管包括第一发生管、设于第一发生管外的第二发生管以及设...

技术投资分析：本发明涉及一种基于宏观尺度ZnO单晶材料的气体传感器，属于传感器制造的技术领域。包括：基底、金属电极层、传感导电体和外接电路，其中传感导电体为宏观尺度ZnO单晶材料，通过热蒸发法大规模生...

本发明涉及机械加工技术领域，提供了一种刀具、单晶碳化硅材料的加工方法及加工设备，本发明的刀具，至少刀头由单晶碳化硅材料制成，具有优良的机械强度、热稳定性和化学稳定性，适用于超精密加工。本发明采用电解液...

摘要：本发明公开一种锂离子电池用大单晶层状正极材料的制备方法，通过基于前驱体分步加锂的新方法制备微米级大单晶层状正极材料首先将Ni‑Co‑Mn前驱体与化学计量比的锂源混合，其中锂元素与过渡金属元素的摩...