硅片清洗剂

硅片清洗剂科研进展

应  用   行  业: 电子元件及电子专用材料制造

高新技术领域: 电子化学品制备及应用技术

关     键     词: 硅片清洗,清洗剂,溶解氧,运输过程,沾污

浏     览     量: 615

当前位置: 首页 > 技术专题 > 技术专题行业列表
  • 专题介绍
  • 技术成果
  • 专利技术
  • 相关高校院所
  • 相关资讯
硅片清洗剂专题介绍
硅片清洗剂广泛应用于光伏,电子等行业硅片清洗;由于硅片在运输过程中会有所污染,表面洁净度不是很高,对即将进行的腐蚀与刻蚀产生很大的影响,所以首先要对硅片表面进行一系列的清洗操作。清洗的一般思路首先是去除表面的有机沾污,然后溶解氧化膜,因为氧化层是"沾污陷进",会引起外延缺陷;再去除颗粒、金属等,同时使硅片的表面钝化。目前多采用传统的RCA清洗方法,不仅可以去除硅片表面的金属、有机物等,还可以去除小颗粒等污染物。
硅片清洗剂技术成果
>
    硅片清洗剂专利技术
    >
      硅片清洗剂相关高校院所
      >
      硅片清洗剂相关资讯
      >