灰度掩模

灰度掩模技术专家推荐

应  用   行  业: 光学仪器制造

高新技术领域: 其他

关     键     词: 不同位置,透过率,掩模,光刻,衍射光学元件

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灰度掩模专题介绍
灰度掩模是一种光掩模,与二元掩模不同之处在于:灰度掩模在掩模平面不同位置可以提供变化的透过率,单一灰度掩模可以含有一组二元掩模的位相信息,在经过一次光刻过程和刻蚀过程后得到所需要的衍射光学元件。
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