抛光装置及相关工艺推荐

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涡轮叶片抛光:无视曲率变化的流体抛光技术

斯曼克流体抛光技术可以无视曲率的复杂变化!它是一种通过挤压半流体磨料,流经叶片曲面进行精细研磨,从而达到抛光效果的抛光工艺。半流体磨料在压力的作用下,可以充分贴合曲面表面,天然地拥有“仿形能力”。无论叶片曲率怎样变化,都能带来一致性的抛光效果……

涡轮叶片抛光:无视曲率变化的流体抛光技术
化学机械抛光CMP
化学机械抛光CMP

化学机械抛光是集成电路制造过程中实现晶圆表面平坦化的关键技术。与传统的纯机械或纯化学的抛光方法不同,CMP 工艺是通过表面化学作用和机械研磨的技术结合来实现晶元表面微米/纳米级不同材料的去除,从而达到晶圆表面的高度(纳米级)平坦化效应,使下一步的光刻工艺得以进行……

抛光装置及工艺技术推荐

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  • 行星抛光技术及其装置

    专利号:暂无

    项目简介:<strong>成果水平</strong>:国内领先<br/><br/> <strong> 成果简介:</strong>天津工业大学研制的行星抛光装置,1995年已获得国家专利,属国际领先水平。本专利技术属于超精加工领域。它不但能快速去除零件的毛刺、倒角、还能迅速改变零件的表面质量;加工出的零件外观和手感质量已达到或超过国外同类产品的水平;零件表面的粗糙度可达到Ra0.1~Ra0.025μm,面光亮如镜,清晰见人影,对零件的尺寸精度、形状精度和位置精度等原有的精度保持不变或略有提高,并提高了抗疲劳强度;加工效率比传统的倾斜滚筒抛光和振动抛光高几倍、几十倍、乃至上百倍;有重大经济效益。如自行车钢球的抛光,不仅提高了质量,并提高效率5~8倍;经抛光的缝纫机零件已赶上或超过具有国际水平的日本同类产品,产品售价提高了4倍以上,有显著的经济效益和社会效益。<br/><br/>  行星式滚筒抛光是回转滚筒去毛刺、倒圆和粗整加工的进一步发展和应用。它是金属加工业采用的超精加工方法之一。与一般回转滚筒抛...

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  • 一种化学抛光液及合金表面抛光处理方法

    专利号:CN201410007435.9

    项目简介:摘要:本发明公开了一种化学抛光液及合金表面处理方法,每升抛光液中各组分含量为:过硫酸盐30~100g,浓硫酸300~500ml,粘度调整剂10~40g,光亮剂2~14g,余量为水。将合金工件依次进行除油、清洗、酸洗活化、清洗;将上述经前处理后合金工件置于所述的化学抛光液中浸渍;抛光完成后,将合金工件依次清洗、钝化、清洗、烘干即可。本发明采用过硫酸钠作为氧化剂,抛光过程中不产生“黄烟”,绿色环保。且该抛光液成分简单,容易管控。所得化学抛光表面光亮、平整,可达镜面抛光效果。本发明的抛光液可以广泛的应用于铜合金表面的抛光。

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  • 一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺

    专利号:CN201610184472.6

    项目简介:摘要:本发明属于金属表面处理技术领域,公开了一种用于金属的化学抛光液和抛光工艺。所述抛光液包含60g/L~90g/L硝酸盐、60g/L~90g/L盐酸、120ml/L~180ml/L中强酸、20g/L~50g/L粘度调节剂、1g/L~10g/L缓蚀剂、2g/L~6g/L光亮剂和水。所述抛光工艺为:将金属工件进行脱脂活化前处理,然后置于抛光液中,在温度为60~100℃浸泡2.5~4min进行抛光,抛光完成后,将金属工件进行中和后处理,即可得到平整光滑的金属表面。本发明的化学抛光液安全环保,抛光效率高,成本低,适于工业化应用。

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  • 一种遍历连续抛光表面的随机路径生成方法

    专利号:CN201410171447.5

    项目简介:摘要:本发明公开了一种遍历连续抛光表面的随机路径生成方法,首先对加工表面的面形进行建模,并将影响路径密度的路径间距输入到控制界面中,加工表面可以是连续的平面、球面、非球面、离轴非球面和自由曲面,并且该表面中可以包含一个或多个子孔径。根据输入的信息,对加工表面进行网格划分并将节点看成矩阵中的元素,从而可以采用矩阵运算的方法对加工表面进行数值化分析处理。生成路径具有遍历所有表面、无交叉发生的特点,该特点在后期路径与驻留函数的合成中具有很大的优势。本发明的优点在于能够很容易的生成与加工表面相适应的随机路径,从而可以有效去除加工残留的重复性信息。

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  • 无溶剂/高固含量环境友好型自抛光防污涂料用基体树脂

    专利号:暂无

    项目简介:海洋生物污染给海洋船舶运输带来诸多危害,现有海洋船舶防污涂料功能单一,而且自抛光涂料严重污染海洋生态环境、危及人类健康。研制环境友好型低表面能自抛光双重防污功能涂料用树脂关系到国家利益也牵涉到民生,具有重要意义。本项目以杂化聚合为方法支撑,制备了环境友好型自抛光防污涂料用树脂。主要解决的关键技术与创新点有: (1)“自抛光”和“防污”的实现 如何将自抛光和防污性能结合,是海洋防污涂料用树脂研究的热点。本项目中的自抛光主要是基于聚酯的可降解性实现的,而防污效果主要是基于乙烯基单体的性能。通过不同单体的杂化共聚,完美实现了涂料用树脂“自抛光”和“防污”的性能。该方法具有来源广泛,可塑性强、便于工业化生产等优点。 (2)低VOC海洋防污涂料用树脂的制备 2017年2月8日,江苏省委、省政府在召开的“两减六治三提升”专项行动中明确提出2017年底前船舶制造等行业全面实现低挥发性有机物(VOC)含量涂料的应用,到2020年全省VOC排放总量要削减20%。发展低能耗、低污染的健康环保涂料势在必行。超支化聚合物具有低黏度、高溶解性、多端基可修饰等诸多优点,这些性能使其当之无愧的成为高固...

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  • 工业机器人雕刻、切割、铣削、磨削、抛光一体化装备

    专利号:暂无

    项目简介:一、项目简介 与专门石材加工装备相比,工业机器人雕刻、切割、铣削、磨削、抛光一体化装备具 有如下的优点:①高度集成化,一机多功能。可以完成专门石材加工装备不能完成的宽大规 格板、异型板、高附加值的石雕工艺产品的加工;②独特的 CAD/CAM 一体化系统,可以 利用软件设计的三维模型,直接进行工业机器人轨迹编程;③采用具有自主知识产权的校正 技术,建立软件环境和实际工业机器人加工系统的精确映射关系,保证设计模型与加工产品 的几何一致性;④独特的工业机器人轨迹生成方法,使粗精加工的轨迹点在几个小时内自动 生成;⑤特别适合各种石材雕塑、艺术品、工艺品,各种玉器的加工。 工业机器人雕刻、切割、铣削、磨削、抛光一体化装备只有少数几个西方国家能够制 造,国内还没有企业能够生产该装备。 二、技术成熟程度 我们从 2008 年开始研发工业机器人加工系统,首先研发工业机器人磨削系统,重点解 决了工业机器人加工中的力控制、误差校正、软件编程等技术。在此基础上,2012 年开始 研发工业机器人石材加工集成系统,现在该系统正在企业进行试加工石材产品。 三、应用范围 可用于宽大规格板、异型板、高附加值的石雕工...

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  • 一种基于温度可监控的磁悬浮抛光装置

    专利号:暂无

    项目简介:一、项目简介 一种基于温度可监控的磁悬浮抛光装置,涉及一种化学机械抛光设备。设有底座、防水 罩、抛光盘、电热丝、导电环、温控器、计算机、弹力电磁条圈、接收磁条圈、止浮轨、工 件夹具、温度传感器、无线接收模块和抛光液添加装置;防水罩绕设于底座上端周边;抛光 盘固于防水罩上端,底部设有涡状凹槽;电热丝嵌于涡状凹槽内,电热丝与温控器电连接, 温控器与计算机连接,弹力电磁条圈固于底座上表面,接收磁条圈固于抛光盘底面,弹力电 磁条圈与接收磁条圈的磁性相同,止浮轨固于底座上且压住弹力电磁条圈,传感器设于夹具 周边,传感器上设有无线传输模块,无线传输模块与设于计算机上的无线接收模块无线信号 连接,抛光液添加装置设于抛光盘侧边上方。二、技术成熟度 小试阶段(已完成实验室路线、方法验证)。三、应用范围 本发明涉及一种化学机械抛光设备,尤其是涉及一种基于温度可监控的磁悬浮抛光装置。四、投产条件和预期经济效益 主要设备及手段:底座、防水罩、抛光盘、电热丝、导电环、温控器、计算机、弹力电 磁条圈、接收磁条圈、止浮轨、工件夹具、温度传感器、无线接收模块、抛光液添加装置。 效益分析:属于中型实验研究与...

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  • 蓝宝石衬底抛光液及应用

    专利号:暂无

    项目简介:本项目是为了解决光电器件最好衬底材料之一蓝宝石衬底材料抛光液在抛光过程中存在的衬底片 表面去除速率低、粗糙度高、易划伤等问题,而研发一种化学作用强、去除速率快、表面粗糙度低、无 划伤、成本低,且不污染环境及腐蚀设备的蓝宝石衬底材料抛光液及制备方法。本项目采用具有自主知 识产权的多功能螯合剂作为PH调节剂,同时又可起到缓冲剂、磨料稳定剂、络合及螯合的作用,实现 反应剂一剂多用,降低成本。加工去除速率>5呻/h,表面粗糙度可降至0.1~0.3nmo 市场前景与效益分析: 随着光电技术的飞速发展,光电产品对蓝宝石衬底需求量日益增加,开发新型的抛光液及抛光技术, 提高光电器件用衬底加工质量,以推进冷光源的应用进程及节能减排的有效实施,并可用于国防、仪器 仪表、红外窗口等领域,因此,市场前景广泛,也为国家光电子工业发展起到很好的促进作用。随着国 家对节能减排任务的提出及对LED产业的大力支持,蓝宝石衬底片需求量越来越大,CMP超精密表面 加工抛光液的需求量也越来越大,因此该项目具有很大的经济和社会效益潜力,价格仅为进口产品的 1/3,效益显著。

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  • 硅单晶碱性抛光液及清洗液

    专利号:暂无

    项目简介:硅单晶碱性抛光液及清洗液项目,始自七十年代中期,不断对产品研发与升级。FA/O硅单晶碱性 抛光液,具有较高的抛光速率,能有效去除衬底表面损伤层,表面微粗糙度较低,可解决衬底片结底不 平引起的噪声增加、漏电流增大,实现了表面高完美性,提高了衬底片器件区的可靠性与衬底片良品率。 FA/O硅单晶清洗液,采取特有的物理优先吸附,有效去除抛光片表面颗粒物、有机物沾污,清洗后衬 底片表面重金属离子降至ppm级,并且清洗容易、洁净度高。 市场前景与效益分析: 据统计,仅中国(含台湾地区)硅单晶抛光液的年需求额40多亿元。FA/O硅单晶碱性抛光液, 广泛用于硅分立器件、功率器件与集成电路衬底片加工。已多年供应国内华润华晶、洛阳鼎晶、深圳深 爱等多家知名企业,被指定唯一用于国家航天神五至神十专用集成电路高可靠衬底抛光片加工,具有广 泛的市场应用前景。FA/O硅单晶清洗液,广泛用于要求易清洗、高洁净的硅衬底片清洗。已被中科晶 电信息材料有限公司等多家知名企业应用,市场应用前景广泛。 其它说明: 研发的抛光液获国家1983年发明四等奖、1990年发明三等奖、清洗技术获1999年国家三等奖。抛光 液、抛光清洗...

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主流研磨抛光技术有哪些?

1、第一种是物理研磨

这种研磨颗粒呈不规则菱形状,粗中细级别都有,去氧化和划痕效果相当不错,是市面主流研磨抛光技术;而带棱角的粗研磨剂往往造成二次细微划痕,需要更细一级的研磨剂二次以上研磨,程序复杂,同时不可避免的伤及漆面。经常使用这种研磨产品和技术,让漆面像吸毒般的依赖抛光打蜡,清漆层已越抛越薄,原车漆光亮度黯然失色。

2、第二种是物理 覆盖研磨

刚抛完的粗中划痕消失,有光亮效果,但在太阳光下有明显细微划痕和旋光,原因:部份划痕被蜡或树脂油性成份填补,而非真正去除;油性过大,抛光毛球行走纹路产生旋光。这种抛光方式极易在洗二三次车后划痕重现,具有较强的欺骗性。不知就理的店主和技师将非常烦恼!

3、第三种是比较顶级和少见的研磨技术

延时破碎抛光技术,研磨剂呈玻珠圆状,不会造成二次研磨划痕,同时漆面的温度较低;当抛光毛球高速运转与研磨剂产生一定的温度时,使研磨颗粒瞬间破碎,形成更细颗粒,有效对细微深层抛光,一步到位,越抛越亮,这种抛光技术即保证了效果,也最大限度的杜绝了抛光对漆面的伤害(抛光必有伤害)!同时这类研磨剂不含蜡或树脂油性成份,抛出的光泽是漆面深邃的原漆光泽,冷光质感今人惊艳。