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超快激光无掩模超衍射纳米光刻技术与装备

超衍射纳米光刻 / 电子信息

其他电子信息
预算:面议 广东 中山 截止时间:9797-49-46 需求方:中***********
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需求描述

针对芯片研发与制造对光刻技术的需求,研究超快激光超衍射纳米光刻原理与关键核心技术,突破传统光学衍射极限限制,建立激光多模式跨尺度微纳结构光刻新方法,实现高精度、跨尺度、大面积、低成本、高效率微纳结构光刻;研制激光超衍射纳米光刻装备中光学 系统、光刻物镜等关键部件与分系统,发展二维光栅纳米精度光刻定位技术,研发精密定位工作台自动控制技术,进行光刻装备的技术集成与工程化研发,提高其稳定性、可靠性与一致性,研制具备大面积、高分辨力、高效率的跨尺度微纳结构无掩模光刻能力的光刻装备

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