无掩模纳米光刻芯片关键制程工艺与应用 围绕超快激光超衍射纳米光刻技术与装备的技术与工艺特点，开展芯片激光超衍射纳米光刻工艺研发，建立光刻工艺数据库；结合超快激光超衍射纳米光刻工艺，围绕 28 纳米以下芯片关键制程工艺，研发基于无掩模纳米光刻技术的特色芯片关键制程工艺，满足包括微 波光子芯片及智能终端 SoC 芯片在内的集成电路芯片行业对新型光刻技术的需求