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无掩模纳米光刻芯片关键制程工艺与应用

纳米光刻芯片 / 电子信息

其他电子信息
预算:面议 广东 中山 截止时间:1219-24-92 需求方:中***********
需求无效
需求描述

无掩模纳米光刻芯片关键制程工艺与应用 围绕超快激光超衍射纳米光刻技术与装备的技术与工艺特点,开展芯片激光超衍射纳米光刻工艺研发,建立光刻工艺数据库;结合超快激光超衍射纳米光刻工艺,围绕 28 纳米以下芯片关键制程工艺,研发基于无掩模纳米光刻技术的特色芯片关键制程工艺,满足包括微 波光子芯片及智能终端 SoC 芯片在内的集成电路芯片行业对新型光刻技术的需求

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